CN103149665A - 投影镜头 - Google Patents
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Abstract
一种投影镜头,从放大端至缩小端依次包括:一个具有负光焦度的第一透镜组及一个具有正光焦度的第二透镜组,该第一透镜组包括一个靠近放大端的第一透镜,该投影镜头满足以下条件式:4.5<∣F1∣/F<6;其中,F1为该第一透镜的有效焦距;F为该投影镜头的有效焦距。满足上述条件的投影镜头,在保证良好投影画面品质的要求的同时降低了生产成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学技术,尤其涉及一种投影镜头。
背景技术
随着半导体技术的发展,数字光处理(Digital Light ProcEssing, DLP) 投影仪, 液晶显示(Liquid Crystal Display, LCD)投影仪、硅晶(Liquid Crystal on Silicon, LCoS)投影仪采用的空间光调制器(Spatial light modulator,SLM),包括数字微镜芯片(Digital Micro-mirror Device, DMD)、液晶显示面板(LCD panEl)及硅晶芯片(LCoS chip)。投影镜头在保证成像品质的同时,也需要考虑降低成本的要求。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种保证良好投影画面品质的同时降低成本的投影镜头。
一种投影镜头,从放大端至缩小端依次包括:一个具有负光焦度的第一透镜组及一个具有正光焦度的第二透镜组,该第一透镜组包括一个靠近放大端的第一透镜,该投影镜头满足以下条件式:
4.5<∣F1∣/F<6;
其中,F1为该第一透镜的有效焦距;F为该投影镜头的有效焦距。
满足上述条件的投影镜头,在保证良好投影画面品质的要求的同时降低了生产成本。
附图说明
图1为本发明提供的投影镜头的结构示意图;
图2为第一实施方式的投影镜头的球面像差图;
图3为第一实施方式的投影镜头的场曲图;
图4为第一实施方式的投影镜头的畸变图。
图5为第二实施方式的投影镜头的球面像差图。
图6为第二实施方式的投影镜头的场曲图。
图7为第二实施方式的投影镜头的畸变图。
主要元件符号说明
投影镜头 | 100 |
第一透镜组 | 10 |
第一透镜 | 11 |
第二透镜 | 12 |
第三透镜 | 13 |
第四透镜 | 14 |
第五透镜 | 15 |
第六透镜 | 16 |
第二透镜组 | 20 |
第七透镜 | 21 |
第八透镜 | 22 |
第九透镜 | 23 |
第十透镜 | 24 |
第十一透镜 | 25 |
第十二透镜 | 26 |
第十三透镜 | 27 |
第一表面 | S1 |
第二表面 | S2 |
第三表面 | S3 |
第四表面 | S4 |
第五表面 | S5 |
第六表面 | S6 |
第七表面 | S7 |
第八表面 | S8 |
第九表面 | S9 |
第十表面 | S10 |
第十一表面 | S11 |
第十二表面 | S12 |
第十三表面 | S13 |
第十四表面 | S14 |
第十五表面 | S15 |
第十六表面 | S16 |
第十七表面 | S17 |
第十八表面 | S18 |
第十九表面 | S19 |
第二十表面 | S20 |
第二十一表面 | S21 |
第二十二表面 | S22 |
第二十三表面 | S23 |
第二十四表面 | S24 |
保护玻璃 | 30 |
成像表面 | 40 |
光阑 | 50 |
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明实施方式作进一步的详细说明。
请参阅图1,其为本发明实施方式所提供的投影镜头100,其可应用于数字光处理(digital light processing, DLP)投影机。DLP投影机包括一个数字微镜装置(digital micro-mirror device, DMD)作为空间光调制装置(spatial light modulator, SLM)。该投影镜头100具有正光焦度,从放大端至缩小端依次包括:一个具有负光焦度的第一透镜组10、一个具有正光焦度的第二透镜组20、一个保护玻璃30及一个成像表面(即:SLM表面)40。
该第一透镜组10包括一个具有负光焦度的第一透镜11、一个具有负光焦度的第二透镜12、一个具有负光焦度的第三透镜13、一个具有负光焦度的第四透镜14、一个具有正光焦度的第五透镜15及一个具有正光焦度的第六透镜16。该第一透镜11包括靠近放大端的第一表面S1及靠近该缩小端的第二表面S2。该第二透镜12包括靠近放大端的第三表面S3及靠近该缩小端的第四表面S4。该第三透镜13包括靠近放大端的第五表面S5及靠近该缩小端的第六表面S6。该第四透镜14包括靠近放大端的第七表面S7及靠近该缩小端的第八表面S8。该第五透镜15包括靠近放大端的第九表面S9及靠近该缩小端的第十表面S10。该第六透镜16包括靠近放大端的第十一表面S11及靠近该缩小端的第十二表面S12。其中,该第三表面S3、该第四表面S4、该第七表面S7、该第八表面S8、该第九表面S9、该第十表面S10、该第十一表面S11及该第十二表面S12均为球面。由于球面透镜不易在高温造成成像品质的变化,如此,可保证在高温环境下,成像品质仍较佳的特性。另外,该第一表面S1、该第二表面S2、该第五表面S5及该第六表面S6均为非球面。
该第二透镜组20包括一个具有正光焦度的第七透镜21、一个具有正光焦度的第八透镜22、一个具有负光焦度的第九透镜23、一个具有正光焦度的第十透镜24、一个具有负光焦度的第十一透镜25、一个具有正光焦度的第十二透镜26及一个具有正光焦度的第十三透镜27。该第八透镜22与该第九透镜23为胶合透镜,该第十一透镜25与该第十二透镜26为胶合透镜。该第七透镜21包括靠近放大端的第十三表面S13及靠近该缩小端的第十四表面S14。该第八透镜22包括靠近放大端的第十五表面S15及靠近该缩小端的第十六表面S16。该第九透镜23包括靠近放大端的该第十六表面S16及靠近该缩小端的第十七表面S17。该第十透镜24包括靠近放大端的第十八表面S18及靠近该缩小端的第十九表面S19。该第十一透镜25包括靠近放大端的第二十表面S20及靠近该缩小端的第二十一表面S21。该第十二透镜26包括靠近放大端的该第二十一表面S21及靠近该缩小端的第二十二表面S22。该第十三透镜27包括靠近放大端的第二十三表面S23及靠近该缩小端的第二十四表面S24。其中,该第十三表面S13、该第十四表面S14、该第十五表面S15、该第十六表面S16、该第十七表面S17、该第十八表面S18、该第十九表面S19、该第二十表面S20、该第二十一表面S21、该第二十二表面S22、该第二十三表面S23及该第二十四表面S24均为球面。
该光阑50位于该第九透镜23与第十透镜24之间,以限制光通量,并让经过该第九透镜23后的光锥能更加对称,使该投影镜头100的慧差得以修正。本实施方式中,为了更加节省空间,该第十透镜24的第十八表面S18上的一外围环状区域涂黑以当作该光阑50。
为了降低成本,该第一透镜组10包括至少一塑料镜片(如射出成型,利于量产)。本实施方式中,该第一透镜11及该第三透镜13均为塑料镜片。可以理解,为保证良好的成像质量,其他镜片可采用玻璃材料制成。
当该投影镜头100投影时,光线从DMD的成像表面40射出,依次经过该保护玻璃30、该第二透镜组20及该第一透镜组10,最后投射于投影屏幕上。该保护玻璃30从放大端至缩小端包括靠近放大端的第二十五表面S25以及靠近缩小端的第二十六表面S26。其中,该保护玻璃30用于保护该成像表面40。
本实施方式的投影镜头100满足以下条件式:
(1) 4.5<∣F1∣/F<6;
其中,F1为该第一透镜11的有效焦距,其值为负值;F为该投影镜头100的有效焦距,其值为正值。
满足条件式(1),使∣F1∣/F的值大于4.5可以保证该第一透镜11不需要使用较高折射率的硝材,降低了生产成本,且场曲容易修正,同时使∣F1∣/F的值小于6可以保证该第一透镜11的靠近该成像表面40的曲面的顶点到承靠平面距离较短,不仅容易量测面形规则度,而且使镀膜更均匀,在成像方面减少受到杂散光的影响,具有较好的成像品质。
更加优选地,该投影镜头100还满足以下条件式:
(2) 0.02<1/∣F1∣+1/∣F3∣<0.06;
其中,F1为该第一透镜11的有效焦距,其值为负值;F3为该投影镜头100的第三透镜13的有效焦距,其值为负值。
满足条件式(2),使∣F1∣+1/∣F3∣的值大于0.02可以保证畸变容易得到补偿,同时,∣F1∣+1/∣F3∣的值小于0.06可以降低温度对该投影镜头100的影响,进一步保证了成像品质。
下面请参照图2~图7,以具体实施方式来详细说明本发明的投影镜头100。
以下每个实施方式中,F为该投影镜头100的有效焦距;F1为该第一透镜11的有效焦距;F3为该第三透镜13的有效焦距;FNo为该投影镜头100的光圈数;2ω为该投影镜头100的视场角;R为对应表面的曲率半径,D为对应表面到后一个表面的轴上距离(两个表面截得光轴的长度),Nd为对应表面到后一个表面组成的透镜对d光(波长为587纳米)的折射率,Vd为对应表面到后一个表面组成的透镜的阿贝数。
第一实施方式
本实施方式的投影镜头100的各光学元件满足表1、表2及表3的条件。
表1
表面 | 透镜表面 | R(mm) | D(mm) | Nd | Vd |
1 | 非球面 | -119.5143 | 5.126748 | 1.525279 | 55.950760 |
2 | 非球面 | 23.87856 | 12.73868 | -- | -- |
3 | 球面 | 50.26009 | 1.864574 | 1.744001 | 44.899072 |
4 | 球面 | 19.31296 | 3.596751 | -- | -- |
5 | 非球面 | 16.38402 | 2.306044 | 1.531131 | 55.753858 |
6 | 非球面 | 10.06345 | 6.10837 | -- | -- |
7 | 球面 | -298.061 | 3.792252 | 1.772487 | 49.590644 |
8 | 球面 | 25.49962 | 4.537637 | -- | -- |
9 | 球面 | 44.00633 | 5.525943 | 1.728250 | 28.315013 |
10 | 球面 | -54.79348 | 0.8464487 | -- | -- |
11 | 球面 | -439.6833 | 5.326233 | 1.516798 | 64.198266 |
12 | 球面 | -84.18804 | 1.772943 | -- | -- |
13 | 球面 | -582.5401 | 5.573058 | 1.487489 | 70.441128 |
14 | 球面 | -47.16525 | 7.384164 | -- | -- |
15 | 球面 | 26.76838 | 6.738165 | 1.625886 | 35.713790 |
16 | 球面 | -9.901512 | 1.317118 | 1.834000 | 37.345047 |
17 | 球面 | 19.78821 | 0.4918053 | -- | -- |
18 | Stop | 15.61624 | 3.737973 | 1.517420 | 52.150780 |
19 | 球面 | -13.49637 | 0.6368761 | -- | -- |
20 | 球面 | 28.79612 | 3.746964 | 1.496997 | 81.608364 |
21 | 球面 | -9.470331 | 0.8224026 | 1.701542 | 41.148948 |
22 | 球面 | 15.24539 | 0.4093521 | -- | -- |
23 | 球面 | 18.64409 | 3.171194 | 1.487489 | 70.441128 |
24 | 球面 | -17.80329 | 21.09532 | -- | -- |
25 | 球面 | 无穷大 | 1.05 | 1.516798 | 64.198266 |
26 | 球面 | 无穷大 | 1.1 | -- | -- |
IMA | 球面 | 无穷大 | -- | -- | -- |
表2
非球面系数 | S1 | S2 | S5 | S6 |
A4 | 2.1654049e-005 | -2.4879703e-005 | -0.00018895388 | -9.3106332e-005 |
A6 | -1.7123811e-008 | 1.3178559e-007 | 3.8202434e-007 | -4.5099436e-007 |
A8 | 6.8269893e-012 | -7.1056829e-011 | -1.782508e-009 | 4.6854112e-009 |
A10 | -5.6946563e-015 | -8.0353617e-013 | 5.2767848e-012 | -8.6371934e-013 |
A12 | 1.471007e-017 | 9.1321857e-016 | 5.6308458e-015 | 1.8972789e-014 |
A14 | -1.5087722e-020 | 7.7608282e-019 | 1.4484761e-017 | 5.2651015e-016 |
A16 | 5.3163673e-024 | -1.2353027e-021 | -3.4293024e-019 | -3.8960328e-018 |
表3
项目 | F(mm) | FNo | F1(mm) | F3(mm) | ∣F1∣/F | ∣F1∣+1/∣F3∣ |
规格 | 7.01 | 2.6 | -37.28 | -56.03 | 5.3 | 0.045 |
对符合上述条件的投影镜头100进行测试时,采样的光线波长分别为450纳米、550纳米、630纳米、480纳米以及590纳米。
在本实施方式中,该投影镜头100投影时的像差、场曲以及畸变分别如图2至图4所示。图2中曲线a1-a5分别为波长为450纳米、550纳米、630纳米、480纳米以及590纳米的光线于投影镜头100中的像差曲线。本实施方式的投影镜头100对可见光产生的像差控制在(-0.2mm,0.2mm)范围内。图3中,曲线t及s分别为子午场曲特性曲线及弧矢场曲特性曲线,其中t1-t5分别为波长为450纳米、550纳米、630纳米、480纳米以及590纳米的光线的子午场曲特性曲线,s1-s5分别为波长为450纳米、550纳米、630纳米、480纳米以及590纳米的光线的弧矢场曲特性曲线。可见,子午场曲值和弧矢场曲值被控制在(-0.2mm,0.2mm)范围内。图4中曲线d1-d5分别为波长为450纳米、550纳米、630纳米、480纳米以及590纳米的光线于投影镜头100中的畸变特性曲线。由图可知,畸变量被控制在(-0.5%,0.5%))(与图4不一致)范围内。由此可见,该投影镜头100的像差、场曲、畸变都能被控制在较小的范围内。
第二实施方式
本实施方式的投影镜头100的各光学元件满足表4、表5及表6的条件。
表4
表面 | 透镜表面 | R(mm) | D(mm) | Nd | Vd |
1 | 非球面 | -142.1265 | 4.090293 | 1.525279 | 55.950760 |
2 | 非球面 | 23.42297 | 13.3142 | -- | -- |
3 | 球面 | 67.07086 | 2.36738 | 1.815999 | 46.571898 |
4 | 球面 | 14.32691 | 4.136782 | -- | -- |
5 | 非球面 | 18.17428 | 1.944964 | 1.531131 | 55.753858 |
6 | 非球面 | 13.3652 | 4.843956 | -- | -- |
7 | 球面 | -96.07466 | 2.266589 | 1.804200 | 46.502537 |
8 | 球面 | 26.57234 | 1.920898 | -- | -- |
9 | 球面 | 49.23711 | 7.097836 | 1.805181 | 25.456421 |
10 | 球面 | -95.31072 | 0.8063903 | -- | -- |
11 | 球面 | 68.61087 | 5.11252 | 1.548100 | 45.886233 |
12 | 球面 | -45.46443 | 5.149678 | -- | -- |
13 | 球面 | 281.2653 | 7.417814 | 1.531719 | 48.755584 |
14 | 球面 | -27.38266 | 8.920428 | -- | -- |
15 | 球面 | 31.84056 | 3.31622 | 1.532561 | 45.942878 |
16 | 球面 | -10.10198 | 1.800874 | 1.834000 | 37.345047 |
17 | 球面 | 21.54554 | 0.7624864 | -- | -- |
18 | Stop | 14.96408 | 2.890841 | 1.517419 | 52.189002 |
19 | 球面 | -12.90413 | 0.256056 | -- | -- |
20 | 球面 | 32.80563 | 2.982972 | 1.531722 | 48.854767 |
21 | 球面 | -8.423573 | 0.8866409 | 1.701542 | 41.148948 |
22 | 球面 | 14.73699 | 0.8969876 | -- | -- |
23 | 球面 | 23.49188 | 3.856434 | 1.487489 | 70.441128 |
24 | 球面 | -16.13902 | 21.21881 | -- | -- |
25 | 球面 | 无穷大 | 1.05 | 1.516798 | 64.198266 |
26 | 球面 | 无穷大 | 1.1 | -- | -- |
IMA | 球面 | 无穷大 | -- | -- | -- |
表5
非球面系数 | S1 | S2 | S5 | S6 |
A4 | 2.5289199e-005 | -2.072531e-005 | -0.00019648251 | -0.00011192903 |
A6 | -2.2743114e-008 | 1.034622e-007 | 4.326279e-007 | -1.7162945e-007 |
A8 | 9.6480706e-012 | -6.4665438e-012 | -1.1243956e-009 | 4.4433463e-009 |
A10 | -5.985568e-016 | -8.9628585e-013 | 5.0452097e-012 | 1.4977246e-011 |
A12 | 1.1031934e-017 | 7.167733e-016 | 2.2552433e-014 | -7.9667271e-014 |
A14 | -2.153744e-020 | 1.5764003e-018 | -4.8455088e-017 | -4.8827854e-016 |
A16 | 1.1265646e-023 | -1.8233269e-021 | -1.0694673e-018 | 9.6113294e-020 |
表6
项目 | F(mm) | FNo | F1(mm) | F3(mm) | ∣F1∣/F | ∣F1∣+1/∣F3∣ |
规格 | 6.98 | 2.68 | -37.8 | -56.03 | 5.42 | 0.035 |
在本实施方式中,该投影镜头100投影时的像差、场曲以及畸变分别如图5至图7所示。图5中曲线a6-a10分别为波长为450纳米、550纳米、630纳米、480纳米以及590纳米的光线于投影镜头100中的像差曲线。本实施方式的投影镜头100对可见光产生的像差控制在(-0.2mm,0.2mm)范围内。图3中,曲线t及s分别为子午场曲特性曲线及弧矢场曲特性曲线,其中t6-t10分别为波长为450纳米、550纳米、630纳米、480纳米以及590纳米的光线的子午场曲特性曲线,s6-s10分别为波长为450纳米、550纳米、630纳米、480纳米以及590纳米的光线的弧矢场曲特性曲线。可见,子午场曲值和弧矢场曲值被控制在(-0.2mm,0.2mm)范围内。图4中曲线d6-d10分别为波长为450纳米、550纳米、630纳米、480纳米以及590纳米的光线于投影镜头100中的畸变特性曲线。由图可知,畸变量被控制在(-1%,1%)范围内。由此可见,该投影镜头100的像差、场曲、畸变都能被控制在较小的范围内。
该投影镜头100在保证良好投影画面品质的要求的同时降低了生产成本。
虽然本发明已以较佳实施方式披露如上,但是,其并非用以限定本发明,另外,本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化等。当然,这些依据本发明精神所做的变化,都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
Claims (10)
1.一种投影镜头,从放大端至缩小端依次包括:一个具有负光焦度的第一透镜组及一个具有正光焦度的第二透镜组,该第一透镜组包括一个靠近放大端的第一透镜,该投影镜头满足以下条件式:
4.5<∣F1∣/F<6;
其中,F1为该第一透镜的有效焦距;F为该投影镜头的有效焦距。
2.如权利要求1所述的投影镜头,其特征在于,所述投影镜头还满足以下条件:
0.02<1/∣F1∣+1/∣F3∣<0.06;
其中,F1为该第一透镜的有效焦距;F3为该投影镜头的第三透镜的有效焦距。
3.如权利要求1所述的投影镜头,其特征在于,该第一透镜具有负光焦度,从放大端到缩小端,该第一透镜组还依次包括一个具有负光焦度的第二透镜、一个具有负光焦度的第三透镜、一个具有负光焦度的第四透镜、一个具有正光焦度的第五透镜及一个具有正光焦度的第六透镜。
4.如权利要求3所述的投影镜头,其特征在于,该第一透镜及该第三透镜均为塑料镜片。
5.如权利要求3所述的投影镜头,其特征在于,该第二透镜、该第四透镜、该第五透镜及该第六透镜均为球面透镜。
6.如权利要求1所述的投影镜头,其特征在于,从放大端到缩小端,该第二透镜组依次包括一个具有正光焦度的第七透镜、一个具有正光焦度的第八透镜、一个具有负光焦度的第九透镜、一个具有正光焦度的第十透镜、一个具有正光焦度的第十一透镜、一个具有负光焦度的第十二透镜及一个具有正光焦度的第十三透镜。
7.如权利要求6所述的投影镜头,其特征在于,该第八透镜与该第九透镜为胶合透镜,该第十一透镜与该第十二透镜为胶合透镜。
8.如权利要求6所述的投影镜头,其特征在于,该第七透镜、该第八透镜、该第九透镜、该第十透镜、该第十一透镜、该第十二透镜及该第十三透镜均为球面透镜。
9.如权利要求6所述的投影镜头,其特征在于,该投影镜头还包括一个光阑,该光阑位于该第九透镜与第十透镜之间。
10.如权利要求1所述的投影镜头,其特征在于,该投影镜头还包括一个靠近该缩小端的成像表面及一个保护玻璃,该保护玻璃设置于该第二透镜组与该成像表面之间。
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