发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种整合有闪存和EEPROM的存储器,能将闪存存储阵列和EEPROM存储阵列整合到同一IP内,能实现页擦写和字节擦写两种擦写方式,还能缩小芯片面积。
为解决上述技术问题,本发明提供一种整合有闪存和EEPROM的存储器,闪存存储阵列和EEPROM存储阵列形成于同一存储器模块内,所述EEPROM存储阵列位于所述闪存存储阵列的旁侧,所述闪存存储阵列和所述EEPROM存储阵列共用周边电路;所述闪存存储阵列和所述EEPROM存储阵列的P阱互相隔离,所述闪存存储阵列和所述EEPROM存储阵列的字线互相独立、且分别提供电压。
进一步的改进是,所述闪存存储阵列由行列排列的多个闪存器件组成,所有的所述闪存器件形成于同一P阱中,每一行的所述闪存器件的字线都连接在一起。
进一步的改进是,所述EEPROM存储阵列包括1列以上,所述EEPROM存储阵列的每一列都包括多个EEPROM器件,各列的所述EEPROM器件排列成行列结构;每一列的所述EEPROM器件形成于同一P阱中,不同列之间的P阱互相隔离;同一行不同列的各所述EEPROM器件的字线互相独立、且分别提供电压。
进一步的改进是,所述周边电路包括行解码器、灵敏放大器、电流源产生电路、电荷泵电路、数据锁存电路以及列选择电路;所述数据锁存电路包括一擦写标志位,所述擦写标志位用于控制所选定的列进行擦写操作。
本发明能将闪存存储阵列和EEPROM存储阵列整合到同一IP如嵌入式非挥发性存储器模块内,能实现页擦写和字节擦写两种擦写方式,能实现以页擦写为主、字节擦写为辅的运用。本发明的闪存存储阵列和EEPROM存储阵列共用周边解码电路、灵敏放大器以及电荷泵等电路,能缩小芯片面积,节省成本。
具体实施方式
如图1所示,是本发明实施例整合有闪存和EEPROM的存储器阵列示意框图。
本发明实施例整合有闪存和EEPROM的存储器的闪存(Flash)存储阵列和EEPROM存储阵列形成于同一存储器模块内。Flash存储阵列和EEPROM存储阵列都采用SONOS(硅-氧化硅-氮化硅-氧化硅-硅)工艺形成。
所述EEPROM存储阵列位于所述闪存存储阵列的旁侧。所述EEPROM存储阵列包括1列以上。每一列如图1中所示的EEPROM存储阵列_byte_1。所述EEPROM存储阵列的列数的多少根据实际需要确定。
所述闪存存储阵列和所述EEPROM存储阵列共用周边电路;如图1中所示的数据锁存电路以及列选择电路。所述周边电路还包括行解码器、灵敏放大器、电流源产生电路、电荷泵电路等。所述数据锁存电路包括一擦写标志位,所述擦写标志位用于控制所选定的列进行擦写操作。本发明实施例中,在进行锁存数据操作时,不仅要将需要些的数据锁存到寄存器中,同时还要将所述擦写标志位置高电位,这样才能对选定的所述闪存存储阵列和所述EEPROM存储阵列进行擦写操作。
所述闪存存储阵列和所述EEPROM存储阵列的P阱互相隔离,所述闪存存储阵列和所述EEPROM存储阵列的字线互相独立、且分别提供电压。
如图2所示,是本发明实施例整合有闪存和EEPROM的存储器单元结构示意图。
所述闪存存储阵列由行列排列的多个闪存器件组成,所有的所述闪存器件形成于同一P阱中,如图2中,所有的闪存器件的衬底即P阱都连接在一起,形成的连线为衬底线Pwell_f。每一列的所述闪存器件的位线、源线都连在一起,如图2中的位线BL_f_0、BL_f_1,源线SL_f_0、SL_f_0所示。每一行的所述闪存器件的字线都连接在一起,图2中示出的所述闪存器件的两行字线分别为字线WL_f_0和WL_f_1,字线WL_f_0和WL_f_1分别通过开关连接到字线GWL_0和GWL_1上。由字线GWL_0和GWL_1以及其它字线GWL_*的电位来控制哪一行被选中进行擦写操作。
所述EEPROM存储阵列包括1列以上,图2中示出了2列。所述EEPROM存储阵列的每一列都包括多个EEPROM器件,各列的所述EEPROM器件排列成行列结构。每一列的所述EEPROM器件形成于同一P阱中,不同列之间的P阱互相隔离;如图2中的每列的所述EEPROM器件即P阱都连接在一起,形成的连线为分别为衬底线Pwell_e_0、Pwell_e_1,衬底线Pwell_e_0和Pwell_e_1之间是隔离的。每一列的所述EEPROM器件的位线、源线都连在一起,如图2中的位线BL_e_0、BL_e_1,源线SL_e_0、SL_e_0所示。同一行不同列的各所述EEPROM器件的字线互相独立、且分别提供电压。如图2中所示,第一行的所述EEPROM器件的字线WL_e_0_0和WL_e_1_0是互相隔离的,并分别通过一个开关连接到字线GWL_0上;第二行的所述EEPROM器件的字线WL_e_0_1和WL_e_1_1也是互相隔离的,并分别通过一个开关连接到字线GWL_1上。
由图2可知,其中Flash存储阵列,每页(行)的字节之间衬底没有隔离,WL也都连在一起,只支持页擦写;EEPROM存储阵列,每页的每个字节衬底和WL都相互隔离,支持字节擦写。
本发明实施例对Flash存储阵列进行擦写时,EEPROM存储阵列中的存储单元的WL、BL、SL以及衬底都接地,从而不会有擦写动作;同样,对其中任一EEPROM存储阵列的列进行擦写时,其他列的EEPROM存储阵列和Flash存储阵列也不会有擦写动作;当然也可以同时对Flash、EEPROM存储阵列进行擦写。
至于那块阵列中的单元被进行擦写操作,这完全取决于擦写之前的数据锁存操作。数据锁存电路中的所述擦写标志位用于控制图2中的开关以及产生Pwell、BL、SL电位。例如,要对Flash存储阵列进行擦写操作,这需要对Flash存储阵列对应的数据锁存电路进行数据锁存操作,Flash存储阵列对应的标志位会被置高,则图2中Flash存储阵列中所有开关导通,EEPROM存储阵列中所有开关关断,这样所有Flash存储阵列单元的栅极被置为相应的高电位,所有EEPROM存储阵列单元的栅极接地;同时Flash存储阵列对应的Pwell、BL、SL都会被赋予相应的高电位,所有EEPROM各自对应的Pwell、BL、SL都会接地。这样,Flash存储阵列单元各端都被置为相应的高电位,实现擦写操作,而所有EEPROM存储阵列单元各端都接地,不会被进行擦写操作。
“读”操作时,Flash存储阵列与各列的EEPROM存储阵列共用灵敏放大器,由列选择电路选择“读”Flash存储阵列中的存储单元或是某列EEPROM存储阵列中的存储单元。
以上通过具体实施例对本发明进行了详细的说明,但这些并非构成对本发明的限制。在不脱离本发明原理的情况下,本领域的技术人员还可做出许多变形和改进,这些也应视为本发明的保护范围。