CN103176321A - 平面显示装置的阵列基板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种平面显示装置的阵列基板及其制造方法，以使在数据线的蚀刻过程中在数据连线的斜线形状部分处的过蚀刻最小化，从而使数据线的断线最小化。所述平面显示装置的阵列基板可以包括：包括显示区域和设置在所述显示区域的边缘的非显示区域的基板，设置在所述显示区域中的多条栅极线和与所述多条栅极线垂直交叉的多条数据线，和多条栅极连线和数据连线，构造成分别将栅极信号和数据信号施加给所述多条栅极线和所述多条数据线，其中所述多条数据连线的至少最外层数据连线包含端部，所述端部以斜线形状连接到所述多条数据线的相应数据线，并且所述最外层数据连线是离所述非显示区域的最外边缘最近的数据连线。

Description

平面显示装置的阵列基板及其制造方法
相关申请的交叉参考
本申请要求2011年12月26日提交的韩国专利申请号10-2011-0142667的权益，为了所有目的在此援引该专利申请作为参考，如同在这里完全阐述一样。
技术领域
本发明涉及一种平面显示装置的阵列基板及其制造方法，尤其涉及一种即使在能制备具有窄边框以及具有窄线宽的连线的显示器时也能减轻由于连线的线宽减小而产生的信号延迟问题的平面显示装置的阵列基板及其制造方法。
背景技术
随着信息社会的发展，在各个方面对用于显示图像的显示装置的需求增长。近年来，已使用了各种平面显示装置，如液晶显示器（LCD）、等离子体显示面板（PDP）、有机发光二极管（OLED）、电泳显示装置（EPD）等。
举例来说，电泳显示装置具有诸如无需外部光源、出色的柔韧性和便携性、重量轻等这样的特点。
这种电泳显示装置是一种反射型显示器，其中在诸如纸张或塑料这样的薄且柔性的基底膜上形成薄膜晶体管阵列基板并涂布透明导电层以驱动悬浮的电泳粒子，电泳显示装置被期待广泛用作下一代电子纸。
图1是图示现有技术中的电泳显示装置的视图，图2是图示图1的部分“A”的放大图。
参照图1，电泳显示装置的阵列基板可包括位于基板10的边缘区域，即非显示区域处的数据焊盘部20和栅极焊盘部30。此外，形成在显示区域上的多条数据线与数据焊盘部20连接，形成在显示区域上的多条栅极线与栅极焊盘部30连接。多个栅极焊盘（未示出）和数据焊盘（未示出）形成在栅极焊盘部30和数据焊盘部20上，并且与栅极线和数据线一一对应连接。在显示区域中，多条栅极线35和多条数据线25彼此垂直交叉，从而限定多个单元像素（P）。
从驱动电路单元（未示出）出来的栅极信号和数据信号被施加给显示区域的每个像素。图2是示出图1的部分“A”的放大图，示意性示出了非显示区域的连接部。特别地，图2示出了非显示区域的数据连线22_1到22_3，用于给每个像素（P）施加从驱动电路单元（未示出）出来的数据信号。在该情形中，可在单元像素（P）与数据连线22_1到22_3之间进一步设置静电放电保护电路（未示出）。
而且，从驱动电路单元出来的多条数据连线22_1到22_3在非显示区域中彼此平行布置，其中每条数据连线在垂直方向上弯曲（即，相对于所述数据连线从驱动电路单元延伸出的部分弯曲90°）并与相应的数据线连接以进入显示区域。
目前的技术发展趋势旨在减小边框以增加视觉美观，因而具有窄边框的显示器得到了发展。具有窄边框的显示器具有窄的非显示区域，因而设置于非显示区域中的多条数据连线之间的间隙以及数据连线自身的线宽度可以减小，从而增加了电阻，造成信号延迟问题。如果因数据连线的电阻而导致施加给数据连线的信号的延迟显著增加的话，则会产生在当前图像被刷新为下一图像时前一图像仍旧保留的重影现象。
发明内容
提出本发明用于解决前述问题，本发明提供了一种即使在具有窄边框的显示器中也能减轻由于连线的线宽减小而产生的信号延迟问题的平面显示装置的阵列基板及其制造方法。
本发明其他的目的和特征将根据下面的说明书和权利要求变得明显。
为了实现前述目的，根据本发明实施方式的平面显示装置的阵列基板可包括：包括显示区域和设置在所述显示区域的边缘的非显示区域的基板、设置在所述显示区域中的多条栅极线和与所述栅极线垂直交叉的多条数据线、用于分别给所述多条栅极线和多条数据线施加栅极信号和数据信号的多条栅极连线和多条数据连线，其中所述多条数据连线的至少最外层数据连线包含端部，所述端部以斜线形状连接到所述多条数据线的相应数据线，并且最外层数据连线是离非显示区的最外边缘最近的数据连线。
所述平面显示装置的阵列基板的特征可以在于：所述端部包括从所述相应数据线延伸的水平部、与所述相应数据线垂直的垂直部和连接在所述水平部与所述垂直部之间的具有斜线形状的斜线部。
或者，所述平面显示装置的阵列基板的特征可以在于：所述端部包括与所述相应数据线垂直的垂直部，和连接在所述相应数据线与所述垂直部之间的具有斜线形状的斜线部。或者，在所述斜线部与所述数据线之间连接的部分处，所述端部可进一步包括从所述数据线延伸出来的平行部。
所述平面显示装置的阵列基板的特征可以在于：多条数据连线的每一个都包含端部，并且在所述斜线部之间的间隙的宽度与所述垂直部之间的间隙的宽度相同。
所述平面显示装置的阵列基板的特征可以在于：所述斜线部的线宽与所述垂直部的线宽相同。所述平面显示装置的阵列基板的特征可以在于：所述斜线部的线宽大于所述垂直部的线宽。
所述平面显示装置的阵列基板的特征可以在于：所述斜线部之间的间隙的宽度与所述垂直部之间的间隙的宽度相同。
所述平面显示装置的阵列基板的特征可以在于：所述斜线部之间的间隙大于所述多条数据连线的所述垂直部之间的间隙。
所述平面显示装置的阵列基板可包括形成在所述基板上的栅极电极，形成在所述栅极电极上的栅极绝缘层，形成在所述栅极绝缘层上的半导体层，形成在所述半导体层上的源极电极和漏极电极，和与所述漏极电极接触的像素电极。
所述平面显示装置可以是一种电泳显示装置。
所述平面显示装置可以是一种液晶显示装置。
所述平面显示装置的阵列基板的特征可以在于：在所述多条数据连线和所述多条数据线之间设置有静电放电保护电路。
根据本发明实施方式的制造平面显示装置的阵列基板的方法可包括：提供包括显示区域和设置在所述显示区域的边缘的非显示区域的基板；在所述显示区域中形成多条栅极线和多个栅极电极，和在所述非显示区域中形成用于给多条栅极线提供栅极信号的多条栅极连线；在形成有所述多条栅极线和所述多个栅极电极和所述多条栅极连线的所述基板的整个表面上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成半导体层；在形成有所述半导体层的所述基板上形成导电层；对所述导电层构图以在所述显示区域中形成多条数据线、多个源极电极和多个漏极电极，并且在非显示区域中形成用于给所述多条数据线提供数据信号的多条数据连线；以及在形成有所述多条数据线和所述多条数据连线的基板上形成钝化层，并且在所述钝化层上形成分别电连接到所述多个漏极电极的多个像素电极，其中至少最外层所述数据连线包含端部，所述端部以斜线形状连接到相应数据线，并且所述最外层数据连线是离所述非显示区域的最外边缘最近的数据连线。
所述方法的特征可以在于：所述端部包含具有从所述相应数据线延伸的水平部，与所述相应数据线垂直的垂直部，和连接在所述水平部与所述垂直部之间的具有斜线形状的斜线部。
或者，所述方法的特征可以在于：所述端部包括与所述相应数据线垂直的垂直部，和连接在所述相应数据线与所述垂直部之间的具有斜线形状的斜线部。
所述方法的特征可以在于：所述多条数据连线的每条都包含所述端部，并且所述斜线部之间的间隙的宽度和所述垂直部之间的间隙的宽度相同。
所述方法的特征可以在于：所述斜线部具有与所述垂直部相同的线宽。
所述方法的特征可以在于：所述斜线部的线宽大于所述垂直部的线宽。
所述方法的特征可以在于：在构图所述导电层的步骤中所述斜线部可以比所述垂直部暴露于更多的蚀刻剂。
所述方法的特征可以在于：所述斜线部之间的间隙的宽度与所述垂直部之间的间隙的宽度相同。在构图所述导电层的步骤中所述斜线部可以和所述垂直部暴露于相同的蚀刻剂量。
所述方法的特征可以在于：所述斜线部之间的间隙大于所述多条数据连线中的垂直部之间的间隙。
所述方法的特征可以在于：所述平面显示装置是一种电泳显示装置。
所述方法的特征可以在于：所述平面显示装置是一种液晶显示装置。
如上所述，根据本实施方式，当从驱动电路单元产生的驱动信号通过连线提供给屏幕显示单元时，路径可以减小，由此防止了信号延迟。而且，可以以扩大的方式设计配线的线宽以解决过蚀刻问题，所述过蚀刻问题是在湿蚀刻工艺过程中由于使用于防止信号延迟的斜线部被暴露于更多蚀刻剂而造成，因而在湿蚀刻工艺之后可防止断线并可获得一致的线宽，由此提供了防止信号延迟的效果。
此外，根据本发明，可使数据连线的断线最小化，从而减小了平面显示面板的故障率，由此提供了提升工艺产量的效果。
附图说明
给本发明提供进一步理解并组成说明书一部分的附图图示了本发明的实施方式并与说明书一起用于说明本发明的原理。
在附图中：
图1是示出现有技术的电泳显示装置的视图；
图2是示出图1的部分“A”的放大图；
图3是示出根据本发明实施方式的平面显示装置的平面图；
图4是示出根据本发明实施方式的数据连线的视图；
图5是示出根据本发明另一实施方式的数据连线的视图；
图6A到图6D是示出制造包括根据本发明另一实施方式的数据连线的平面显示装置的阵列基板的工艺剖面图，沿图5中的线a-a’，b-b’，c-c’和d-d’剖面取得；
图7是示出根据本发明另一实施方式的平面显示装置的故障分析的图表；
图8是示出根据本发明实施方式的电泳显示装置的视图；以及
图9是示出根据本发明另一实施方式的液晶显示装置的视图。
具体实施方式
在下文中，将参照附图详细描述根据本发明优选实施方式的平面显示装置的阵列基板及其制造方法。
图3是示出根据本发明实施方式的平面显示装置的平面图。
参照图3，根据本发明的平面显示装置的阵列基板200可包括用于实现图像的显示区域（AA）和设置在显示区域（AA）边缘的非显示区域（NAA）。
平面显示装置的阵列基板200可形成有位于诸如玻璃或类似物这样的基底基板上的用于接收栅极信号的多条栅极线130，以及与多条栅极线130垂直交叉的多条数据线120。在栅极线和数据线的交叉部分限定了多个像素区域（P）。在每个像素区域处可形成有作为开关元件的薄膜晶体管，并且像素电极170可形成在每个像素区域处，所述像素电极170被提供有图像信号同时受薄膜晶体管控制。
此外，在平面显示装置的阵列基板200的非显示区域（NAA）中构造有多条栅极连线132和数据连线122，用于给多条栅极线130和多条数据线120提供从驱动电路单元135产生的驱动信号。在该情形中，驱动电路单元135可包括栅极驱动IC（未示出）和数据驱动IC（未示出），用于分别驱动多条栅极线130和多条数据线120。因此，栅极连线和数据连线设置在驱动电路单元135与栅极线和数据线之间。
可在栅极线与栅极连线以及数据线与数据连线之间进一步设置有静电放电保护电路（未示出），以防止引入从外部产生的静电放电。
此外，从等效电路的角度看，平面显示装置的阵列基板200可包括多条栅极线130和数据线120以及与这些线连接且以矩阵形式布置的多个单元像素。
每个单元像素可包括与栅极线130和数据线120连接的开关元件，和与所述开关元件连接的存储电容器。开关元件设置在阵列基板上，且作为三端子元件，控制端和提供端分别与栅极线130和数据线120连接，并且输出端与存储电容器连接。举例来说，开关元件可以是薄膜晶体管（TFT），TFT的栅极电极是控制端，TFT的源极电极是提供端，并且TFT的漏极电极是输出端。
像素电极与开关元件（T）连接，且公共电极形成在滤色器基板的整个表面上以接收公共电压（Vcom）。这里，公共电极也可设置在阵列基板上，并且在该情形中，两个电极均由线形或条形电极制成。
存储电容器（未示出）是通过使阵列基板上设置的单独信号线（未示出）与像素电极交叠而形成的，并且诸如公共电压等这样的预定电压被施加给该单独信号线。或者，存储电容器还可通过使像素电极与像素电极正上方的栅极线交叠并通过插入电介质物质而形成。
同时，每个单元像素应显示彩色以实现彩色方案，这能通过在与像素电极对应的区域中设置红色、绿色和蓝色滤色器来实现。这里，滤色器可形成在滤色器基板的相关区域中，并且也可形成在阵列基板的像素电极之上或之下。
用于使光偏振的偏振器（未示出）可粘附到阵列基板和滤色器基板的至少一个外表面。
这里，尽管图中没有示出，但平面显示装置的阵列基板200可包括用于控制驱动控制单元135的时序控制器。
时序控制器以适当方式排列从外部提供的图像数据以驱动平面显示面板，并将排列后的数据供给到驱动电路单元135。此外，时序控制器使用从外部提供的点时钟（DLCK）、数据使能信号（DE）和水平、垂直同步信号（Hsync，Vsync）来产生栅极控制信号和数据控制信号，以控制驱动电路单元135的驱动时序。
图4是示出根据本发明实施方式的数据连线的视图。
参照图4，根据本发明实施方式，为了解决现有技术中的前述问题，可使用其中多条连线122_1到122_3在其端部以斜线形状连接到数据线120的结构。
本实施方式示出了与数据线120连接的数据连线122_1到122_3。然而，这可应用于与栅极线130连接的栅极连线132。
连线122_1到122_3可包括与数据线120连接的端部（B），并且所述端部（B）可具有从数据线120延伸的水平部（P1），与数据线120垂直的垂直部（P2），以及连接在水平部（P1）与垂直部（P2）之间的具有斜线形状的斜线部（P3）。这里，连线122_1到122_3的线宽可以以相似方式形成。
这里，在多个单元像素（P）与数据连线122_1到122_3之间可设置有静电放电保护电路（未示出），并且数据电压可通过静电放电保护电路被施加给多个单元像素（P）。
根据本实施方式，连线在端部（B）处以斜线形状连接到数据线120，因而传播路径可以比其中数据连线在垂直方向上弯曲的现有技术的传播路径短，由此具有防止信号延迟的效果。换句话说，由于整个数据连线122_1到122_3的长度减小，所以基于数据连线122_1到122_3的电阻减小，由此减轻了数据线120的信号延迟问题。
此外，根据本发明实施方式，可应用其中多条连线122_1到122_3在其端部以斜线形状连接到数据线120的结构来减小其中不显示图像的非显示区域（NAA）。于是，可减小在制造平面显示装置之后由框架或类似物隐藏的边框的宽度，由此具有能实现具有窄边框的显示器的优点。
如本发明所述实施方式中所述，当多条数据连线122_1到122_3的端部是以斜线形状与数据线120连接时，垂直部（P2）中的数据连线之间的间隙（D11）不同于斜线部（P3）中的数据连线之间的间隙（D12）。如果斜线部（P3）中的数据连线122_1到122_3之间的间隙比垂直部（P2）的数据连线122_1到122_3之间的间隙大，因而被暴露于蚀刻剂的量就更多，那么在数据连线的湿蚀刻工艺过程中可能在斜线部（P3）产生过蚀刻。
一般来说，由于负载效应（loading effect），在蚀刻工艺过程中蚀刻速度可根据每单位面积设置配线的密度以及配线的尺寸而产生变化。特别是，在其中连线之间的间隙尽可能最小化的窄边框的情形中，边框部，即非显示区域中设置的连线之间的间隙可以显著减小，但与前述间隙相比，斜线部的连线之间的间隙可以较大，因而蚀刻剂被更有效地供给到斜线部，而且在蚀刻之后残留物的排放也更有效，由此在斜线部中造成过蚀刻。这可称作微负载效应。结果是，尽管基于数据连线122_1到122_3的电阻减小并/或边框线宽减小，但蚀刻工艺之后的斜线部（P3）的线宽可能比垂直部（P2）的线宽小。
因此，参照图5，根据本发明另一实施方式，斜线部（P3）的线宽（D22’）被形成为大于垂直部（P2）的线宽。
根据本发明的另一实施方式，在平面显示装置的阵列基板200上多条数据连线222_1到222_3与静电放电保护电路（未示出）连接，并且所述静电放电保护电路与多个单元像素（P）连接。
这里，静电放电保护电路与多条数据连线222_1到222_3连接，且静电放电保护电路使由于静电放电导致的数据电压损失最小，由此起到了将数据电压稳定地传输给多个单元像素的作用。
此外，根据本发明实施方式，数据连线222_1到222_3可包括与数据线连接的端部（B），并且所述端部（B）可具有从数据线延伸的水平部（P1），与数据线120垂直的垂直部（P2），以及连接在水平部（P1）与垂直部（P2）之间的具有斜线形状的斜线部（P3）。在该情形中，斜线部（P3）的线宽（D22’）可形成为大于水平部（P1）和垂直部（P2）的线宽（D21’），例如，如图5所示，斜线部（P3）的线宽（D22’）可以以朝左倾斜的斜线形状形成。此外，斜线部（P3）的线宽（D22’）可形成为水平部（P1）和垂直部（P2）的线宽（D21’）的两倍。此外，在数据连线222_1到222_3中，斜线部（P3）之间的间隙（D32）可形成为垂直部（P2）之间的间隙（D31）的两倍。举例来说，当水平部（P1）和垂直部（P2）的线宽（D21’）为3-6μm时，斜线部（P3）的线宽（D22’）可形成为6-12μm。此外，垂直部（P2）之间的间隙（D31）可形成为4-4.5μm，并且斜线部（P3）之间的间隙（D32）可形成为8-9μm。
斜线部（P3）的线宽（D22’）可与水平部和垂直部（P1，P2）的线宽（D21’）不同地形成，因而当通过湿蚀刻工艺形成数据连线222_1到222_3时斜线部（P3）比垂直部（P2）被暴露于更多的蚀刻剂，结果即使进行了过蚀刻，在蚀刻工艺之后垂直部（P2）和斜线部（P3）的线宽（D21’）也是相同的，或者斜线部（P3）的线宽（D22’）也大于垂直部（P2）的线宽，由此进一步减小了基于数据连线222_1到222_3的电阻并且减轻了信号延迟问题。
此外，为了进一步防止前述的微负载效应，根据本发明前述的实施方式，可以要求水平部尽可能短，并且可以要求斜线部的线宽比垂直部的线宽宽。另外，可构造成数据连线的斜线部直接与数据线连接而不设置水平部。
在下文中，将参照图6A到6D描述制造包括根据本发明所述另一实施方式的数据连线的平面显示装置的阵列基板的方法。
图6A到图6D是示出制造包括根据本发明所述另一实施方式的数据连线的平面显示装置的阵列基板的工艺剖面图，沿图5中的线a-a’、b-b’、c-c’和d-d’剖面取得。这里，a-a’的部分示出了显示区域（AA），b-b’、c-c’和d-d’的部分分别示出了非显示区域（NAA）的连线。
参照图6A，在基板210上沉积第一金属材料。在该情形中，举例来说，第一金属材料可由选自铝（Al）、铜（Cu）、银（Ag）、钼（Mo）、铬（Cr）、钛（Ti）、钽（Ta）及它们的合金中的任意一种构成。
此外，第一金属材料可以以包括双层或三层或更多层的多层结构的多层形式实现，所述多层结构具有不同物理特性的多层。这里，当第一金属材料以双层形式形成时，该双层之一可由具有低电阻率的金属制成，所述金属例如为铝（或铝合金）、银（或银合金）、铜（或铜合金）或类似物。在该情形中，另一层可由具有与氧化铟锡（ITO）、氧化铟锌（IZO）和类似物的优异的接触特性的材料制成，所述材料例如为钼、铬、钛、钽或它们的合金。
接着，通过光刻工艺选择性构图第一金属材料，从而在显示区域和非显示区域中分别形成栅极焊盘（未示出）和栅极电极212a。
随后，在包括栅极焊盘和栅极电极212a的阵列基板210的整个表面上形成栅极绝缘层213。在该情形中，栅极绝缘层213可由选自诸如硅的氮化物（SiNX）、氧化硅（SiO2）或类似物这样的无机绝缘层，以及诸如氧化铪（HfO2）、铝的氧化物或类似物这样的高介电氧化物层中的任意一种制成。
参照图6B，在栅极绝缘层213上沉积有源层材料，然后通过光刻工艺选择性蚀刻该有源层材料，以形成有源层214a到214d。此时，有源层214a到214d可由诸如氢化非晶硅或多晶硅这样的半导体制成。此时，可在有源层214a上进一步形成欧姆接触层215，用于与源极电极216a’和漏极电极216a”实现欧姆接触。
接着，在显示区域中的有源层214a上形成第二金属材料216a作为导电层，并使用与第二金属材料相同的材料在非显示区域中的有源层214b、214c、214d上形成第一到第三图案216b到216d。
可通过光刻工艺执行对第二金属材料构图的工艺。在光刻工艺过程中，如本发明前面实施方式中所述，可使用包括图案的掩模，所述图案中数据连线的端部分别对应于水平部、垂直部和斜线部。
参照图6B，与斜线部对应的第二图案216c的线宽（D22）形成为大于与水平部和垂直部对应的第一和第三图案216b、216d的线宽（D21）。因此，当在光刻工艺过程中进行湿蚀刻时，尽管与配线之间具有窄间隙的垂直部相比，在配线之间具有宽间隙的斜线部处由于微负载效应更有效地进行了蚀刻，但在蚀刻工艺之后垂直部和斜线部的线宽可以相同，或者斜线部的线宽大于垂直部的线宽，由此减轻了由于连线导致的信号延迟问题。
通过第二金属层的光刻工艺完成数据线、源极电极216a’、漏极电极216a”和数据连线。
此时，例如源极电极216a’和漏极电极216a”可由选自铝（Al）、铜（Cu）、银（Ag）、钼（Mo）、铬（Cr）、钛（Ti）、钽（Ta）及它们的合金中的任意一种形成。此外，源极电极216a’和漏极电极216a”可具有不同物理特性的双层或三层结构。
接着，参照图6C，在阵列基板210的整个表面上沉积透明导电材料，然后通过光刻工艺对透明导电材料选择性构图以形成像素电极217。
参照图6D，在包括像素电极217的阵列基板210的整个表面上形成钝化层218。
图7是示出根据本发明另一实施方式的平面显示装置的故障分析的图表。
参照图7，“a”表示应用了斜线形状的数据连线以减小线电阻的模型。当阵列基板的总数为203时，故障的阵列基板的总数为49，其中在数据线蚀刻工艺过程中产生过蚀刻的阵列基板的数量为37。
其中应用了斜线形状的数据连线的这种模型导致在数据线蚀刻工艺过程中，数据连线的直线形状部分和数据连线的斜线形状部分之间的图案的密度不同，由此产生在数据线蚀刻工艺过程中蚀刻速度根据图案的密度和图案的尺寸而变化的负载效应。由于这种原因，可能进行过蚀刻，并且可能发生数据连线的断线，由此甚至在薄膜晶体管处都可能产生故障。
这里，“b1”表示一种模型，所述模型中斜线形状的斜线部（P3）的线宽（D22’）形成为大于直线形状的水平部和垂直部（P1，P2）的线宽（D21’），以在数据线蚀刻工艺过程中使数据连线的直线形状部分和数据连线的斜线形状部分之间的图案的密度差别最小化。当阵列基板的总数为387时，故障的阵列基板的总数为36，其中在数据线蚀刻工艺过程中产生过蚀刻的阵列基板的数量为零。
在该情形中，b2和b3表示与“b1”类似的其他模型，分别示出基于阵列基板的总数而言故障的阵列基板的总数。与“b1”类似，可以看出其中在数据线蚀刻工艺过程中产生过蚀刻的阵列基板的数量为零。
此外，根据本发明另一实施方式，可以使数据连线的断线最小化，从而降低了平面显示面板的故障率，由此具有提升工艺产量的效果。
图8是示出根据本发明实施方式的电泳显示装置的视图。
参照图8，根据本发明实施方式的电泳显示装置300可包括阵列基板360和上阵列基板380。
对于阵列基板360，栅极电极308形成在基板342上，栅极绝缘层344形成在栅极电极308上。有源层314形成在栅极绝缘层344上，并且在有源层314上进一步形成欧姆接触层348，用于实现与源极电极310和漏极电极312欧姆接触。有源层314和欧姆接触层348组成半导体层345。像素电极318通过穿过钝化层350而暴露漏极电极312的接触孔317与漏极电极312接触。
同时，设置成面对阵列基板360的上阵列基板380可包括形成在上基板382上的公共电极384，和设置在公共电极384上的电泳膜390。电泳膜390可设置有包含电荷颜料粒子的胶囊（capsule）392、以及分别设置在胶囊392的上、下部处的上、下钝化层396、394，并可在胶囊392与下钝化层394之间进一步包括滤色器338。
滤色器338可包括红色、绿色和蓝色滤色器，并且滤色器338是通过使用热成像方法或类似方法而形成的。具有前述构造的电泳显示装置可包括实现彩色的滤色器338。此外，上阵列基板380和阵列基板360是通过使用粘结剂386的层叠工艺的方式而彼此粘附。
图9是示出根据本发明另一实施方式的液晶显示装置的视图。
参照图9，根据本发明另一实施方式的液晶显示装置400可包括阵列基板460、滤色器基板480以及夹在它们之间的液晶层490。
对于阵列基板460，栅极电极408形成在基板442上，并且栅极绝缘层444形成在栅极电极408上。有源层414形成在栅极绝缘层444上，并且在有源层414上进一步形成欧姆接触层448，用于实现与源极电极410和漏极电极412欧姆接触。有源层414和欧姆接触层448组成半导体层445。像素电极418通过穿过钝化层450而暴露漏极电极412的接触孔417与漏极电极412接触。
同时，设置成面对阵列基板460的滤色器基板480可包括上基板482、黑矩阵484、放置在黑矩阵484之间的滤色器486、构造成覆盖黑矩阵484和滤色器486的覆层488，以及放置在覆层上的公共电极489。此外，可在彼此粘附的前述阵列基板460和滤色器基板480之间放置液晶层490。
尽管在前面的描述中具体公开了很多主题，但它们应当解释为优选实施方式的示例，而不应解释为对本发明的范围的限制。因而，本发明不应由公开的实施方式限定，而是由权利要求及其等价物限定。

Claims (24)

1.一种平面显示装置的阵列基板，所述阵列基板包括：
包括显示区域和设置在所述显示区域的边缘的非显示区域的基板；
设置在所述显示区域中的多条栅极线和与所述多条栅极线垂直交叉的多条数据线；和
多条栅极连线和多条数据连线，构造成分别将栅极信号和数据信号施加给所述多条栅极线和所述多条数据线，
其中所述多条数据连线的至少最外层数据连线包含端部，所述端部以斜线形状连接到所述多条数据线的相应数据线，并且所述最外层数据连线是离所述非显示区域的最外边缘最近的数据连线。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其中所述端部包含从所述相应数据线延伸的水平部，与所述相应数据线垂直的垂直部，和连接在所述水平部与所述垂直部之间的具有斜线形状的斜线部。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其中所述端部包括具有与所述相应数据线垂直的垂直部，和连接在所述相应数据线与所述垂直部之间的具有斜线形状的斜线部。
4.根据权利要求2或3所述的阵列基板，其中所述多条数据连线的每条都包含端部，并且所述斜线部之间的间隙的宽度与所述垂直部之间的间隙的宽度相同。
5.根据权利要求4所述的阵列基板，其中所述斜线部的线宽与所述垂直部的线宽相同。
6.根据权利要求2或3所述的阵列基板，其中所述斜线部的线宽大于所述垂直部的线宽。
7.根据权利要求6所述的阵列基板，其中所述斜线部之间的间隙的宽度等于所述垂直部之间的间隙的宽度。
8.根据权利要求6所述的阵列基板，其中所述斜线部之间的间隙大于所述多条数据连线中的所述垂直部之间的间隙。
9.根据权利要求1所述的阵列基板，包括：
形成在所述基板上的栅极电极；
形成在所述栅极电极上的栅极绝缘层；
形成在所述栅极绝缘层上的半导体层；
形成在所述半导体层上的源极电极和漏极电极；和
与所述漏极电极接触的像素电极。
10.根据权利要求1所述的阵列基板，其中所述平面显示装置是一种电泳显示装置。
11.根据权利要求1所述的阵列基板，其中所述平面显示装置是一种液晶显示装置。
12.根据权利要求1所述的阵列基板，其中在所述多条数据连线和所述多条数据线之间设置有电泳放电保护回路。
13.一种制造平面显示装置的阵列基板的方法，所述方法包括：
提供包括显示区域和设置在所述显示区域的边缘的非显示区域的基板；
在所述显示区域中形成多条栅极线和多条栅极电极，以及在所述非显示区域中形成多条栅极连线，用于给所述多条栅极线提供栅极信号；
在形成有所述多条栅极线、所述多个栅极电极和所述多条栅极连线的所述基板的整个表面上形成栅极绝缘层；
在所述栅极绝缘层上形成半导体层；
在形成有所述半导体层的所述基板上形成导电层；
对所述导电层构图以在所述显示区域中形成多条数据线、多个源极电极和多个漏极电极，并且在所述非显示区域中形成多条数据连线，用于给所述多条数据线提供数据信号；以及
在形成有所述多条数据线和所述多条数据连线的所述基板上形成钝化层，并在所述钝化层上形成分别与所述多个漏极电极电连接的多个像素电极，
其中至少最外层数据连线包含端部，所述端部以斜线形状连接到相应数据线，并且最外层数据连线是离所述非显示区域的最外边缘最近的数据连线。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述端部包含从所述相应数据线延伸的水平部，与所述相应数据线垂直的垂直部，和连接在所述水平部和所述垂直部之间的具有斜线形状的斜线部。
15.根据权利要求13所述的方法，其中所述端部包括具有与所述相应数据线垂直的垂直部，和连接在所述相应数据线和所述垂直部之间的具有斜线形状的斜线部。
16.根据权利要求14或15所述的方法，其中所述多条数据连线的每条都包含端部，并且所述斜线部之间的间隙的宽度和所述垂直部之间的间隙的宽度相同。
17.根据权利要求16所述的方法，其中所述斜线部的线宽和所述垂直部的线宽相同。
18.根据权利要求13或15所述的方法，其中所述斜线部的线宽大于所述垂直部的线宽。
19.根据权利要求13所述的方法，其中所述平面显示装置是一种电泳显示装置。
20.根据权利要求13所述的方法，其中所述平面显示装置是一种液晶显示装置。
21.根据权利要求18所述的方法，其中在对所述导电层构图的步骤期间所述斜线部比所述垂直部被暴露于更多的蚀刻剂。
22.根据权利要求18所述的方法，其中所述斜线部之间的间隙的宽度和所述垂直部之间的间隙的宽度相同。
23.根据权利要求22所述的方法，其中在对所述导电层构图的步骤期间所述斜线部和所述垂直部被暴露于相同量的蚀刻剂。
24.根据权利要求18所述的方法，其中所述斜线部之间的间隙大于所述多条数据连线中的所述垂直部之间的间隙。
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