CN103010742A - 玻璃基板搬运方法和玻璃基板层叠体形成方法 - Google Patents

Abstract

本发明的目的在于提供一种在搬运玻璃基板时不易在玻璃基板产生伤痕的玻璃基板搬运方法和玻璃基板层叠体形成方法。提供了隔着垫片通过保持件保持玻璃基板并同时搬运垫片和玻璃基板的玻璃基板搬运方法及使用了该玻璃基板搬运方法的玻璃基板层叠体形成方法、玻璃基板搬运装置、具有所述玻璃基板搬运装置的玻璃基板层叠体形成系统、以及使用了所述玻璃基板搬运方法的磁记录介质用玻璃基板的制造方法、使用了所述玻璃基板层叠体形成方法的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。

Description

玻璃基板搬运方法和玻璃基板层叠体形成方法

技术领域

本发明涉及玻璃基板搬运方法及使用了该玻璃基板搬运方法的玻璃基板层叠体形成方法、玻璃基板搬运装置、具有所述玻璃基板搬运装置的玻璃基板层叠体形成系统、以及使用了所述玻璃基板搬运方法的磁记录介质用玻璃基板的制造方法、使用了所述玻璃基板层叠体形成方法的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。

背景技术

在制造玻璃基板时，在玻璃基板的端面或主平面进行磨削、研磨等加工，以使玻璃基板的形状满足规定的条件。在制造玻璃基板的工序中，需要在对玻璃基板进行加工或前处理时搬运玻璃基板。

以往，作为搬运玻璃基板的方法，采用例如专利文献1所公开的方法，即，使玻璃基板直接接触并吸附于作为保持件的玻璃卡盘的吸附面而进行搬运。

专利文献1：日本国特开2010－238292号公报

如专利文献1所公开的那样，当使保持件直接吸附于玻璃基板的主平面而进行搬运时，存在有时会在与保持件接触的玻璃基板的表面产生伤痕的问题。特别是在要求加工精度的用途中，不希望在玻璃基板的表面产生伤痕，寻求得到其改善。

发明内容

因此，本发明鉴于现有技术存在的问题而提出，其目的在于提供一种在搬运玻璃基板时不易在玻璃基板产生伤痕的玻璃基板搬运方法。

为了解决上述课题，本发明提供一种玻璃基板搬运方法，其隔着垫片由保持件保持玻璃基板，并同时搬运垫片和玻璃基板。

发明效果

根据本发明，在搬运玻璃基板时，在保持玻璃基板的保持件和玻璃基板之间配置垫片，隔着垫片保持玻璃基板，因此可以抑制在玻璃基板的表面产生伤痕。

附图说明

图1是通过本发明所涉及的第一实施方式中的保持件来保持玻璃基板的方式的说明图。

图2是本发明所涉及的第二实施方式中的玻璃基板层叠体形成方法的说明图。

图3是本发明所涉及的第三实施方式中的玻璃基板搬运装置的说明图。

标号说明

10、22、321玻璃基板

11、25垫片

12吸附工具

24、324液体

27玻璃基板层叠体

30玻璃基板搬运装置

31玻璃基板载置部

32玻璃基板搬运机构

326垫片载置部

325玻璃基板－垫片对形成部

327垫片搬运机构

329玻璃基板－垫片对搬运机构

具体实施方式

下面，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明，但本发明不限于下述实施方式，不脱离本发明的范围而可以对下述实施方式给予各种变形及替换。

［第一实施方式］

在本实施方式中，对以下玻璃基板搬运方法进行说明，即，隔着垫片通过保持件保持玻璃基板，并同时搬运垫片和玻璃基板。

在此，首先对在上述方法中使用的垫片、玻璃基板进行说明。

对于垫片的形状并没有限定，只要至少具有通过保持件进行保持的部分、且可以在保持玻璃基板时配置于保持件和玻璃基板之间即可。因此，可以根据作为缓冲材料的性能、质量、制造工序中的操作上的要求等进行适当选择，特别是在搬运玻璃基板后的工序中使用垫片时，优选使用在其后工序中使用的垫片。这是因为，通过使用在搬运玻璃基板之后的工序中使用的垫片，不需要在搬运后对垫片进行配置、调换等，可以直接实施后工序，从而可以减少工序数。

例如，在作为玻璃基板而使用圆盘形状的磁记录介质用玻璃基板时，优选与玻璃基板的形状一致而使用圆盘形状的垫片。而且，若为在研磨外周端面时配置的垫片，则优选垫片的外径比玻璃基板的外径小，若为在研磨内周端面时配置的垫片，则优选垫片的内径比玻璃基板的内径大。

垫片的材质并没有限定，可以使用合成树脂等各种材料，但例如优选使用聚丙烯、聚乙烯、聚氨基甲酸酯等薄膜状材料。因为这些材料轻，在同时搬运玻璃基板和垫片时不会对保持件施加大的负荷，而且，可以实现作为缓冲材料的功能。

在搬运时与玻璃基板相对的垫片表面的表面粗糙度Ra（算术平均粗糙度）优选为2.0μm以下，更优选为1.7μm以下。进一步优选为1.4μm以下。

这是因为，当垫片表面的表面粗糙度比上述范围大时，在搬运时玻璃基板和垫片的位置容易错位。

而且，如后面所述，在搬运时，优选在玻璃基板和垫片之间通过配置于它们之间的液体或静电等进行吸附，特别优选该吸附力较高。因此，为了使玻璃基板和垫片两者稳定吸附而提高该吸附力，也优选与玻璃基板相对的垫片表面即垫片表面中的在搬运时与玻璃基板接触的面的表面粗糙度满足上述范围。

而且，垫片的厚度优选为0.5mm以下。这是因为，当垫片变厚时，由于施加于保持件的载荷提高，因此设备增大，故而不予优选。另外，特别如后面所述，在作为保持件而使用吸附工具、静电工具时，当垫片变厚时吸附力容易降低，因此优选具有上述范围。

但是，当垫片过薄时，难以实现作为缓冲材料的功能，有可能会在玻璃基板的表面产生伤痕，因此，其厚度更优选为0.05mm以上且0.5mm以下，特别优选为0.1mm以上且0.4mm以下。

对于玻璃基板也并没有特别限定，根据本发明的玻璃基板搬运方法，不分形状等，可以搬运各种玻璃基板。其中，对于不希望在主平面产生伤痕的玻璃基板、例如磁记录介质用玻璃基板等，可适宜使用本发明的玻璃基板搬运方法。

而且，玻璃基板的主平面中的在搬运时与垫片相对的面（接触的面）的表面粗糙度Ra优选为1.5μm以下。

这是因为，在搬运时优选玻璃基板和垫片吸附，但若与垫片的情况相同而玻璃基板的主平面的表面粗糙度较大，则两者的吸附力降低，容易剥离。为了避免该情况，优选在搬运时通过保持件隔着垫片保持的一侧的玻璃基板主平面的表面粗糙度满足上述范围。另外，特别是为了提高该吸附力，上述表面粗糙度Ra更优选为1.3μm以下，进一步优选为1.0μm以下。

玻璃基板和垫片只要在搬运时接触即可，但为了防止在搬运时两者错位或落下，优选两者较强地吸附。特别优选玻璃基板和垫片通过配置于它们之间的液体或静电进行吸附。

这样，例如当在玻璃基板和垫片之间配置有液体时，利用液体的表面张力使两者吸附。另外，在配置有静电时，也同样地利用由静电产生的电荷的吸引力使两者吸附。

在此，作为所使用的液体，根据搬运后的工序、与玻璃基板、垫片的反应性等进行选择，并没有特别限定。

作为液体若列举具体例，则可以使用不与玻璃基板、垫片进行反应的水、乙醇、油、冷却剂、研磨液等，但优选不与在搬运后进行的工序中所使用的材料、机械材料发生反应而不对性能造成影响的液体。例如，当在搬运后进行研磨工序时，优选不使用对研磨液的性能造成影响的液体，作为液体，优选使用例如水或研磨液。另外，在上述液体中，从可防止玻璃基板表面的干燥而防止附着尘埃等方面考虑，也特别优选使用水。

其次，当在玻璃基板和垫片之间配置静电时，关于在玻璃基板的表面配置静电（带电）的方法，对于程度并没有特别限定，例如也可以在对玻璃基板的表面施加电压使其带电后配置垫片而使其吸附。另外，作为保持件也可以使用静电工具来保持玻璃基板和垫片，并同时使玻璃基板和垫片之间产生静电。

接着，对在搬运时使用的保持件进行说明。

对于隔着垫片保持玻璃基板的保持件并没有特别限定，只要可以隔着垫片保持玻璃基板即可。具体而言，可以列举例如吸附工具、静电工具等。

在此，吸附工具是指将对象物吸附并保持于在吸附工具的吸附部贴附的衬垫部的表面的工具。例如可以列举以下装置，即，在对象物的表面设置吸附工具，通过用真空泵等吸引吸附工具内而将对象物保持于衬垫部。

而且，静电工具是指通过静电力在衬垫部的表面保持对象物的工具。例如，具有在电极表面贴附有电介质板的结构的工具，通过向电极施加电压使卡盘表面带电，从而在电介质板表面保持对象物。

由于上述保持件中也容易进行保持（吸附）、脱离工序，所以特别优选保持件作为吸附工具。

另外，在将玻璃基板的质量和垫片的质量的合计值设为m（kg）、将重力加速度设为g（m/s²）时，优选上述保持件的保持力F（N）满足F＞mg。这是为了防止搬运时玻璃基板或垫片落下。特别是，优选保持力F满足F＞2mg，更优选满足F＞10mg。这是因为，在搬运工序中，有时由于机器的旋转等会对保持件施加玻璃基板等的质量以上的负荷，而即使在这样的情况下，玻璃基板或垫片也不会落下。

另外，此处所说的保持力F，只要是例如吸附工具就是指吸附力。

在此，图1（A）～（C）示出保持件隔着垫片保持玻璃基板的例子。这是吸附工具12保持一组玻璃基板10和垫片11的层叠体（玻璃基板－垫片对）的状态的剖视图。

吸附工具例如可以如（A）所示那样在玻璃基板10上表面侧配置垫片11而从上表面吸附，也可以如（B）所示那样在玻璃基板10下表面侧配置垫片11而从下表面支撑。另外，无需如（A）、（B）所示那样水平地保持玻璃基板10、吸附工具12，也可以例如（C）那样沿着垂直方向保持，还可以以玻璃基板倾斜的状态保持。

另外，在此虽然以吸附工具的例子进行了说明，但在例如将静电工具作为保持件使用时也相同。

这样，本发明通过保持件同时保持并搬运垫片、玻璃基板，只要在保持件和玻璃基板之间配置垫片即可，但优选在搬运时使玻璃基板和垫片成为适当的配置。因此，在同时搬运玻璃基板和垫片之前，优选具有对玻璃基板和垫片进行定位的定位工序。

这是因为，当垫片在玻璃基板的主平面上未处在适当的位置时，有可能不能通过保持件隔着垫片保持玻璃基板。另外，若垫片和玻璃基板的位置偏离适当的配置，则重心位置偏离，有可能在搬运时落下。而且，在搬运玻璃基板后的工序中，垫片也有可能影响操作或加工。

因此，优选在搬运玻璃基板和垫片之前设置定位工序。

作为定位方法并没有特别限定，只要可以检测出玻璃基板和垫片的位置并基于该检测信号调整两者的位置即可。作为玻璃基板和垫片的位置检测单元，可以使用摄像机（相机）等各种检测器或目测等。另外，作为调整位置的方法可以列举在搬运、配置垫片时基于上述检测信号校正垫片的位置的方法，或在将垫片配置于玻璃基板上之后根据上述检测信号利用各种臂等校正垫片的位置的方法等。

根据以上说明的玻璃基板搬运方法，能够不损伤玻璃基板的主平面而搬运玻璃基板。另外，在搬运玻璃基板后的工序中使用垫片时，将垫片以层叠于玻璃基板的状态搬运，因此可以省略层叠玻璃基板和垫片的工序。

而且，本发明的玻璃基板搬运方法可以在搬运各种玻璃基板时使用，但特别适宜适用于当在玻璃基板表面部分产生伤痕时会出现问题的玻璃基板的搬运。

作为这样的玻璃基板可以列举例如磁记录介质用的玻璃基板。近年来，在磁盘中，随着记录密度的提高而对其玻璃基板要求较高的加工精度，在搬运时即使是微细的伤痕也不希望产生。

磁记录介质用玻璃基板通过进行以下工序制造而成，即：从玻璃素基板形成在中心具有圆孔的圆盘形状的玻璃基板，对端面部分进行倒角加工的形状赋予工序；进行端面部分的研磨的端面研磨工序；研磨玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；及清洗玻璃基板的清洗工序等。在本实施方式中说明的玻璃基板搬运方法在上述磁记录介质用玻璃基板的制造方法中的任一工序中都可以采用。

通过将使用了在本实施方式中说明的玻璃基板搬运方法的玻璃基板搬运工序适用于具有上述端面研磨工序、主平面研磨工序、清洗工序的磁记录介质用玻璃基板的制造方法中，相比以往，特别是不易在主平面部分产生伤痕，可以提供更高品质的玻璃基板。

［第二实施方式］

本实施方式中，对具有如下特征的玻璃基板层叠体形成方法进行说明，即，使用第一实施方式中说明的玻璃基板搬运方法，同时搬运垫片和玻璃基板，形成玻璃基板层叠体。

在此，通过作为玻璃基板使用磁记录介质用玻璃基板并使用在中央部具有圆孔的圆盘形状的垫片的例子进行说明。

对于玻璃基板层叠体形成方法，使用图2进行说明。另外，在此，通过作为保持件使用吸附工具的例进行说明，但并未限定于该例，可以使用在第一实施方式中说明了的各种保持件。

玻璃基板放置于例如玻璃基板盒21中以避免相互接触。

然后，作为图2中（a）表示的第一工序，从玻璃基板盒21将玻璃基板22取出并放置于规定位置。

接着，作为图2中（b）表示的第二工序，为了使玻璃基板和垫片吸附，从液体供给单元23向玻璃基板的表面供给液体24。此时，对于滴下的液体的量、范围并没有特别限定，优选以玻璃基板和垫片能够吸附的程度均匀地供给、滴下液体。

另外，在例如作为保持件而使用静电工具时，无需进行该第二工序。该第二工序可以根据保持件的种类来决定其实施。另外，对于在第二工序所使用的液体，如在第一实施方式中所说明的那样，可以使用各种液体，但特别优选使用水。

在图2中（c）表示的第三工序中，在滴下了上述液体的玻璃基板的表面配置垫片25，形成玻璃基板－垫片对。

在该工序中，为了使玻璃基板和垫片贴紧，也可以在配置垫片后一起进行按压玻璃基板和垫片等工序。

另外，优选在第三工序或第四工序中进行调整垫片的位置的定位工序，以使垫片和玻璃基板成为规定的配置。通过具有定位工序，在形成玻璃基板层叠体后进行端面研磨等加工时，可以高精度地加工玻璃基板。另外，也可以将玻璃基板－垫片对以稳定的状态搬运。

在图2中（d）表示的第四工序中，通过保持件保持在第三工序形成的玻璃基板－垫片对，将其搬运并载置于层叠工具26。另外，当在层叠工具26上形成有玻璃基板层叠体时，在玻璃基板层叠体上层叠玻璃基板－垫片对。在此，对于保持件未图示，但可以使用在第一实施方式中说明的各种保持件，特别优选使用吸附工具。

而且，作为层叠工具26，并没有特别限定，只要可以保持玻璃基板层叠体即可。例如，也可以使用图2所示的插通磁记录介质用玻璃基板的圆孔并支撑内周端面部的定心轴对玻璃基板进行层叠。另外，也可以使用保持玻璃基板的外周端面部的支架对玻璃基板进行层叠。

另外，优选在层叠工具26中具有为了将玻璃基板－垫片对载置于适当位置而能够检测、调整、控制其位置的机构。

作为该机构并没有特别限定，但作为检测位置的单元，可以列举例如相机等摄像机或基于红外线等的位置检测器。而且，根据来自检测器的信号，调整、控制玻璃基板－垫片对搬运机构载置玻璃基板－垫片对的位置。

通过反复进行上述第一～第四工序，可以形成玻璃基板层叠体27。

在使用了本发明的搬运方法的玻璃基板层叠体形成方法中，可以用在搬运时以玻璃基板和垫片已成对的方式进行搬运，因此可以比分别搬运玻璃基板和垫片然后将其层叠的现有方法更高效地形成玻璃基板层叠体。另外，可以抑制在玻璃基板的搬运时在玻璃基板的表面产生伤痕的情况，提供高品质的玻璃基板及玻璃基板层叠体。

以上，在本实施方式中对玻璃基板层叠体形成方法进行了说明，但可以设为包括使用了玻璃基板层叠体形成方法的玻璃基板层叠体形成工序、端面研磨工序、主平面研磨工序、清洗工序的磁记录介质用玻璃基板的制造方法。

在此，对磁记录介质用玻璃基板及磁盘的制造方法进行说明。

首先，磁记录介质用玻璃基板可以通过含有以下工序的制造方法进行制造：

（工序1）在将玻璃素基板加工为在中央部具有圆孔的圆盘形状的玻璃基板之后，对内周端面和外周端面进行倒角加工的形状赋予工序；

（工序2）研磨玻璃基板的端面（内周端面及外周端面）的端面研磨工序；

（工序3）研磨上述玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；

（工序4）对上述玻璃基板进行精密清洗并干燥的清洗工序。

然后，通过含有上述各工序的制造方法得到磁记录介质用玻璃基板通过还进行在其上形成磁性层等薄膜的工序，可以形成为磁盘。

在此，（工序1）的形状赋予工序将通过浮法、熔化法、冲压成形法、下拉法或再拉法成形的玻璃素基板加工为在中央部具有圆孔的圆盘形状的玻璃基板。另外，使用的玻璃素基板可以是非结晶玻璃，也可以是结晶化玻璃，也可以是在玻璃基板的表层具有强化层的强化玻璃。

而且，（工序2）的端面研磨工序是对玻璃基板的端面（侧面部和倒角部）进行端面研磨的工序。

端面研磨工序为了除去磁记录介质用玻璃基板的外周及/或内周的侧面部或倒角部的擦伤和凹凸以形成平滑的镜面而实施。通过将玻璃基板的侧面部或倒角部形成为平滑的镜面，来提高玻璃基板的机械强度。另外，由侧面部或端面部的凹凸捕捉的异物的数量降低，在作为磁记录介质使用时，由于侧面部或端面部的凹凸削去盒的树脂部件而产生的微粒减少。

在研磨磁记录介质用玻璃基板的外周端面和内周端面时，通常，将多个玻璃基板对准直径方向的位置而重叠，形成玻璃基板层叠体，将玻璃基板层叠体安装于端面研磨装置，使用研磨刷或研磨衬垫和研磨液进行端面研磨。

此时，也可以在相邻的玻璃基板之间插入例如垫片。通过插入垫片，刷毛或研磨液易于到达主表面和倒角部之间的边界部，因此可以更均匀地研磨外周端面或内周端面。另外，可以防止对玻璃基板的主表面的损伤。

对于（工序3）的主平面研磨工序，是使用研磨装置边向玻璃基板的主平面供给研磨液边同时研磨玻璃基板的上下主平面的工序。研磨工序可以只是一次研磨，也可以进行一次研磨和二次研磨，也可以在二次研磨之后进行三次研磨。

也可以在上述（工序2）的端面研磨工序前后中的至少一方实施主平面的抛光（例如游离磨粒抛光、固定磨粒抛光等）。另外，也可以在各工序间实施玻璃基板的清洗（工序间清洗）或玻璃基板表面的蚀刻（工序间蚀刻）。另外，主平面的抛光是指广义的主平面的研磨。

而且，在对磁记录介质用玻璃基板要求较高的机械强度时，也可以在研磨工序前、或研磨工序后、或研磨工序期间实施在玻璃基板的表层形成强化层的强化工序（例如，化学强化工序）。

在以上说明的磁记录介质用玻璃基板、磁盘的制造方法中，通过使用本实施方式的玻璃基板层叠体形成方法，在搬运玻璃基板时，在其主平面不易产生伤痕，因此可以制造高品质的磁记录介质用玻璃基板。

在上述磁记录介质用玻璃基板、磁盘的制造方法中，实施本实施方式的玻璃基板层叠体形成方法的时机不受限定，可以在需要形成层叠体的工序之前进行。例如，可以在端面研磨工序之前进行，对玻璃基板层叠体进行端面研磨。

另外，在本实施方式中，作为玻璃基板，以磁记录介质用玻璃基板为例进行了说明，但玻璃基板的种类不限定于此，只要是玻璃基板都可以适用。作为可以优选适用的玻璃基板，可以列举例如磁记录介质用、光掩模用、液晶或有机EL等显示器用、感光元件或光学滤波器等光学零件用等的玻璃基板。

［第三实施方式］

本实施方式对玻璃基板搬运装置进行说明。

本实施方式中的玻璃基板搬运装置使用在第一实施方式中说明的玻璃基板搬运方法同时搬运垫片和玻璃基板，其特征在于具有以下部件：

载置玻璃基板的玻璃基板载置部；

载置垫片的垫片载置部；

在玻璃基板的表面配置垫片的玻璃基板－垫片对形成部；

从所述玻璃基板载置部将玻璃基板搬运到所述玻璃基板－垫片对形成部的玻璃基板搬运机构；

从所述垫片载置部将垫片搬运到所述玻璃基板－垫片对形成部的垫片搬运机构；及

搬运在玻璃基板－垫片对形成部形成的玻璃基板－垫片对的玻璃基板－垫片对搬运机构。

使用图3，对上述玻璃基板搬运装置进行说明。

图3所示的玻璃基板搬运装置30具备载置有玻璃基板321的玻璃基板载置部31。图3中，作为玻璃基板载置部31表示了将玻璃基板保持于玻璃基板盒21的结构，但并没有于限定该方式，只要载置成不损伤玻璃基板即可。

而且，玻璃基板由玻璃基板搬运机构32从玻璃基板载置部31取出。

然后，设置于玻璃基板搬运机构32上的玻璃基板321通过接下来的液体供给工序部322从液体供给部323向其表面供给液体324。此外，如第二实施方式所述，本工序并非必须，可以根据保持件的种类适当设置。

而且，接着将玻璃基板搬运到玻璃基板－垫片对形成部325，从垫片载置部326通过垫片搬运机构327在玻璃基板的表面配置垫片。对于垫片搬运机构，只要可以将垫片从垫片载置部326搬运到玻璃基板上的规定位置即可，并没有特别限定。例如，可以使用与后述的玻璃基板搬运装置相同地具有各种保持件的装置。

另外，也可以在将垫片搬运到玻璃基板上之前或搬运后设置用于使玻璃基板和垫片的位置一致的定位工序。例如，优选在玻璃基板－垫片对形成部的上部设置相机等摄像机，确认玻璃基板和垫片的位置，通过垫片搬运机构327调整玻璃基板和垫片的位置。另外，也可以具有分别调整玻璃基板和垫片的位置的垫片位置调整机构。

而且，将根据以上工序得到的玻璃基板－垫片对328利用玻璃基板－垫片对搬运机构329搬运到规定的位置。

玻璃基板－垫片对搬运机构使用第一实施方式所说明的玻璃基板搬运方法，是隔着垫片通过保持件保持玻璃基板，并同时搬运垫片和玻璃基板的机构。

根据以上说明的玻璃基板搬运装置，在玻璃基板上配置垫片，隔着垫片通过保持件保持并搬运形成为玻璃基板－垫片对的部件，因此可以抑制在玻璃基板的表面产生伤痕的情况。

在此，也可以在上述玻璃基板搬运装置的基础上，在附近设置玻璃基板层叠体形成部，形成为玻璃基板层叠体形成系统。

这是通过利用玻璃基板层叠体形成部将使用上述玻璃基板搬运装置搬运的玻璃基板－垫片对层叠而形成玻璃基板层叠体的玻璃基板层叠体形成系统。

在此，作为玻璃基板层叠体形成部的结构，例如，当玻璃基板为在中心部具有圆孔的磁记录介质用玻璃基板时，可以使用第二实施方式所说明的圆柱状的定心轴。另外，也可以是保持玻璃基板的外周端面侧而形成层叠体的结构。

另外，在上述玻璃基板－垫片对搬运机构329将玻璃基板－垫片对载置于玻璃基板层叠体形成部时，优选在玻璃基板－垫片对搬运机构329及/或玻璃基板层叠体形成部具备调整、控制其位置的机构。

这是因为，在对形成的玻璃基板层叠体进行加工等的情况下，若构成玻璃基板层叠体的玻璃基板和垫片的位置错位，则加工精度有可能降低。

作为调整玻璃基板和垫片的位置的机构，并没有特别限定，可以采用各种机构。例如，可以考虑如下的机构，即，在玻璃基板层叠体形成部的上部设置可以检测玻璃基板－垫片对的位置的相机等检测器，基于其信号，进行调整、控制以使玻璃基板－垫片对搬运机构329可以将其搬运、载置到规定的位置。

通过将这样的玻璃基板层叠体形成部和在本实施方式中所说明的玻璃基板搬运装置进行组合，可以形成为玻璃基板层叠体形成系统。根据该系统，将玻璃基板和垫片一起搬运，因此无需在形成玻璃基板层叠体时另行搬运垫片，可高效率地形成玻璃基板层叠体。另外，在玻璃基板搬运时抑制在玻璃基板的表面产生伤痕的情况，因此可以提供更高品质的玻璃基板及玻璃基板层叠体。

本申请基于2011年9月22日所提出的日本专利申请2011－208148，在本申请中作为参考引入了其内容。

Claims (12)

1.一种玻璃基板搬运方法，隔着垫片通过保持件保持玻璃基板，并同时搬运垫片和玻璃基板。

2.如权利要求1所述的玻璃基板搬运方法，其特征在于，

所述保持件为吸附工具。

3.如权利要求1或2所述的玻璃基板搬运方法，其特征在于，

通过配置于所述玻璃基板和所述垫片之间的液体或静电吸附所述玻璃基板和所述垫片。

4.如权利要求1～3中任一项所述的玻璃基板搬运方法，其特征在于，

与所述玻璃基板相对的所述垫片表面的表面粗糙度Ra为2.0μm以下，所述垫片的厚度为0.5mm以下。

5.如权利要求1～4中任一项所述的玻璃基板搬运方法，其特征在于，

与所述垫片相对的所述玻璃基板的主平面的表面粗糙度Ra为1.5μm以下。

6.如权利要求1～5中任一项所述的玻璃基板搬运方法，其中，

在设定所述玻璃基板的质量和所述垫片的质量的合计值为m（kg）、重力加速度为g（m/s²）时，

所述保持件的保持力F（N）满足F＞mg。

7.如权利要求1～6中任一项所述的玻璃基板搬运方法，其特征在于，

在同时搬运垫片和玻璃基板之前具有对所述玻璃基板和所述垫片进行定位的定位工序。

8.一种玻璃基板层叠体形成方法，其特征在于，

使用权利要求1～7中任一项所述的玻璃基板搬运方法，同时搬运所述垫片和所述玻璃基板，形成玻璃基板层叠体。

9.一种玻璃基板搬运装置，使用权利要求1～7中任一项所述的玻璃基板搬运方法，同时搬运所述垫片和所述玻璃基板，其特征在于，具有：

载置所述玻璃基板的玻璃基板载置部；

载置所述垫片的垫片载置部；

在所述玻璃基板的表面配置所述垫片的玻璃基板－垫片对形成部；

将所述玻璃基板从所述玻璃基板载置部搬运到所述玻璃基板－垫片对形成部的玻璃基板搬运机构；

将所述垫片从所述垫片载置部搬运到所述玻璃基板－垫片对形成部的垫片搬运机构；及

搬运在所述玻璃基板－垫片对形成部形成的玻璃基板－垫片对的玻璃基板－垫片对搬运机构。

10.一种玻璃基板层叠体形成系统，通过对使用权利要求9所述的玻璃基板搬运装置搬运的所述玻璃基板－垫片对进行层叠而形成玻璃基板层叠体，其特征在于，

具有玻璃基板层叠体形成部。

11.一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，具有：

研磨玻璃基板的端面的端面研磨工序；

研磨玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；及

清洗玻璃基板的清洗工序；其特征在于，

具有使用了权利要求1～7中任一项所述的玻璃基板搬运方法的玻璃基板搬运工序。

12.一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，具有：

研磨玻璃基板的端面的端面研磨工序；

研磨玻璃基板的主平面的主平面研磨工序；及

清洗玻璃基板的清洗工序；其特征在于，

具有使用了权利要求8所述的玻璃基板层叠体形成方法的玻璃基板层叠体形成工序。

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