CN103073320B - 一种ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的制备方法,以锆英石、B2O3、电极粉和SiO2微粉为主要原料,加入催化剂,以50~100MPa的压力压制成型并在保护气存在的条件下高温烧制而成。本发明用价格相对较低的原料来制备ZrB2-SiC(w),解决了ZrB2价格昂贵、强度低和韧性差的问题;采用原位合成方法,SiC(w)在ZrB2基体中分布均匀,解决SiC(w)难分散的问题;通过引入1-3%的催化剂和控制工艺参数来调控SiC(w)的形貌,可制备出满足不同需求的陶瓷原料;本发明所制备的ZrB2-SiC(w)原料的重量百分比大于97%,使其易于工业化应用。本发明工艺相对简单,烧结炉容积大,易于规模化生产。
Description
技术领域:
本发明属于无机非金属材料技术领域,涉及一种高性能陶瓷原料制备方法,尤其涉及一种ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的制备方法。
背景技术:
ZrB2具有熔点高、硬度高、导电导热性好、较低的热膨胀系数、优良的抗热震性和抗侵蚀性等。但ZrB2的强度和断裂韧性较低,限制了其在苛刻作业环境下的应用。因此,为了保证使用过程中的安全性和可靠性,必须改善ZrB2陶瓷的脆性问题,从而提高其耐热冲击性能。晶须被认为是解决陶瓷材料脆性问题的有效方法,SiC晶须有“晶须之王”的美称,具有耐高温、强度高、弹性模量高、化学稳定性好等特点,成为提高高温结构陶瓷韧性和可靠性的有效途径,为陶瓷材料的高温应用提供了广阔的前景。目前,国内外研究主要集中在SiC颗粒增强增韧ZrB2,而对于SiC晶须增强增韧的研究鲜有报道,且少量研究表明SiC晶须对ZrB2的增韧效果明显优于SiC颗粒。目前的制备方法中的ZrB2价格昂贵,且外加的SiC晶须不易在ZrB2基体中分散均匀,且ZrB2和SiC均为高熔点非氧化物,很难烧结致密化,需在高温并引入助烧剂的条件下烧结,制备工艺复杂。已有专利(申请号201210088399.4)采用溶胶-凝胶法在ZrB2颗粒表面包裹SiO2,经干燥、研磨后加入活性炭进行充分混合,混合料在流动氩气保护下加热,利用SiO2-C之间的碳热还原反应在ZrB2表面原位生成SiC(w),得到ZrB2-SiC(w)粉体,然后烧结制备出碳化硅晶须增韧二硼化锆陶瓷材料,解决了SiC(w)在基体材料中分散均匀性问题,提高了材料的性能。但此专利采用ZrB2颗粒为起始原料,价格昂贵,并采用溶胶-凝胶法不易大规模生产,很难解决其工业化应用的瓶颈。
目前制备ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的方法大都采用价格昂贵的ZrB2为原料,烧结工艺复杂;而采用化学的方法(如溶胶-凝胶法)则存在着难以大规模生产应用的问题。
发明内容:
为了解决目前ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的制备方法存在的生产原料昂贵、生产工艺复杂且不易大规模生产的问题;本发明的目的是提供一种以价格相对低廉的天然锆英石为原料、采用简单生产工艺制备ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的方法;采用此方法生产的ZrB2-SiC(w)陶瓷原料,不仅解决了单纯ZrB2强度低和韧性差的问题,而且解决了目前生产ZrB2-SiC(w)陶瓷原料所采用的原料价格昂贵,生产工艺复杂的问题。本发明制备出的高性能ZrB2-SiC(w)陶瓷原料可用于制造高温陶瓷、结构陶瓷和冶金等领域。
本发明通过以下技术方案实现:
一种ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的制备方法,以锆英石、B2O3、电极粉和SiO2微粉为主要原料,辅以催化剂,采用高温炉原位烧制合成ZrB2-SiC(w)陶瓷原料,各种原料混练均匀后以50~100MPa的压力压制成型,坯体干燥后置于烧结炉中,升温前先将炉膛抽真空,然后通入高纯氩气,升温至1100~1200℃并保温0.5~1小时;继续升温至1500~1650℃并保温1~9小时,冷却后在气流磨中粉碎至200目以下即可;原料按质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼 =100: 120~180: 150~200,占锆英石、电极粉和氧化硼总量10~20%的SiO2微粉,外加占上述物料总质量1~3%的催化剂,催化剂为Fe、Co和Ni的一种或几种。
本发明优选的技术方案如下:
原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:180:200,再加占锆英石、电极粉和氧化硼总量20%的SiO2微粉,外加催化剂为3%的Fe, 以50MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1100℃,保温0.5小时;以3℃/min的升温速率加热至1500℃并保温9小时。
本发明优选的技术方案如下:
原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:150:180,再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量15%的SiO2微粉,外加催化剂为1%的Co, 以100MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1100℃,保温0.5小时,以3℃/min的升温速率加热至1500℃并保温6小时。
本发明优选的技术方案如下:
原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:120:150,再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量10%的SiO2微粉,外加催化剂为1%的Ni, 以80MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1100℃,保温0.5小时,以3℃/min的升温速率加热至1550℃并保温3小时。
本发明优选的技术方案如下:
原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:140:150,再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量15%的SiO2微粉,外加催化剂为0.5%的Co和 0.5%的Ni, 以100MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1200℃,保温1小时,以3℃/min的升温速率加热至1600℃并保温3小时。
本发明优选的技术方案如下:
原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:140:180,再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量10%的SiO2微粉,外加催化剂为Co和 Ni, 以100MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1200℃,保温1小时,以3℃/min的升温速率加热至1650℃并保温1小时。
所述锆英石中各主要成分质量百分含量为:ZrO2≥66%,SiO2≥33%,Al2O3 ≤0.5%,TiO2 ≤0.3%,Fe2O3 ≤0.1%;其粒度<0.01mm。
所述B2O3主要成分质量百分含量为:B2O3≥99.5%,粒度<5μm 。
所述电极粉主要成分质量百分含量为:C≥99.0%,粒度<3μm。
所述SiO2微粉主要成分质量百分含量为:SiO2≥99%,粒度<3μm。
本方法中的B2O3加入量是制备ZrB2-SiC(w)的关键因素,鉴于B2O3的挥发性,应适当过量,过量太少反应不充分,过量太多易生成对复合粉体工业化应用不利的杂质相;锆英石中的硅在高温下会以SiO的形式部分挥发,因此引入适当量的SiO2微粉是制备高质量SiC(w)的关键因素;热处理温度、升温速率和保温时间是制备高性能ZrB2-SiC(w)的关键工艺参数,达不到一定温度就合成不出ZrB2-SiC(w),温度过高可能使新合成的ZrB2-SiC(w)发生变化且又浪费能源;成型压力对反应有一定影响,有一合适的成型压力才能保证反应顺利进行,压力过大影响SiC(w)的发育;ZrB2-SiC(w)的重量百分比表明其纯度,纯度越高,其质量越好;SiC(w)发育越好,在ZrB2基体中分布越均匀,其增韧效果越明显。
本发明的积极效果:
1、本发明用价格相对较低的天然锆英石辅以适量的SiO2微粉为主要原料来制备ZrB2-SiC(w),解决ZrB2价格昂贵、强度低和韧性差的问题,降低了生产成本。
2、本发明采用原位合成方法,SiC(w)在ZrB2基体中分布均匀,解决SiC(w)难分散的问题。
3、通过调整配方和温度,原位生成SiC(w)的量可控制在20-30%,对ZrB2具有良好的韧性作用。
4、通过引入1-3%的催化剂和采用不同的温度、升温速率和保温时间,可调控SiC(w)的形貌,可制备出满足不同需求的陶瓷原料。
5、所制备的ZrB2-SiC(w)原料的质量百分比大于97%,易于工业化应用。
6、本发明工艺相对简单,烧结炉容积大,易于规模化生产。
附图说明:
图1为ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的物相组成图;
图2为ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的显微结构图。
具体实施方式:
实施例1
锆英石:电极粉:氧化硼=100:180:200(质量比),再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量20%的SiO2微粉,外加3%Fe为催化剂,各种原料混练均匀后以50MPa的压力压制成型,坯体干燥后装入石墨坩埚中并置于烧结炉中。升温前先将炉膛抽真空,然后通入高纯氩气(>99.9%),在氩气流通的情况下,保持炉内微正压。以6℃/min的升温速率将坯体加热至1100℃,保温0.5小时,然后以3℃/min的升温速率将坯体加热至1500℃并保温9小时即可。
实施例2
锆英石:电极粉:氧化硼=100: 150: 180(质量比),再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量15%的SiO2微粉,外加1%Co为催化剂,各种原料混练均匀后以100MPa的压力压制成型,坯体干燥后装入石墨坩埚中并置于烧结炉中。升温前先将炉膛抽真空,然后通入高纯氩气(>99.9%),在氩气流通的情况下,在整个加热过程中保持炉内微正压。以6℃/min的升温速率将坯体加热至1100℃,保温0.5小时,然后以3℃/min的升温速率将坯体加热至1500℃并保温6小时即可。
实施例3
锆英石:电极粉:氧化硼=100:120:150(质量比),再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量10%的SiO2微粉,外加1%Ni为催化剂,各种原料混练均匀后以80MPa的压力压制成型,坯体干燥后装入石墨坩埚中并置于烧结炉中。升温前先将炉膛抽真空,然后通入高纯氩气(>99.9%),在氩气流通的情况下,在整个加热过程中保持炉内微正压。以6℃/min的升温速率将坯体加热至1100℃,保温0.5小时,然后以3℃/min的升温速率将坯体加热至1550℃并保温3小时即可。
实施例4
锆英石:电极粉:氧化硼=100: 140: 150(质量比),再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量15%SiO2微粉,外加0.5%Co和0.5%Ni为催化剂,各种原料混练均匀后以100MPa的压力压制成型,坯体干燥后装入石墨坩埚中并置于烧结炉中。升温前先将炉膛抽真空,然后通入高纯氩气(>99.9%),在氩气流通的情况下,在整个加热过程中保持炉内微正压。以6℃/min的升温速率将坯体加热至1200℃,保温1小时,然后以3℃/min的升温速率将坯体加热至1600℃并保温3小时即可。
实施例5
锆英石:电极粉:氧化硼=100: 140: 180,加入10%适量SiO2微粉,外加少量Co和Ni为催化剂,各种原料混练均匀后以100MPa的压力压制成型,坯体干燥后装入石墨坩埚中并置于烧结炉中。升温前先将炉膛抽真空,然后通入高纯氩气(>99.9%),在氩气流通的情况下,在整个加热过程中保持炉内微正压。以6℃/min的升温速率将坯体加热至1200℃,保温1小时,然后以3℃/min的升温速率将坯体加热至1650℃并保温1小时即可。
对以本发明方法制备的产品进行了物相组成和显微结构分析;利用图1中各物相峰的积分面积可以计算各物相的相对含量,可以看出,本发明制备的ZrB2-SiC(w)陶瓷原料的物相组成主要为ZrB2-SiC,还有少量高熔点相ZrC。由图2可以看出,本发明制备的ZrB2-SiC(w)陶瓷原料ZrB2为粒状的,SiC呈晶须状,且SiC晶须发育良好。
Claims (10)
1.一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法,以锆英石、B2O3、电极粉和SiO2微粉为主要原料,辅以催化剂,采用高温炉原位烧制合成ZrB2-SiCw陶瓷原料,各种原料混练均匀后以50~100MPa的压力压制成型,坯体干燥后置于烧结炉中,升温前先将炉膛抽真空,然后通入高纯氩气,先以6℃/min的升温速率升温至1100~1200℃并保温0.5~1小时;继续以3℃/min的升温速率升温至1500~1650℃并保温1~9小时,冷却后在气流磨中粉碎至200目以下即可;原料按质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:120~180:150~200,占锆英石、电极粉和氧化硼总量10~20%的SiO2微粉,外加占上述物料总质量1~3%的催化剂,催化剂为Fe、Co和Ni的一种或几种。
2.根据权利要求1所述的一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法,其特征在于:原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:180:200,再加占锆英石、电极粉和氧化硼总量20%的SiO2微粉,外加催化剂为3%的Fe,以50MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1100℃,保温0.5小时;以3℃/min的升温速率加热至1500℃并保温9小时。
3.根据权利要求1所述的一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法,其特征在于:原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:150:180,再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量15%的SiO2微粉,外加催化剂为1%的Co,以100MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1100℃,保温0.5小时,以3℃/min的升温速率加热至1500℃并保温6小时。
4.根据权利要求1所述的一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法,其特征在于:原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:120:150,再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量10%的SiO2微粉,外加催化剂为1%的Ni,以80MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1100℃,保温0.5小时,以3℃/min的升温速率加热至1550℃并保温3小时。
5.根据权利要求1所述的一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法,其特征在于:原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:140:150,再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量15%的SiO2微粉,外加催化剂为0.5%的Co和0.5%的Ni,以100MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1200℃,保温1小时,以3℃/min的升温速率加热至1600℃并保温3小时。
6.根据权利要求1所述的一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法,其特征在于:原料质量比为:锆英石:电极粉:氧化硼=100:140:180,再加入占锆英石、电极粉和氧化硼总量10%的SiO2微粉,外加催化剂为Co和Ni,以100MPa压力压制成型,以6℃/min的升温速率加热至1200℃,保温1小时,以3℃/min的升温速率加热至1650℃并保温1小时。
7.根据权利要求1、2、3、4、5或6所述的一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法:其特征在于:所述锆英石中各主要成分质量百分含量为:ZrO2≥66%,SiO2≥33%,Al2O3≤0.5%,TiO2≤0.3%,Fe2O3≤0.1%;其粒度<0.01mm。
8.根据权利要求7所述的一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法:其特征在于:所述B2O3主要成分质量百分含量为:B2O3≥99.5%,粒度<5μm。
9.根据权利要求8所述的一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法:其特征在于:所述电极粉主要成分质量百分含量为:C≥99.0%,粒度<3μm。
10.根据权利要求9所述的一种ZrB2-SiCw陶瓷原料的制备方法:其特征在于:所述SiO2微粉主要成分质量百分含量为:SiO2≥99%,粒度<3μm。
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