CN103066108A - 一种铁酸铽p-n异质结、制备方法及应用 - Google Patents

一种铁酸铽p-n异质结、制备方法及应用 Download PDF

Info

Publication number
CN103066108A
CN103066108A CN2012105787724A CN201210578772A CN103066108A CN 103066108 A CN103066108 A CN 103066108A CN 2012105787724 A CN2012105787724 A CN 2012105787724A CN 201210578772 A CN201210578772 A CN 201210578772A CN 103066108 A CN103066108 A CN 103066108A
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
ferrous acid
acid terbium
powder
heterojunction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2012105787724A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103066108B (zh
Inventor
李培刚
李文丽
吴德胜
董大银
宋佳
王顺利
沈静琴
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Zhejiang Sci Tech University ZSTU
Original Assignee
Zhejiang Sci Tech University ZSTU
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Zhejiang Sci Tech University ZSTU filed Critical Zhejiang Sci Tech University ZSTU
Priority to CN201210578772.4A priority Critical patent/CN103066108B/zh
Publication of CN103066108A publication Critical patent/CN103066108A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103066108B publication Critical patent/CN103066108B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种多铁材料p-n异质结及其制备方法,具体是指具有正向二极管整流特性的铁酸铽(TbFeO3)的p-n异质结、制备方法及其应用。本发明是由p型多铁材料TbFeO3和n型导电材料Sr0.99Nb0.01TiO3构成,其制备方法是采用射频磁控溅射沉积技术在衬底Sr0.99Nb0.01TiO3上沉积TbFeO3薄膜得到的,通过固相烧结法制备TbFeO3靶材、衬底清洗、射频磁控溅射沉积薄膜的过程。本发明的优点是在室温下具有良好的二极管正向整流特性,且制备方法简单、可重复性好。

Description

一种铁酸铽p-n异质结、制备方法及应用
技术领域
本发明涉及一种多铁材料p-n异质结及其制备方法,具体是指具有正向二极管整流特性的铁酸铽(TbFeO3)的p-n异质结、制备方法及其应用。
技术背景
近几年来,过渡金属氧化物因为其丰富的独特的性质受到广泛的关注,尤其是近来报导的铁电与铁磁共存的多铁材料。这些过渡金属氧化物可以用来制备多种器件,异质结是其中一种重要结构。由过渡金属氧化物组成的异质结,除了具有普通异质结所具有的性质外,还有望呈现出新的光电、磁电性能。
BiFeO3和TbMnO3是两种典型的多铁材料,具有丰富的物理性能和潜在的应用前景。这类材料组成的p-n结也受到科学家和工程师们的广泛关注。TbFeO3(TFO)具有扭曲的钙钛矿结构,属正交晶系,空间群为pbnm。我们可以在TbMnO3中用Fe替代Mn,或在BiFeO3中用Fe替代Bi获得TFO。大多数文献报道都是关于TFO块材的磁性能和晶体结构方面的研究。TFO中Fe3+在TN1=692K以下是反铁磁自旋,Tb3+在TN2=4.2K以下是反铁磁自旋。TFO在200K左右发生自旋重取向现象。在我们以往的工作中,发现在TFO块材在200K时电输运特性发生异常,这可能是因为在此温度下发生了磁电耦合效应。目前已经有文献报道了TbFeO3块体材料的合成,但是薄膜异质结构生长还未见报道。
发明内容
本发明的目的是利用射频磁控溅射技术在n型导电材料掺铌钛酸锶Sr0.99Nb0.01TiO3衬底上外延生长一层p型多铁材料薄膜TbFeO3,从而构成多铁材料TbFeO3p-n异质结。
在本发明中,该异质结在室温下具有良好的二极管正向整流特性,且制备方法可简单、可重复性好。
步骤如下
(1)固相烧结法制备TbFeO3靶材
第一步:将Tb4O7粉末和Fe2O3粉末混合,然后充分研磨1h;其中Tb4O7粉末与Fe2O3粉末的摩尔比为1:2;
第二步:将研磨好的混合粉末放置氧化铝坩埚内,在高温炉内以1100°C高温下烧结10h后,随炉冷却至室温后取出;
第三步:继续充分研磨1h后压片,压成直径为20mm的圆饼状,然后将圆饼状片放在高温炉内以1350°C高温下烧结20h后,随炉冷却至室温后取出;
第四步:重复第三步;
第五步:将第四步得到的产物充分研磨1h后,将研磨后的混合粉末放入直径为50mm的膜腔内,在12—18MPa压力范围内压成预成型体;然后在高温1350°C下烧结预成型体15h,得到TbFeO3靶材。
(2)衬底清洗
n型导电材料掺铌钛酸锶Sr0.99Nb0.01TiO3衬底的清洗步骤如下:
第一步:将衬底浸没在装有去离子水的烧杯中,衬底正面朝上,超声清洗5分钟;
第二步:取出用去离子水冲洗的衬底,浸入质量分数为99.7%的酒精中,超声清洗10分钟;
第三步:将衬底浸没在去离子水中,超声清洗5分钟;
第四步:将衬底浸入质量分数为99.5%的丙酮溶液中,超声清洗10分钟;
第五步:将衬底浸没在去离子水中,超声清洗5分钟后吹干待用。
(3)射频磁控溅射沉积薄膜
第一步:将步骤(1)制备的TbFeO3靶材安装在沉积室中的靶托上;
第二步:将清洗好的衬底固定在样品托上,然后将样品托放置在沉积室中的加热器上;
第三步:对沉积室抽真空,至真空度到达1.0×10-4Pa;
第四步:通过加热器对衬底进行加热,加热至760°C;
第五步:打开气体通路通入高纯氩气,调节闸板阀,将气压调到1.0Pa;
第六步:打开射频源,靶材起辉后,以较低功率预溅射5分钟;
第七步:调节功率至100W,去掉衬底挡板,正式沉积薄膜。
沉积时间为3h,之后关闭气路,关闭加热器使衬底自然降至室温,取出衬底,即可制得具有正向二极管整流特性的铁酸铽p-n异质结。
有益效果:本发明在室温下具有良好的二极管正向整流特性,且制备方法简单、可重复性好。
附图说明
图1是用本发明方法制备的TbFeO3靶材的XRD图;
图2是用本发明方法制备的TbFeO3薄膜的XRD图;
图3是用本发明方法制得铁酸铽p-n异质结在室温下的电流-电压特性曲线。
具体实施方式
以下结合实例进一步说明本发明,
实施例1
具体步骤如下:
(1)固相烧结法制备TbFeO3靶材
第一步:将1mol的Tb4O7粉末和2mol的Fe2O3粉末混合,然后充分研磨1h;
第二步:将研磨好的混合粉末放置氧化铝坩埚内,在高温炉内以1100°C高温下烧结10h后,随炉冷却至室温后取出;
第三步:继续充分研磨1h后压片,压成直径为20mm的圆饼状,然后将圆饼状片放在高温炉内以1350°C高温下烧结20h后,随炉冷却至室温后取出;
第四步:重复第三步;
第五步:将第四步得到的产物充分研磨1h后,将研磨后的混合粉末放入直径为50mm的膜腔内,在12—18MPa压力范围内压成预成型体;然后在高温1350°C下烧结预成型体15h,得到TbFeO3靶材。
(2)衬底清洗
n型导电材料掺铌钛酸锶Sr0.99Nb0.01TiO3衬底的清洗步骤如下:
第一步:将衬底浸没在装有去离子水的烧杯中,衬底正面朝上,超声清洗5分钟;
第二步:取出用去离子水冲洗的衬底,浸入质量分数为99.7%的酒精中,超声清洗10分钟;
第三步:将衬底浸没在去离子水中,超声清洗5分钟;
第四步:将衬底浸入质量分数为99.5%的丙酮溶液中,超声清洗10分钟;
第五步:将衬底浸没在去离子水中,超声清洗5分钟后吹干待用。
(3)射频磁控溅射沉积薄膜
第一步:将步骤(1)制备的TbFeO3靶材安装在沉积室中的靶托上;
第二步:将清洗好的衬底固定在样品托上,然后将样品托放置在沉积室中的加热器上;
第三步:对沉积室抽真空,至真空度到达1.0×10-4Pa;
第四步:通过加热器对衬底进行加热,加热至760°C;
第五步:打开气体通路通入高纯氩气,调节闸板阀,将气压调到1.0Pa;
第六步:打开射频源,靶材起辉后,以较低功率预溅射5分钟;
第七步:调节功率至100W,去掉衬底挡板,正式沉积薄膜。
沉积时间为3h,之后关闭气路,关闭加热器使衬底自然降至室温,取出,得到厚度约为120nm的TbFeO3薄膜。
性能测试:采用XRD进行物相分析,分析外延薄膜TbFeO3的生长质量,采用Keithley 2400表测试异质结在室温下的电流-电压特性。经测试,TbFeO3靶材的XRD图,如图1;TbFeO3薄膜的XRD图,如图2;铁酸铽p-n异质结在室温下的电流-电压特性曲线,如图3。

Claims (5)

1.一种铁酸铽p-n异质结,其特征在于:铁酸铽p-n异质结由p型半导体材料铁酸铽TbFeO3和n型导电材料掺铌钛酸锶Sr0.99Nb0.01TiO3构成。
2.如权利要求1的一种铁酸铽p-n异质结的制备方法,其特征在于:包括下列步骤:
(1)固相烧结法制备TbFeO3靶材
第一步:将Tb4O7粉末和Fe2O3粉末混合,然后充分研磨1h;其中Tb4O7粉末与Fe2O3粉末的摩尔比为1:2;
第二步:将研磨好的混合粉末放置氧化铝坩埚内,在高温炉内以1100℃高温下烧结10h后,随炉冷却至室温后取出;
第三步:继续充分研磨1h后压片,压成直径为20mm的圆饼状,然后将圆饼状片放在高温炉内以1350℃高温下烧结20h后,随炉冷却至室温后取出;
第四步:继续充分研磨1h后压片,压成直径为20mm的圆饼状,然后将圆饼状片放在高温炉内以1350℃高温下烧结20h后,随炉冷却至室温后取出;
第五步:将第四步得到的产物充分研磨1h后,将研磨后的混合粉末放入直径为50mm的膜腔内,在12—18MPa压力范围内压成预成型体;然后在高温1350℃下烧结预成型体15h,得到TbFeO3靶材;
(2)衬底清洗
n型导电材料掺铌钛酸锶Sr0.99Nb0.01TiO3衬底的清洗步骤如下:
第一步:将衬底浸没在装有去离子水的烧杯中,衬底正面朝上,超声清洗5分钟;
第二步:取出用去离子水冲洗的衬底,浸入质量分数为99.7%的酒精中,超声清洗10分钟;
第三步:将衬底浸没在去离子水中,超声清洗5分钟;
第四步:将衬底浸入质量分数为99.5%的丙酮溶液中,超声清洗10分钟;
第五步:将衬底浸没在去离子水中,超声清洗5分钟后吹干待用;
(3)射频磁控溅射沉积薄膜
第一步:将步骤(1)制备的TbFeO3靶材安装在沉积室中的靶托上;
第二步:将清洗好的衬底固定在样品托上,然后将样品托放置在沉积室中的加热器上;
第三步:对沉积室抽真空,至真空度到达1.0×10-4Pa;
第四步:通过加热器对衬底进行加热,加热至760℃;
第五步:打开气体通路通入氩气,调节闸板阀,将气压调到1.0Pa;
第六步:打开射频源,靶材起辉后,预溅射5分钟;
第七步:调节功率至100W,去掉衬底挡板,正式沉积薄膜;
沉积时间为3h,之后关闭气路,关闭加热器使衬底自然降至室温,取出衬底,即可制得具有正向二极管整流特性的铁酸铽p-n异质结。
3.根据权利要求2所述的一种制备方法,其特征在于:在步骤(1)中烧结前的混合粉末为单相结构。
4.根据权利要求2所述的一种制备方法,其特征在于:步骤(3)中在衬底上沉积的TbFeO3薄膜的厚度为120nm。
5.一种铁酸铽p-n异质结的应用,其特征在于:铁酸铽p-n异质结在二极管正向整流中的应用。
CN201210578772.4A 2012-12-27 2012-12-27 一种铁酸铽p-n异质结、制备方法及应用 Expired - Fee Related CN103066108B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210578772.4A CN103066108B (zh) 2012-12-27 2012-12-27 一种铁酸铽p-n异质结、制备方法及应用

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210578772.4A CN103066108B (zh) 2012-12-27 2012-12-27 一种铁酸铽p-n异质结、制备方法及应用

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103066108A true CN103066108A (zh) 2013-04-24
CN103066108B CN103066108B (zh) 2015-11-18

Family

ID=48108658

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210578772.4A Expired - Fee Related CN103066108B (zh) 2012-12-27 2012-12-27 一种铁酸铽p-n异质结、制备方法及应用

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103066108B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105803305A (zh) * 2016-04-08 2016-07-27 厦门大学 一种铁基铁酸铽材料及其应用

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101645464A (zh) * 2009-08-31 2010-02-10 北京航空航天大学 具有双向整流特性的铽锰氧p-n异质结及其制备方法
CN101697354A (zh) * 2009-10-20 2010-04-21 中国科学技术大学 透明外延p-n异质结薄膜及其制备方法
CN102723400A (zh) * 2011-12-31 2012-10-10 中国科学院半导体研究所 在SrTiO3衬底上调控多铁铁酸铋外延薄膜带隙的方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101645464A (zh) * 2009-08-31 2010-02-10 北京航空航天大学 具有双向整流特性的铽锰氧p-n异质结及其制备方法
CN101697354A (zh) * 2009-10-20 2010-04-21 中国科学技术大学 透明外延p-n异质结薄膜及其制备方法
CN102723400A (zh) * 2011-12-31 2012-10-10 中国科学院半导体研究所 在SrTiO3衬底上调控多铁铁酸铋外延薄膜带隙的方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105803305A (zh) * 2016-04-08 2016-07-27 厦门大学 一种铁基铁酸铽材料及其应用
CN105803305B (zh) * 2016-04-08 2017-07-18 厦门大学 一种铁基铁酸铽材料及其应用

Also Published As

Publication number Publication date
CN103066108B (zh) 2015-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Rai et al. Optical and electronic properties of NiFe 2 O 4 and CoFe 2 O 4 thin films
CN102051582B (zh) 一种在Si衬底上制备高(100)取向BiFeO3薄膜的方法
CN103839928B (zh) 一种高耐压、低漏电、高极化强度铁酸铋薄膜及其制备方法
CN103130493B (zh) 铟镓锌氧化物(igzo)纳米粉体及其制备方法与应用
CN105565798B (zh) 氧化锌靶材的制备方法及氧化锌薄膜的制备方法
CN113735565B (zh) 低锡含量ito溅射靶材、制备方法及薄膜太阳能电池
CN109166730A (zh) 一种宽温高储能的无铅柔性的介电薄膜电容器及其制备方法
CN113004032A (zh) 一种类线性高储能高效率无铅弛豫陶瓷及其制备方法
CN101306948B (zh) 一种铁电-铁磁厚膜及其制备方法
CN102260073A (zh) 氧化锌基低压压敏陶瓷薄膜材料及制备方法
CN101736303A (zh) 铬掺杂氮化钛磁性半导体多晶薄膜的制备方法
Yang et al. Preparation and characterization of self-assembled percolative BaTiO3–CoFe2O4 nanocomposites via magnetron co-sputtering
CN103132037B (zh) 4H-SiC基半导体中子探测器用的6LiF转换膜制备方法
CN103066108A (zh) 一种铁酸铽p-n异质结、制备方法及应用
CN101941838B (zh) BiFeO3-Bi0.5Na0.5TiO3基多铁性固溶体陶瓷及其制备方法
CN105296946B (zh) 一种具有a轴高度取向的铌酸铋钙薄膜材料体系及制备方法
Pękała et al. Magnetocaloric effect in nano-and polycrystalline manganite La 0.7 Ca 0.3 MnO 3
CN103199105B (zh) 一种多铁材料铁酸铽p-n异质结、制备方法及用途
CN103956325B (zh) 一种多层复合氧化物高k介质薄膜晶体管的制备方法
Agrawal et al. Room temperature optical and dielectric properties of Ca and Ni doped barium ferrite
CN103664171A (zh) 铁酸镥陶瓷材料及其制备方法和应用
CN102352485A (zh) 一种Si掺杂AlN稀磁半导体薄膜的制备方法
García‐Gallegos et al. Effect of an aluminum layer deposited with magnetron sputtering on magnetic and remanence properties of Sr-hexaferrite
CN101219478A (zh) 一种Mn掺杂SnO2室温稀磁半导体纳米粉的制备方法
CN106567040A (zh) 一种磁电复合薄膜及其制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20151118

Termination date: 20161227

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee