CN103200991B - 剂量监视装置的灵敏度修正方法及粒子射线治疗装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的粒子射线治疗装置包括：剂量监视装置(26)，该剂量监视装置(26)测定粒子射线的剂量；以及小型电离室(38)，该小型电离室(38)对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定，且比所述剂量监视装置(26)要小，所述粒子射线治疗装置将粒子射线进行扫描并将粒子射线照射到照射对象的照射位置，由所述剂量监视装置(26)来测定被照射出的粒子射线的剂量，由所述小型电离室(38)来对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定，并基于所述小型电离室(38)测定到的粒子射线的剂量，来求得与所述照射位置相对应的、由所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数。

Description

剂量监视装置的灵敏度修正方法及粒子射线治疗装置
技术领域
本发明涉及一种实施扫描式照射的粒子射线治疗装置，并涉及该装置的照射装置中所使用的粒子射线的剂量监视装置的灵敏度修正方法及粒子射线治疗装置。
背景技术
剂量监视装置作为所谓的电离室已广为人知。例如，专利文献1中揭示了一种粒子射线测定用监视装置，为了改善收集极的形变，利用蒸镀或镀敷来使金属密接在树脂板上，并使由此形成的收集极与高压极以夹着绝缘板的方式相对配置。
专利文献2中揭示了一种放射线剂量监视器，为了防止因挠曲导致电离电流发生变化，利用隔开了一定间隔的绝缘支承体来对高压极和收集极进行支承。
另外，在专利文献3中揭示了一种透射型剂量计，对透过剂量计的放射线剂量进行测定，并基于气压引起的剂量计容器的形变量来对测定到的剂量进行修正。
[现有技术文献]
[专利文献]
专利文献1：日本专利特开平1-98985号公报
专利文献2：日本专利特开平1-210890号公报
专利文献3：日本专利特开2010-54309号公报
发明内容
[发明所要解决的技术问题]
然而，在现有的剂量监视装置(剂量监视器)中，对于在收集极上产生不可避免的挠曲的情况，尚未寻求到解决对策。对于在剂量监视装置中、粒子射线的透射窗为小口径的情况，收集极的挠曲也较少，挠曲所造成的影响处于能够忽略的程度，但随着口径的变大，不能再忽略收集极的挠曲所造成的影响，从而产生了剂量测定精度下降的问题。
鉴于所述问题点，本发明的目的在于提供一种对剂量监视装置的灵敏度进行修正的方法及粒子射线治疗装置，在所述方法中，针对由电极的挠曲导致的剂量测定精度的下降，求得与照射对象的照射位置相对应的、由剂量监视装置所测定到的剂量的修正系数，从而对剂量监视装置的灵敏度进行修正。
[解决技术问题所采用的技术方案]
在本发明所涉及的剂量监视装置的灵敏度修正方法中，粒子射线治疗装置包括：剂量监视装置，该剂量监视装置测定粒子射线的剂量；以及小型电离室，该小型电离室对通过所述剂量监视装置的粒子射线的剂量进行测定，且比所述剂量监视装置要小，所述粒子射线治疗装置将粒子射线进行扫描并将粒子射线照射到照射对象的照射位置，在所述剂量监视装置的灵敏度修正方法中，由所述剂量监视装置来测定被照射出的粒子射线的剂量，由所述小型电离室对通过所述剂量监视装置的粒子射线的剂量进行测定，基于由所述小型电离室测定到的粒子射线的剂量，来求得与所述照射位置相对应的、由所述剂量监视装置所测定到的剂量的修正系数。
本发明所涉及的粒子射线治疗装置将粒子射线进行扫描，并将粒子射线照射到照射对象的照射位置，所述粒子射线治疗装置包括：剂量监视装置，该剂量监视装置测定所述粒子射线的剂量；小型电离室，该小型电离室对通过所述剂量监视装置的粒子射线的剂量进行测定，且比所述剂量监视装置要小；以及计算单元，该计算单元根据由所述剂量监视装置测定到的被照射出的粒子射线的剂量、所述照射位置、由所述小型电离室测定到的通过所述剂量监视装置的粒子射线的剂量，并基于由所述小型电离室测定到的粒子射线的剂量，来求得与所述照射位置相对应的、由所述剂量监视装置测定到的剂量的修正系数，所述粒子射线治疗装置基于所述修正系数来调整照射剂量。
[发明效果]
根据本发明所涉及的剂量监视装置的灵敏度修正方法及粒子射线治疗装置，针对由电极的挠曲所引起的剂量测定精度的下降，通过求得与照射对象的照射位置相对应的、由剂量监视装置测定到的剂量的修正系数，从而对剂量监视装置的灵敏度进行修正，因此，即使剂量监视装置在扫描式照射所需的比较大的照射野内，也能在照射对象的照射位置进行精度良好的剂量测定。
关于本发明的除上述以外的目的、特征、观点及效果，通过参照附图并如下述对本发明进行详细说明来作进一步的揭示。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式1所涉及的设有剂量监视装置的粒子射线治疗装置的简要整体结构图。
图2是表示实施方式1所涉及的设有剂量监视装置的粒子射线治疗装置的照射装置的结构图。
图3是表示实施方式1所涉及的剂量监视装置的结构图，并且是结合其动作进行说明的图。
图4是对剂量监视装置的电极的挠曲和粒子射线强度测定的恶化进行说明的图。
图5是对实施方式1的剂量监视装置的灵敏度修正方法进行说明的图。
图6是表示实施方式3的剂量监视装置的灵敏度修正方法的说明图。
图7是表示实施方式4的、使用了剂量监视装置的灵敏度修正方法的粒子射线治疗装置的框图。
图8是表示实施方式5的、使用了剂量监视装置的灵敏度修正方法的粒子射线治疗装置的框图。
具体实施方式
实施方式1.
图1是表示本发明的实施方式1所涉及的设有剂量监视装置的粒子射线治疗装置的简要整体结构图。图2是表示实施方式1所涉及的设有剂量监视装置的粒子射线治疗装置的照射装置的结构图。图1中，由入射器16产生的、经前级加速后的带电粒子束(粒子射线)被入射到加速器(同步加速器)14，并被加速至所需的射束能量，从射出偏向器17射出到射束输送装置15，到达照射装置18，由此被照射到照射对象的照射位置。射束输送装置15具有聚焦电磁铁13和转向电磁铁12。射束输送装置15的一部分和照射装置18装载于旋转机架19，能够通过使旋转机架19(图中用箭头表示)旋转来改变照射装置18的照射方向。
图2是照射装置18的放大结构图，带电粒子束经过射束输送装置15的转向电磁铁12从而被导入到照射装置18。利用由X方向扫描指令值(励磁量)控制的X方向扫描电磁铁20、和由Y方向扫描指令值(励磁量)控制的Y方向扫描电磁铁21来扫描带电粒子束，该带电粒子束经过使导管伸缩的导管伸缩单元(波纹管)22、真空导管23、24，从射出射束的射出窗25射出。图2中示出了在Y轴方向上扫描粒子射线35的方式。箭头XYZ表示XYZ轴方向。
在实现扫描式照射的粒子射线治疗装置中，与通常照射、层叠照射不同，为了对照射在XY平面上的束点进行剂量控制，在射束射出窗25的下游配置了粒子射线的剂量监视装置26和对粒子射线的位置进行测定的位置监视器11。剂量监视装置26和位置监视器11以和粒子射线的前进方向的轴成直角的方式进行配置。另外，各图中相同的标号表示相同或相当的部分。
图3是表示实施方式1所涉及的剂量监视装置(电离室)的结构图，并且是结合其动作进行说明的图。剂量监视装置26具有由电极衬垫10支承的收集极27和高压极28。收集极27、高压极28例如由铝等的金属薄板构成。在收集极27与高压极28之间连接有电源29。收集极27例如为0V，高压极28例如为-1kV或-3kV。在收集极27与电源29之间连接有电流计31。剂量监视装置26由容器32包覆，且在收集极27与高压极28之间夹着绝缘物33，从而进行电绝缘以及机械支承。剂量监视装置26例如是向大气开放的电离室，在平行平板状的两面上具有粒子射线的透射窗34。
图3中，若粒子射线35通过充满气体(例如空气)的剂量监视装置26内，则粒子射线35会与气体分子碰撞，从而使气体电离。若使用高压电源29在收集极27与高压极28之间施加电场，则电离后的电子e-会聚集于收集极27，而离子i+会聚集于高压极28。所电离出的电子e-、离子i+的数量与通过的粒子射线的强度成正比。通过由电流计31所测定到的电流来测定粒子射线的强度。
另外，在实现扫描式照射的粒子射线治疗装置中，对于粒子射线的束点尺寸，优选对因散射而使其变大的情况进行抑制。因此，为了减小剂量监视装置26内的散射影响，剂量监视装置26装载于图2中靠近照射装置18的最下游的位置。由于是靠近最下游的位置，因此照射装置18的粒子射线的照射野变大。为了对该较大照射野的粒子射线进行测定，使剂量监视装置26的有效测定面积变大。若有效测定面积变大，则收集极27与高压极28并非在所有区域内完全平行，在测定粒子射线的强度时会产生无法忽略的挠曲。
图4是对剂量监视装置26的电极的挠曲和粒子射线强度测定的下降进行说明的图。收集极27和高压极28由于两电极间的电磁压力、重力而产生挠曲。虚线表示两电极27、28上没有挠曲的平行状态。由于电极27、28产生挠曲，因此，可以设想除了粒子射线的照射角度以外，在两电极27、28的有效测定面积内的位置(XY平面上的位置)、例如中心和周边部分上，两电极27、28之间的距离会产生偏差，并且它们之间的气体量会产生偏差。因此，对于粒子射线的同一强度，在有效测定面积内的照射位置上会产生不同的测定值，由此粒子射线强度的测定精度下降。
图5是对实施方式1的剂量监视装置的灵敏度修正方法进行说明的图。对于剂量监视装置26的平面(XY面)，在其中央部形成有粒子射线的透射窗34，且该平面被配置成和粒子射线前进方向的轴(Z轴)垂直。位置监视器11被配置成靠近剂量监视装置26的下游，其平面(XY面)被配置成和粒子射线前进方向的轴(Z轴)垂直。另外，只要将位置监视器11配置在能对照射对象的照射位置进行测定(换算从而进行测定)的位置即可，可以配置在剂量监视装置26的上游侧或配置在远离剂量监视装置26的位置。
在剂量监视装置26和位置监视器11的下游配置有小型平行平板型电离室38。小型平行平板型电离室38适用于粒子射线的透射窗为小口径、且范围较窄的测定，能够忽略电极的挠曲，并能对粒子射线的强度进行高精度的测定。作为小型平行平板型电离室38，例如可以使用一种PTW公司市场销售的商品名称为布拉格峰腔(Bragg Peak Chamber)的IONIZINGRADIAION(电离辐射)，其具有粒子射线透射窗的平板面例如直径为80mm左右，相比于例如射束尺寸1σ=5mm而言足够大，能使大部分的粒子通过。布拉格峰腔的结构是将剂量监视装置26(XY平面的透射窗、即照射野的大小为例如400mm×300mm)小型化后的结构，且结构相同。小型平行平板型电离室38在修正剂量监视装置26的灵敏度时，被配置在粒子射线的照射位置上，也可以在进行灵敏度修正时在规定的XY平面(与粒子射线前进方向的Z轴垂直的平面)上改变其位置，并在灵敏度修正后将其移除。
剂量监视装置26的灵敏度修正方法以如下方式实施。例如，使用具有治疗计划装置的照射位置设定装置，并基于照射位置来将粒子射线进行扫描，并将粒子射线照射到照射对象的所述照射位置，其中，所述照射位置是基于所指定的粒子射线的能量、和X、Y方向扫描电磁铁的励磁量来设定的。在图5所示的配置中，首先在前进方向的轴(Z轴)上照射粒子射线35。粒子射线35通过剂量监视装置26的XY平面上的原点(x=0，y=0)和位置监视器11的XY平面上的原点(x=0，y=0)，到达配置在照射对象的照射位置的XY平面上的原点(x=0，y=0)处的小型平行平板型电离室38。此时，利用电流计31从剂量监视装置26获得与粒子射线的强度相对应的电流，并将其换算成与照射对象的所述照射位置相对应的计数值Do,o。从位置监视器11测定(换算测定)到照射对象的所述照射位置的XY平面上的照射位置(0,0)。利用电流计(未图示)从小型平行平板型电离室38获得与粒子射线的强度相对应的电流，并将其换算成与照射对象的所述照射位置{照射位置(0,0)}相对应的小型平行平板型电离室38的电荷Co,o。
这里，电离室的灵敏度会根据存在于电极间的气体质量而发生变化，因此，需要根据内部的压力、气温来进行灵敏度修正，但通过使用均为大气开放型的剂量监视装置26和小型平行平板电离室38，使得温度和气压的影响相互抵消，因此无需进行修正，并能仅根据得到的电荷量来进行运算。
由小型平行平板型电离室38所测定到的粒子射线的强度(电荷)的精度较高，因此以其测定值为基准，并使用式(1)来计算与剂量监视装置26的所述照射位置(0,0)相对应的校正系数(修正系数)ao,o。
Cx,y=ax,y·Dx,y------(1)
式中，Dx,y：与照射对象的照射位置(x,y)相对应的剂量监视装置的计数值
ax,y：与照射对象的照射位置(x,y)相对应的剂量监视装置的校正系数
Cx,y：与照射对象的照射位置(x,y)相对应的小型平行平板型电离室的电荷
另外，照射对象的照射位置(x,y)表示照射位置在XY平面上的位置。
ao,o=Co,o/Do,o------(2)
接着，改变照射对象的照射位置，并改变粒子射线在剂量监视装置26的XY平面上的照射位置，并且,将小型平行平板型电离室38也改变到规定的XY平面上有粒子射线照射的位置。这里，通过位置监视器11测定(换算测定)照射对象的所述照射位置的XY平面上的照射位置(x,y)。通过剂量监视装置26测定计数值Dx,y，通过小型平行平板型电离室38测定电荷Cx,y。将这些测定值代入式(1)，并由式(3)来得到此时的校正系数(修正系数)ax,y。
ax,y=Cx,y/Dx,y------(3)
然后，改变照射对象的照射位置，并将粒子射线在剂量监视装置26的XY平面上的照射位置改变为其它位置，并且，将小型平行平板型电离室38也改变到规定的XY平面上有粒子射线照射的其它位置，由此能同样由式(3)来得到剂量监视装置26在其它照射位置上的校正系数ax,y。
由此，能够基于利用小型平行平板型电离室38所测定到的粒子射线的剂量，来求得由与照射对象的照射位置相对应的剂量监视装置所测定到的剂量的校正系数(修正系数)。
此外，若将照射对象的照射位置为位置(0,0)的校正系数ao,o设为基准，则能由式(4)来求得照射对象在其它照射位置(x,y)下的修正系数Ax,y，以作为相对于基准位置(0,0)的比率。
Ax,y=ax,y/ao,o------(4)
由此，可以以粒子射线照射对象的照射位置在粒子射线前进方向的轴上时的剂量监视装置的校正系数(修正系数)为基准，并利用与作为基准的所述校正系数的比率，来求得粒子射线照射对象的照射位置不在粒子射线前进方向的轴上时的剂量监视装置的修正系数。
另外，使用了实施方式1所涉及的剂量监视装置的灵敏度修正方法的粒子射线治疗装置的框图如图7、图8所示。
实施方式2.
实施方式1中，具备照射位置设定装置，基于照射位置来将粒子射线进行扫描，并将粒子射线照射到照射对象的所述照射位置，其中，所述照射位置是基于以由所述照射位置设定装置所指定的粒子射线的能量、和X、Y方向扫描电磁铁的励磁量来设定的，同样，也可以具备治疗计划装置，并基于所述治疗计划装置所计划的照射对象的照射位置来将粒子射线进行扫描，并将粒子射线照射到照射对象的所述照射位置。另外，使用了实施方式2所涉及的剂量监视装置的灵敏度修正方法的粒子射线治疗装置的框图如图7、图8所示。
此外，如上所述，在确认照射对象的照射位置时，可以使用位置监视器11来测定(测定并换算)并确认照射对象的照射位置的XY平面上的照射位置(x,y)。
实施方式3.
图6是表示实施方式3的剂量监视装置的灵敏度修正方法的说明图。对剂量监视装置26的灵敏度进行修正的修正系数优选在接近粒子射线治疗装置的实际照射的状态下求得。图6中，与实施方式1相同，具有剂量监视装置26、位置监视器11、以及小型平行平板型电离室38。在实施方式3中，在旋转机架19(图1)的角度为0度、且包含等中心40的位置配置充水体模39，并在包含等中心40、且与粒子射线前进方向的轴(Z轴)垂直的XY平面36上配置小型平行平板型电离室38，并使其移动到照射位置。剂量监视装置26的修正系数能以和实施方式1、2相同的方法求得。若已求得修正系数，则在粒子射线装置实际进行照射前，移除充水体模39和小型平行平板型电离室38。剂量监视装置26的修正系数能在粒子射线治疗装置进行调整时求得，此外，也可以定期求得。
实施方式4.
图7是表示实施方式4的、使用了剂量监视装置的灵敏度修正方法的粒子射线治疗装置的框图。在剂量监视装置26中对被照射出的粒子射线的剂量进行测定，从而获得与剂量的强度相对应的电流。利用I/F整流器41将该电流转换成与电流相对应的频率，并利用计数器42将其换算成与频率相对应的计数值(D)，并将结果导入计算单元44。位置监视器11对照射对象的照射位置(x,y)进行测定(换算并测定)。粒子射线照射对象的照射位置(x,y)能够通过实施方式2中说明的治疗计划装置所计划的照射位置来确定，并导入至计算单元44。在小型平行平板型电离室38中，对通过剂量监视装置26的粒子射线的剂量进行测定来获得与剂量的强度相对应的电流，并利用静电计43来获得与该电流相对应的电荷(C)，并将其导入计算单元44。另外，粒子射线照射对象的照射位置(x,y)也可以使用由位置监视器11所换算并测定到的照射对象的照射位置(x,y)。
在粒子射线治疗装置进行调整时，启动粒子射线治疗装置，并首先在前进方向的轴(Z轴)上照射粒子射线35。粒子射线35通过剂量监视装置26的XY平面上的原点(x=0，y=0)和位置监视器11的XY平面上的原点(x=0，y=0)，到达配置在规定的XY平面上的原点(x=0，y=0)处的小型平行平板型电离室38。此时，利用I/F整流器将与粒子射线的强度相对应的电流转换成频率，之后利用计数器42对其进行计数，由此通过剂量监视装置26测定与照射对象的照射位置(0,0)相对应的计数值Do,o。(另外，作为剂量监视装置26的一部分，通常具备I/F整流器41和计数器42。)通过位置监视器11测定照射对象的照射位置、即XY平面上的照射位置(0,0)。粒子射线照射对象的照射位置(0,0)能通过治疗计划装置所计划的照射位置来确定。就小型平行平板型电离室38而言，从静电计43获得与粒子射线的强度相对应的电流，并将其换算成与照射对象的照射位置(0,0)相对应的小型平行平板型电离室38的电荷Co,o。由此，利用计算单元44来得到与粒子射线照射对象的照射位置(0,0)相对应的剂量监视装置26的校正系数：
ao,o=Co,o/Do,o。
接着，改变照射对象的照射位置，并改变粒子射线在剂量监视装置26的XY平面上的照射位置，并且,将小型平行平板型电离室38也改变到规定的XY平面上有粒子射线照射的位置。这里，同样地，由位置监视器11来测定照射对象的照射位置。粒子射线照射对象的照射位置(x,y)能通过治疗计划装置所计划的照射位置来确定。从剂量监视装置26得到计数值Dx,y，从小型平行平板型电离室38得到电荷Cx,y。由此，利用计算单元44来得到与粒子射线照射对象的照射位置(x,y)相对应的剂量监视装置26的校正系数：
ax,y=Cx,y/Dx,y。
此外，将照射对象的照射位置改变成其它位置，并将粒子射线在剂量监视装置26的XY平面上的照射位置改变到其它位置，并且，将小型平行平板型电离室38也改变到规定的XY平面上有粒子射线照射的其它位置，由此也能同样地利用计算单元44来得到与粒子射线照射对象的其它照射位置(x,y)相对应的剂量监视装置26的校正系数ax,y。
并且，通过计算单元44将照射对象的照射位置为位置(0,0)所相对应的、剂量监视装置26的校正系数ao,o设定为基准，并求得与照射对象的其它照射位置(x,y)相对应的修正系数Ax,y，以作为相对于基准位置(0,0)的校正系数ao,o的比率。
Ax,y=ax,y/ao,o
由此，将由计算单元44所求得的、与粒子射线照射对象的每个照射位置相对应的剂量监视装置26的修正系数Ax,y储存到数据库45中。
另一方面，通过治疗计划装置47来生成对患者的计划。在计划中指定有各束点的照射对象的照射位置和给予剂量，对于其中每个照射位置的给予剂量，由修正单元48根据数据库45中的每个照射位置的修正系数来进行灵敏度修正。在实际进行治疗时，将对每个照射位置均进行了灵敏度修正后的剂量作为照射预设值来进行输出，并基于该照射预设值来实施粒子射线的照射。由计数器42对照射预设值与由剂量监视装置26所测定到的剂量所对应的值进行比较，若剂量所对应的值为照射预设值，则控制加速器14，结束治疗照射。
实施方式5.
图8是表示实施方式5的、使用了剂量监视装置的灵敏度修正方法的粒子射线治疗装置的框图。实施方式5与实施方式4同样，通过治疗计划装置47来生成对患者的计划。在计划中指定有各束点的照射对象的照射位置和给予剂量，对于其中每个照射位置的给予剂量，由修正单元48根据数据库45中的每个照射位置的修正系数来进行灵敏度修正。在实际进行治疗时，将对每个照射位置均进行了灵敏度修正后的剂量作为照射预设值进行输出，并基于该照射预设值来实施粒子射线的照射。此时，由位置监视器11测定照射对象的照射位置，并将测定到的照射位置(x,y)数据输入至异常检测器50。另一方面，将由治疗计划装置47生成的各束点的照射对象的照射位置(x,y)数据输入至异常检测器50。当两个输入的差异超过规定的设定值时，输出异常信息。由此，可以检测粒子射线照射位置的异常。
实施方式6.
实施方式1中，描述了将小型平行平板型电离室设置在剂量监视装置下游的情况，但也可以将小型平行平板电离室设置在剂量监视装置的上游。对于这种情况，在粒子射线被扫描电磁铁扫描前的射束位置未从射束轴发生变动的状态下，或在被扫描后、到达剂量监视装置前的变动幅度小于剂量监视装置的位置的状态下，由小型平行平板电离室来进行剂量测定，因此，小型平行平板型电离室理所当然能比剂量监视装置小，而且无需在与射束轴正交的XY平面上配合射束位置来进行移动。因此，能固定在射束轴上使用。对于实施方式6的情况，由于对患部的照射位置(等中心)处不存在小型平行平板型电离室，因此具有不会妨碍照射、且无需在灵敏度修正后将其从粒子射束线中移除的优点。
另外，相关的熟练技术人员在不脱离本发明的范围和精神的范围内可以实现本发明的各种变形或者改变，应当理解为不限于本说明书所记载的各实施方式。

Claims (15)

1.一种剂量监视装置的灵敏度修正方法，在该剂量监视装置的灵敏度修正方法中，粒子射线治疗装置包括：剂量监视装置(26)，该剂量监视装置(26)测定粒子射线的剂量；以及
小型电离室(38)，该小型电离室(38)对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定，且比所述剂量监视装置(26)要小，所述粒子射线治疗装置将粒子射线进行扫描并将粒子射线照射到照射对象的照射位置，所述剂量监视装置的灵敏度修正方法的特征在于，
由所述剂量监视装置(26)来测定被照射出的粒子射线的剂量，
由所述小型电离室(38)对通过所述剂量监视装置的粒子射线的剂量进行测定，
基于所述小型电离室(38)所测定到的粒子射线的剂量，来求得与所述照射位置相对应的所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数，以对因所述剂量监视装置的电极间距离的偏差而产生的测定精度的下降进行改善。
2.如权利要求1所述的剂量监视装置的灵敏度修正方法，其特征在于，
进一步包括治疗计划装置(47)，基于所述治疗计划装置(47)所计划的照射对象的照射位置来将粒子射线进行扫描，并将粒子射线照射到照射对象的所述照射位置，求得与所述照射位置相对应的所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数。
3.如权利要求1所述的剂量监视装置的灵敏度修正方法，其特征在于，
进一步包括照射位置设定装置(47)，基于由所述照射位置设定装置(47)所指定的粒子射线的能量和X、Y方向扫描电磁铁(20，21)的励磁量来设定照射位置，基于该照射位置来将粒子射线进行扫描，并将粒子射线照射到照射对象的所述照射位置，求得与所述照射位置相对应的所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数。
4.如权利要求1至3的任一项所述的剂量监视装置的灵敏度修正方法，其特征在于，
进一步包括粒子射线的位置监视器(11)，对照射到所述位置监视器(11)的粒子射线的照射位置进行测定，以确认粒子射线照射对象的所述照射位置。
5.如权利要求1至3的任一项所述的剂量监视装置的灵敏度修正方法，其特征在于，
所述小型电离室(38)为平行平板型。
6.如权利要求1至3的任一项所述的剂量监视装置的灵敏度修正方法，其特征在于，
以粒子射线照射对象的所述照射位置在粒子射线前进方向的轴上时的所述剂量监视装置(26)的所述修正系数为基准，并利用与作为基准的所述修正系数的比率，来求得粒子射线照射对象的所述照射位置不在所述轴上时的所述剂量监视装置(26)的修正系数。
7.如权利要求6所述的剂量监视装置的灵敏度修正方法，其特征在于，
所述小型电离室(38)包含等中心(40)，并配置在与粒子射线前进方向的轴相垂直的平面上。
8.一种粒子射线治疗装置，将粒子射线进行扫描，并将粒子射线照射到照射对象的照射位置，其特征在于，包括：
剂量监视装置(26)，该剂量监视装置(26)测定所述粒子射线的剂量；
小型电离室(38)，该小型电离室(38)对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定，且比所述剂量监视装置(26)要小；以及
计算单元(44)，该计算单元(44)根据由所述剂量监视装置(26)所测定到的被照射出的粒子射线的剂量、所述照射位置、以及由所述小型电离室(38)所测定到的通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量，并基于由所述小型电离室(38)所测定到的粒子射线的剂量，来求得与所述照射位置相对应的所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数，所述粒子射线治疗装置基于所述修正系数来调整照射剂量，以对因所述剂量监视装置的电极间距离的偏差而产生的测定精度的下降进行改善。
9.如权利要求8所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，
进一步包括治疗计划装置(47)，所述粒子射线治疗装置基于所述治疗计划装置(47)所计划的照射对象的照射位置来将粒子射线进行扫描，并将粒子射线照射到照射对象的所述照射位置，求得与所述照射位置相对应的所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数。
10.如权利要求8所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，
进一步包括照射位置设定装置(47)，所述粒子射线治疗装置基于照射位置来将粒子射线进行扫描，并将粒子射线照射到照射对象的所述照射位置，求得与所述照射位置相对应的所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数，其中，所述照射位置是基于由所述照射位置设定装置(47)所指定的粒子射线的能量和X、Y方向扫描电磁铁(20，21)的励磁量来设定的。
11.如权利要求8至10的任一项所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，
进一步包括粒子射线的位置监视器(11)，所述粒子射线治疗装置对照射到所述位置监视器(11)的粒子射线的照射位置进行测定，并确认粒子射线照射对象的所述照射位置。
12.如权利要求8至10的任一项所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，
所述小型电离室(38)为平行平板型。
13.如权利要求8至10的任一项所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，
以粒子射线照射对象的所述照射位置在粒子射线前进方向的轴上时的所述剂量监视装置(26)的所述修正系数为基准，并利用与作为基准的所述修正系数的比率，来求得粒子射线照射对象的所述照射位置不在所述轴上时的所述剂量监视装置(26)的修正系数。
14.如权利要求13所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，
所述小型电离室(38)包含等中心(40)，并配置在与粒子射线前进方向的轴相垂直的平面上。
15.如权利要求8至10的任一项所述的粒子射线治疗装置，其特征在于，
所述小型电离室(38)在粒子射线的前进方向上设置在所述剂量监视装置(26)的上游。
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