CN105523559A - 一种超大孔硅胶工艺流程 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种超大孔硅胶工艺流程，所述流程通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗，具体工艺流程为：在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为30-40%的硅酸钠溶液，温度为30-35℃，在配酸罐内配置含量为15-25%的硫酸溶液，温度为20-35℃，将硫酸溶液加入到反应塔内，再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内，反应后形成硅胶颗粒，硅胶颗粒在pH值在1-3的酸性溶液中老化15-18小时后，进入到水洗罐中，在75-85℃的水中进行水洗，水洗到终点后进行氨泡6-8小时，然后在烘箱内压滤烘干，即得超大孔硅胶。
Description
技术领域
本发明属于硅胶制造技术领域，具体涉及一种超大孔硅胶工艺流程。
背景技术
硅胶的应用领域日渐广泛，就目前的应用来看，在电子产品除潮等工业领域起干燥和保护作用的硅胶多数为超大孔硅胶，另外超大孔硅胶在助滤剂、消光剂、触平剂等应用领域都得到了很好的应用，目前现有工艺技术在粒度分布上取得的效果还不明显。
发明内容
本发明克服了现有技术的不足，提出了一种超大孔硅胶工艺流程，所述超大孔硅胶是由硅酸钠与硫酸进行溶胶反应制得。
本发明的技术方案为：一种超大孔硅胶工艺流程，所述流程通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗，具体工艺流程为：在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为30-40%的硅酸钠溶液，温度为30-35℃，在配酸罐内配置含量为15-25%的硫酸溶液，温度为20-35℃，将硫酸溶液加入到反应塔内，再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内，反应后形成硅胶颗粒,硅胶颗粒在PH值在1-3的酸性溶液中老化15-18小时后，进入到水洗罐中，在75-85℃的水中进行水洗，水洗到终点后进行氨泡6-8小时，然后在烘箱内压滤烘干，即得超大孔硅胶。
反应塔内反应温度为100-110℃。
水洗罐内水洗时间为70-75小时。
压滤烘干阶段烘箱的温度为100-150℃，烘干时间为48-52小时。
本发明具有如下有益效果：
1）无需对原材料进行特殊的处理。
2）生产过程都是在常压条件下进行的，有利于规模化生产。
3）水洗过程中水洗温度在常温下进行，制得的硅胶粒度分布均匀。
4）可根据客户的需要在水洗过程中进行扩孔处理，满足不同客户的指标要求。
5）缩短了生产周期，装置利用率明显提高。
以下结合具体实施方式进一步说明本发明。
具体实施方式
以下是本发明的实施实例：
实施实例1：
先将10升15%硫酸溶液加入到实验用反应塔内，再将6升配制好的SiO2含量为30%的硅酸钠溶液喷入到实验用反应塔内，塔内温度为105℃，在PH值在1-3的酸性溶液中老化16小时后进入到实验用水洗罐中，在78℃的水中进行水洗，水洗到70小时后进行氨泡7小时，然后压滤烘干阶段烘箱的温度为100℃，烘干时间为50小时实验数据如表1。
表1实验数据表
Claims (2)
1.一种超大孔硅胶工艺流程，其特征在于：所述流程通过配碱池、配酸罐、反应塔和水洗罐进行混合、反应和水洗，具体工艺流程为：在硅胶生产设备上通过配碱池配制SiO2含量为30-40%的硅酸钠溶液，温度为30-35℃，在配酸罐内配置含量为15-25%的硫酸溶液，温度为20-35℃，将硫酸溶液加入到反应塔内，再将配制好的硅酸钠溶液加入到反应塔内，反应后形成硅胶颗粒,硅胶颗粒在PH值在1-3的酸性溶液中老化15-18小时后，进入到水洗罐中，在75-85℃的水中进行水洗，水洗罐内水洗时间为70-75小时，水洗到终点后进行氨泡6-8小时，然后在烘箱内压滤烘干，即得超大孔硅胶。
2.根据权利要求1所述的超大孔硅胶工艺流程，其特征在于：反应塔内反应温。
Priority Applications (1)
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| CN201410571949.7A CN105523559A (zh) | 2014-10-24 | 2014-10-24 | 一种超大孔硅胶工艺流程 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN105523559A true CN105523559A (zh) | 2016-04-27 |
Family
ID=55766142
Family Applications (1)
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| CN201410571949.7A Pending CN105523559A (zh) | 2014-10-24 | 2014-10-24 | 一种超大孔硅胶工艺流程 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN105523559A (zh) |
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2014
- 2014-10-24 CN CN201410571949.7A patent/CN105523559A/zh active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20160427 |