CN103043669A - 一种微小孔硅胶制造流程 - Google Patents
一种微小孔硅胶制造流程 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103043669A CN103043669A CN2012105739330A CN201210573933A CN103043669A CN 103043669 A CN103043669 A CN 103043669A CN 2012105739330 A CN2012105739330 A CN 2012105739330A CN 201210573933 A CN201210573933 A CN 201210573933A CN 103043669 A CN103043669 A CN 103043669A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- silica gel
- reaction tower
- temperature
- tank
- micro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
本发明涉及一种微小孔硅胶制造流程，通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗，具体流程为：在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为25-30%的硅酸钠溶液，温度为25-30℃，在配酸罐内配置含量为20-35%的硫酸溶液，温度为25-30℃，将硫酸溶液加入到反应塔内，再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内，反应后形成硅胶颗粒,硅胶颗粒在PH值在1-3的酸性溶液中老化15-18小时后，进入到水洗罐中，在30-40℃的水中进行水洗，水洗到终点后进行氨泡6-8小时，然后在烘箱内压滤烘干，即得微小孔硅胶。
Description
技术领域
本发明属于硅胶制造技术领域，具体涉及一种微小孔硅胶制造流程。
背景技术
硅胶的应用领域日渐广泛，就目前的应用来看，硅胶的应用领域主要向微粉化、微小孔化和大孔化发展，在助滤剂、消光剂、触平剂、催化剂载体、选择性吸附等应用领域都得到了很好的应用，微小孔硅胶适用于涂料、塑料、造纸、酿造、石油化工、建筑、日用化工等行业，也可以进行皮革保护专用，可有效提升这些皮革的产品质量。目前现有工艺技术在粒度分布上取得的效果还不明显。
发明内容
本发明克服了现有技术的不足，提出了一种微小孔硅胶制造流程，所述微粉硅胶制造流程是由硅酸钠与硫酸进行溶胶反应制得的，其反应示意式为：
Na2SiO3+H2SO4 
Na2SO4+H4SiO4
H4SiO4 
SiO2·nH 2 O
本发明的技术方案为： 一种微小孔硅胶制造流程，通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗，具体流程为：在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为25-30%的硅酸钠溶液，温度为25-30℃，在配酸罐内配置含量为20-35%的硫酸溶液，温度为25-30℃，将硫酸溶液加入到反应塔内，再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内，反应后形成硅胶颗粒,硅胶颗粒在PH值在1-3的酸性溶液中老化15-18小时后，进入到水洗罐中，在30-40℃的水中进行水洗，水洗到终点后进行氨泡6-8小时，然后在烘箱内压滤烘干，即得微小孔硅胶。
反应塔内反应温度为70-80℃。
水洗罐内水洗时间为30-35小时。
压滤烘干阶段烘箱的温度为100-150℃，烘干时间为48-52小时。
本发明具有如下有益效果：
1）无需对原材料进行特殊的处理。
2）生产过程都是在常压条件下进行的，有利于规模化生产。
3）水洗过程中水洗温度在常温下进行，制得的硅胶粒度分布均匀。
4）可根据客户的需要在水洗过程中进行扩孔处理，满足不同客户的指标要求。
5）缩短了生产周期，装置利用率明显提高。
以下结合具体实施方式进一步说明本发明。
具体实施方式
以下是本发明的实施实例：
实施实例1：
先将10升25%硫酸溶液加入到实验用反应塔内，再将6升配制好的SiO2含量为30%的硅酸钠溶液喷入到实验用反应塔内，塔内温度为70℃，在PH值在1-3的酸性溶液中老化15小时后进入到实验用水洗罐中，在30℃的水中进行水洗，水洗到30小时后进行氨泡7小时，然后压滤烘干阶段烘箱的温度为100℃，烘干时间为48小时实验数据如表1。
表1 实验数据表
实施实例2：
先将10升30%硫酸溶液加入到实验用反应塔内，再将6升配制好的SiO2含量为20%的硅酸钠溶液喷入到实验用反应塔内，塔内温度为80℃，在PH值在1-3的酸性溶液中老化18小时后进入到实验用水洗罐中，在38℃的水中进行水洗，水洗到31小时后进行氨泡7小时，然后压滤烘干阶段烘箱的温度为140℃，烘干时间为50小时实验数据如表2。
表2 实验数据表
实施实例3：
先将10升30%硫酸溶液加入到实验用反应塔内，再将6升配制好的SiO2含量为25%的硅酸钠溶液喷入到实验用反应塔内，塔内温度为75℃，在PH值在1-3的酸性溶液中老化17小时后进入到实验用水洗罐中，在38℃的水中进行水洗，水洗到34小时后进行氨泡7小时，然后压滤烘干阶段烘箱的温度为130℃，烘干时间为50小时实验数据如表3。
表3 实验数据表
实施实例4：
先将10升34%硫酸溶液加入到实验用反应塔内，再将6升配制好的SiO2含量为28%的硅酸钠溶液喷入到实验用反应塔内，塔内温度为67℃，在PH值在1-3的酸性溶液中老化16小时后进入到实验用水洗罐中，在32℃的水中进行水洗，水洗到34小时后进行氨泡7小时，然后压滤烘干阶段烘箱的温度为138℃，烘干时间为52小时实验数据如表4。
表4 实验数据表
实施实例5：
先将10升30%硫酸溶液加入到实验用反应塔内，再将6升配制好的SiO2含量为25%的硅酸钠溶液喷入到实验用反应塔内，塔内温度为78℃，在PH值在1-3的酸性溶液中老化16小时后进入到实验用水洗罐中，在33℃的水中进行水洗，水洗到33小时后进行氨泡7小时，然后压滤烘干阶段烘箱的温度为110℃，烘干时间为49小时实验数据如表5。
表5 实验数据表
Claims (4)
1.一种微小孔硅胶制造流程，其特征在于：通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗，具体流程为：在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为25-30%的硅酸钠溶液，温度为25-30℃，在配酸罐内配置含量为20-35%的硫酸溶液，温度为25-30℃，将硫酸溶液加入到反应塔内，再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内，反应后形成硅胶颗粒,硅胶颗粒在PH值在1-3的酸性溶液中老化15-18小时后，进入到水洗罐中，在30-40℃的水中进行水洗，水洗到终点后进行氨泡6-8小时，然后在烘箱内压滤烘干，即得微小孔硅胶。
2.根据权利要求1所述的微小孔硅胶制造流程，其特征在于：反应塔内反应温度为70-80℃。
3.根据权利要求1或2所述的微小孔硅胶制造流程，其特征在于：水洗罐内水洗时间为30-35小时。
4.根据权利要求3所述的微小孔硅胶制造流程，其特征在于：压滤烘干阶段烘箱的温度为100-150℃，烘干时间为48-52小时。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2012105739330A CN103043669A (zh) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | 一种微小孔硅胶制造流程 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2012105739330A CN103043669A (zh) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | 一种微小孔硅胶制造流程 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103043669A true CN103043669A (zh) | 2013-04-17 |
Family
ID=48056562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2012105739330A Pending CN103043669A (zh) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | 一种微小孔硅胶制造流程 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103043669A (zh) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1363514A (zh) * | 2001-01-11 | 2002-08-14 | 青岛美晶化工有限公司 | 大孔硅胶及其制造方法 |
| CN101327931A (zh) * | 2008-07-24 | 2008-12-24 | 青岛美高集团有限公司 | 一种硅胶的清洁生产方法以及硫酸的生产方法 |
| CN101591021A (zh) * | 2009-06-29 | 2009-12-02 | 青岛中能集团有限公司 | 一种粗孔块状硅胶的制备方法 |
| CN101591022A (zh) * | 2009-06-29 | 2009-12-02 | 青岛中能集团有限公司 | 一种高纯度硅胶的制备过程和方法 |
-
2012
- 2012-12-26 CN CN2012105739330A patent/CN103043669A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1363514A (zh) * | 2001-01-11 | 2002-08-14 | 青岛美晶化工有限公司 | 大孔硅胶及其制造方法 |
| CN101327931A (zh) * | 2008-07-24 | 2008-12-24 | 青岛美高集团有限公司 | 一种硅胶的清洁生产方法以及硫酸的生产方法 |
| CN101591021A (zh) * | 2009-06-29 | 2009-12-02 | 青岛中能集团有限公司 | 一种粗孔块状硅胶的制备方法 |
| CN101591022A (zh) * | 2009-06-29 | 2009-12-02 | 青岛中能集团有限公司 | 一种高纯度硅胶的制备过程和方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101830474B (zh) | 白炭黑的制备方法 | |
| CN103101916B (zh) | 一种醇分散硅溶胶的制备方法 | |
| CN110540210B (zh) | 一种低能耗大孔容硅胶及其生产方法 | |
| CN103864076A (zh) | 基于SiO2气凝胶为模板的碳化硅气凝胶制备方法 | |
| CN108033453A (zh) | 一种改性沉淀法白炭黑的制备方法 | |
| CN106115720A (zh) | 一种利用稻壳灰制备纳米二氧化硅的方法 | |
| CN102765936B (zh) | 一种采用非水溶剂工艺制备的稳定氧化锆超细粉体及其制备方法 | |
| CN103043670A (zh) | 一种新型吸水硅胶工艺流程 | |
| CN110562991A (zh) | 一种高吸油载体用白炭黑生产方法 | |
| CN1186254C (zh) | 大孔硅胶的制造方法 | |
| CN109205619A (zh) | 一种稻壳主要成分的分步提取及利用方法 | |
| CN103030150A (zh) | 一种中孔硅胶工艺流程 | |
| CN103043669A (zh) | 一种微小孔硅胶制造流程 | |
| CN105585019A (zh) | 一种吸水硅胶的制造工艺 | |
| CN103086386A (zh) | 一种超大孔硅胶工艺流程 | |
| CN105585020A (zh) | 一种硅胶的新型制作工艺 | |
| CN102757059A (zh) | 一种制备二氧化硅气凝胶的方法 | |
| CN102897773B (zh) | 一种白炭黑的制备方法及白炭黑 | |
| CN105776227A (zh) | 一种超大孔硅胶生产工艺 | |
| CN105585310A (zh) | 一种超大孔硅胶新型制造工艺 | |
| CN105523559A (zh) | 一种超大孔硅胶工艺流程 | |
| CN105585018A (zh) | 一种超大孔硅胶工艺流程 | |
| CN103058205A (zh) | 一种小孔吸附硅胶工艺流程 | |
| CN105502416A (zh) | 一种中孔硅胶的新型制造工艺 | |
| CN105752998A (zh) | 一种微小孔硅胶新型制造工艺 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130417 |