CN102929057B - 一种液晶显示面板及其制造方法和液晶显示装置 - Google Patents

一种液晶显示面板及其制造方法和液晶显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明的实施例提供一种液晶显示面板及其制造方法和液晶显示装置,涉及显示技术领域,能够避免光照对整个阵列基板上的周边电路的性能的影响,进而可以提高产品的良率。该液晶显示面板包括对盒的阵列基板和彩膜基板,阵列基板和彩膜基板之间充有液晶,阵列基板和彩膜基板的周边区域通过设置封框胶将阵列基板和彩膜基板密封,该液晶显示面板还包括:设置在阵列基板上位于阵列基板和封框胶之间的遮光层,该遮光层完全覆盖设置在阵列基板上位于显示区域外围的周边电路。本发明的实施例应用于液晶显示器制造。

Description

一种液晶显示面板及其制造方法和液晶显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种液晶显示面板及其制造方法和液晶显示装置。
背景技术
现有的显示面板制作过程中,窄边框产品一般采用紫外线(ultraviolet,简称UV)固化和热固化的方法对封框胶sealant进行固化,在紫外固化时,如果UV光从阵列基板入射,因窄边框产品的阵列基板上的周边电路设计非常密集,UV光的入射量会降低很多,对sealant固化产生影响;如果从彩膜基板入射,UV光会照射到阵列基板上,阵列基板周边电路一般是采用大量的薄膜场效应晶体管(ThinFilmTransistor,简称TFT)构成,而TFT中包含半导体有源层,这就决定了TFT的特性(如阈值电压等)会在封框胶进行紫外线光固化的过程中发生改变,从而对整个阵列基板上的周边电路的性能造成影响,进而导致产品的良率降低。
发明内容
本发明的实施例提供一种液晶显示面板及其制造方法和液晶显示装置,可以采用从彩膜基板入射UV光对封框胶进行光固化,同时能避免了光照对整个阵列基板上的周边电路的性能的影响,进而可以提高产品的良率。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
第一方面,提供一种液晶显示面板,包括对盒的阵列基板和彩膜基板,所述阵列基板和彩膜基板之间充有液晶,所述阵列基板和彩膜基板的周边区域通过设置封框胶将所述阵列基板和彩膜基板密封,还包括:
设置在所述阵列基板上位于所述阵列基板和封框胶之间的遮光层;
其中所述遮光层完全覆盖设置在所述阵列基板上位于显示区域外围的周边电路。
可选的,所述彩膜基板上的黑矩阵被所述封框胶隔断,在所述黑矩阵上在所述封框胶对应的位置形成能够通过光照的曝光窗口。
可选的,所述液晶显示面板还包括:设置在所述彩膜基板的出光面上覆盖所述曝光窗口的避光膜。
第二方面,提供一种液晶显示装置,包括上述的任一液晶显示面板。
第三方面,提供一种液晶显示面板的制造方法,包括:
在制作成型的阵列基板对应封框胶的位置上制作一层遮光层,所述遮光层完全覆盖设置在所述阵列基板上位于显示区域外围的周边电路;
在所述阵列基板和彩膜基板中的一个基板上涂布封框胶,在另一个基板上滴注液晶,然后将所述阵列基板和彩膜基板进行对盒;
对所述封框胶进行固化处理,所述固化处理包括紫外线曝光。
可选的,所述方法还包括:
将所述彩膜基板上对应所述封框胶位置的黑矩阵去除,以便在所述黑矩阵上所述封框胶对应的位置形成能够通过光照的曝光窗口。
可选的,所述方法还包括:
在对所述封框胶进行紫外线曝光后,在所述彩膜基板的出光面上形成一层覆盖所述曝光窗口的避光膜。
可选的,所述在所述彩膜基板的出光面上形成一层覆盖所述曝光窗口的避光膜,包括:
采用贴附工艺或丝网印刷工艺在所述彩膜基板的出光面上形成一层覆盖所述曝光窗口的避光膜。
可选的,所述遮光层为金属材料或不透光的树脂材料。
可选的,所述避光膜为避光胶带或光固化油墨。
本发明的实施例提供的液晶显示面板及其制造方法和液晶显示装置,通过在阵列基板和封框胶之间设置遮光层,在封框胶光固化过程中对光照起到阻挡作用,从而避免了光照对整个阵列基板上的周边电路的性能的影响;同时,采用UV光从彩膜基板入射可以保证对封框胶的固化效果,进而可以提高产品的良率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的实施例提供的一种液晶显示面板的俯视结构示意图;
图2为本发明的实施例提供的如图1所示的液晶显示面板的AA’剖面的结构示意图;
图3为本发明的实施例提供的另一种液晶显示面板的剖面结构示意图;
图4为本发明的实施例提供的一种液晶显示面板的制造方法的流程示意图;
图5为本发明的实施例提供的液晶显示面板制造过程中的一种剖面结构示意图。
附图标记:
1-阵列基板;2-彩膜基板;3-封框胶;4-遮光层;5-黑矩阵;6-曝光窗口;7-避光膜。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明的实施例提供一种液晶显示面板,参照图1、2所示,包括对盒的阵列基板1和彩膜基板2,阵列基板1和彩膜基板2之间充有液晶,阵列基板1和彩膜基板2的周边区域通过设置封框胶3将阵列基板1和彩膜基板2密封,该液晶显示面板还包括:
设置在阵列基板1上位于阵列基板1和封框胶3之间的遮光层4,其中遮光层4完全覆盖设置在阵列基板1上位于显示区域外围的周边电路。
其中,设置在阵列基板1上的周边电路包括但不限于为液晶显示面板的数据线提供数据线输入信号的数据线驱动电路和为栅线提供栅线扫描信号的栅线扫描电路。这些电路一般采用阵列基板行驱动(GateDriveronArray,简称GOA)设计。
具体的,在液晶显示面板制备流程中,对封框胶的固化,一般是从彩膜基板的出光面采用紫外光光照的方法进行固化,此时紫外光会照射到阵列基板上的周边电路上。同时,该阵列基板上的周边电路是采用GOA设计且由大量TFT构成,而TFT中包含有半导体有源层,这决定了TFT的一些特性在受到光照时会发生改变从而会影响该周边电路的性能,通过本发明的实施例在阵列基板和封框胶之间设置遮光层,且该遮光层完全覆盖阵列基板上的周边电路,即对该周边电路制作了一层遮光的保护层,从而避免了紫外光的照射对该阵列基板上周边电路性能的影响。
本发明的实施例中的遮光层材料优选不透光的金属材料例如钼(Mo)、铜(Cu)或者铝(Al)等,或者是不透光的树脂材料,例如制作彩膜基板CF(ColorFilter,简称CF)的黑矩阵(BlackMatrix,简称BM)材料或其他不透光的色阻树脂材料。
本发明的实施例提供的液晶显示面板,通过在阵列基板和封框胶之间设置遮光层,在封框胶光固化过程中对光照起到阻挡作用,从而避免了光照对整个阵列基板上的周边电路的性能的影响;同时,采用UV光从彩膜基板入射可以保证对封框胶的固化效果,进而可以提高产品的良率。
进一步的,参照图3所示,该液晶显示面板还包括:
彩膜基板2上的黑矩阵5被封框胶3隔断,在黑矩阵5上封框胶3对应的位置形成能够通过光照的曝光窗口6。
在彩膜基板2和阵列基板1对盒后,通过该曝光窗口6正面对封框胶3进行曝光,加大了对封框胶3的曝光面积,更加有利于紫外光对封框胶3的充分固化。
该液晶显示面板还包括:设置在彩膜基板2的出光面上覆盖曝光窗口6的避光膜7。
进一步,封框胶3固化需要通过曝光窗口6进行,使用紫外线曝光完成后,因为有曝光窗口6的存在,会存在产品周边漏光的现象。在阵列基板1和彩膜基板2对盒结束并进行紫外光照后,在该曝光窗口6上设置一层避光膜7,这样可以达到关闭曝光窗口6的效果,避免产品出现漏光现象。
本发明的实施例提供的液晶显示面板,通过在阵列基板和封框胶之间设置遮光层,在封框胶光固化过程中对光照起到阻挡作用,从而避免了光照对整个阵列基板上的周边电路的性能的影响;同时,采用UV光从彩膜基板入射可以保证对封框胶的固化效果,进而可以提高产品的良率;同时通过在彩膜基板上设置曝光窗口更有利于封框胶的充分固化,最后在曝光窗口覆盖避光膜,避免了产品漏光现象的发生。
本发明的实施例还提供了一种液晶显示装置,包括上述实施例中的任一液晶显示面板。所述显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
本发明的实施例提供的液晶显示装置,通过在阵列基板和封框胶之间设置遮光层,在封框胶光固化过程中对光照起到阻挡作用,从而避免了光照对整个阵列基板上的周边电路的性能的影响;同时,采用UV光从彩膜基板入射可以保证对封框胶的固化效果,进而可以提高产品的良率;同时通过在彩膜基板上设置曝光窗口更有利于封框胶的充分固化,最后在曝光窗口覆盖避光膜,避免了产品漏光现象的发生。
本发明的实施例提供一种液晶显示面板的制造方法,如图4所示,包括以下步骤:
S101、在制作成型的阵列基板对应封框胶的位置上制作一层遮光层,该遮光层完全覆盖设置在阵列基板上位于显示区域外围的周边电路。
这里,该周边电路包括但不限于液晶显示面板的栅线和数据线信号输入的电路;其中,该遮光层可以采用不透光的金属材料或者不透光的树脂材料。
具体的,若遮光层采用不透光的金属材料,该不透光的金属材料包括但不限于钼、铜或者铝等。具体为,通过溅射Sputter工艺在已成型的阵列基板上沉积一层金属层,在该金属层上涂覆光刻胶,采用掩膜板,通过曝光显影工艺使得除封框胶涂布区域外其他的像素外围区域和像素区域位置的金属层裸露出来,通过刻蚀工艺将除封框胶涂布区域外的其他像素外围区域和像素区域裸露出来的金属层除去,最后通过剥离工艺将封框胶涂布区域对应的金属层上剩余光刻胶除掉,剩下封框胶涂布区域对应的金属层,即形成遮光层。
或者可选的,若遮光层采用不透光的树脂材料,该不透光的树脂材料包括但不限于BM材料或者其他不透光的色阻树脂材料。具体为,根据彩膜基板上BM的制作工艺,一般由于BM为感光树脂材料,这里通过直接采用掩膜板,通过一次曝光显影工艺即可得到遮光层对应的图形,形成遮光层。
由于遮光层4完全覆盖设置在阵列基板1上的周边电路,使得对盒后在封框胶3进行光固化的过程中避免了光照对阵列基板1上构成周边电路的TFT的电学性能的影响。具体的,在液晶显示面板制备流程中,对封框胶3的固化一般是从彩膜基板2的出光面采用紫外光光照的方法进行固化,此时紫外光会照射到阵列基板1上的周边电路上。同时,该阵列基板1上的周边电路是采用GOA设计且由大量TFT构成,而TFT中包含有半导体有源层,这决定了TFT的一些特性在受到光照时会发生改变从而会影响该周边电路的性能,通过本发明的实施例在阵列基板1和封框胶3之间设置遮光层4,且该遮光层4完全覆盖阵列基板1上的周边电路,即对该周边电路制作了一层遮光的保护层,从而避免了紫外光的照射对该阵列基板1上周边电路性能的影响。
可选的,本发明提供的液晶显示面板的制作方法在彩膜基板的制作过程中还包括将彩膜基板上对应封框胶位置的黑矩阵去除,以便在黑矩阵上封框胶对应的位置形成能够通过光照的曝光窗口。
具体的,可以采用构图工艺,在彩膜基板的制作过程中将彩膜基板上对应封框胶位置的黑矩阵去除;这样在彩膜基板和阵列基板对盒后,通过该曝光窗口对封框胶进行曝光,加大了对封框胶的曝光面积,更加有利于紫外光对封框胶的充分固化,参照图5所示,为本发明的实施例提供的液晶显示面板制造过程中通过曝光窗口6对封框胶3进行光固化过程时,显示面板的剖面结构示意图。
S102、在阵列基板和彩膜基板中的一个基板上涂布封框胶,在另一个基板上滴注液晶,然后将阵列基板和彩膜基板进行对盒。
S103、对封框胶进行固化处理。
这里,固化处理主要为采用紫外线曝光处理,当然还可以包括加热处理。
进一步可选的,当该方法还包括在彩膜基板的出光面上形成一条能够通过光照的曝光窗口时,该方法还包括:在对封框胶进行紫外线曝光后,在彩膜基板的出光面上形成一层覆盖曝光窗口的避光膜。这里,封框胶固化需要通过曝光窗口进行,使用紫外线曝光完成后,因为有曝光窗口的存在,会存在产品周边漏光的现象。在阵列基板和彩膜基板对盒结束后,在该曝光窗口上设置一层避光膜,这样可以达到关闭曝光窗口的效果,避免产品出现漏光现象。
其中,该避光膜可以通过丝网印刷或者是贴敷的方式来制作完成。
可选的,如果采用丝网印刷形成避光膜,则具体包括根据彩膜基板上曝光窗口的设计位置,对丝网印刷的网版进行设计,同时采用对玻璃附着力好的丝网印刷材料进行印刷,这里丝网印刷材料可以选用光固化油墨,如:黑色紫外光油墨材料,印刷完成后采用紫外光掩膜板对像素外围区域和像素区域对应的位置进行遮光保护,对黑色紫外光油墨进行紫外光固化,形成避光膜。可选的,如果采用贴敷的方式形成避光膜,则直接采用普通的避光膜,如避光胶带,并根据所设计的曝光窗口的尺寸进行设计和制作,然后采用如同贴敷偏振片的工艺贴敷在曝光窗口处。
本发明的实施例提供的液晶显示面板的制造方法,通过在阵列基板和封框胶之间设置遮光层,在封框胶光固化过程中对光照起到阻挡作用,从而避免了光照对整个阵列基板上的周边电路的性能的影响;同时,采用UV光从彩膜基板入射可以保证对封框胶的固化效果,进而可以提高产品的良率;同时通过在彩膜基板上设置曝光窗口更有利于封框胶的充分固化,最后在曝光窗口覆盖避光膜,避免了产品漏光现象的发生。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板,包括对盒的阵列基板和彩膜基板,所述阵列基板和彩膜基板之间充有液晶,所述阵列基板和彩膜基板的周边区域通过设置封框胶将所述阵列基板和彩膜基板密封,其特征在于,还包括:
设置在所述阵列基板上位于所述阵列基板和封框胶之间的遮光层;
其中所述遮光层完全覆盖设置在所述阵列基板上位于显示区域外围的周边电路。
2.根据权利要求1所述的液晶显示面板,其特征在于,包括:
所述彩膜基板上的黑矩阵被所述封框胶隔断,在所述黑矩阵上在所述封框胶对应的位置形成能够通过光照的曝光窗口。
3.根据权利要求2所述的液晶显示面板,其特征在于,所述液晶显示面板还包括:
设置在所述彩膜基板的出光面上覆盖所述曝光窗口的避光膜。
4.一种液晶显示装置,其特征在于,包括如权利要求1~3所述的任一液晶显示面板。
5.一种液晶显示面板的制造方法,其特征在于,包括:
在制作成型的阵列基板对应封框胶的位置上制作一层遮光层,所述遮光层完全覆盖设置在所述阵列基板上位于显示区域外围的周边电路;
在所述阵列基板和彩膜基板中的一个基板上涂布封框胶,在另一个基板上滴注液晶,然后将所述阵列基板和彩膜基板进行对盒;
对所述封框胶进行固化处理,所述固化处理包括紫外线曝光。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
将所述彩膜基板上对应所述封框胶位置的黑矩阵去除,以便在所述黑矩阵上所述封框胶对应的位置形成能够通过光照的曝光窗口。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
在对所述封框胶进行紫外线曝光后,在所述彩膜基板的出光面上形成一层覆盖所述曝光窗口的避光膜。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述在所述彩膜基板的出光面上形成一层覆盖所述曝光窗口的避光膜,包括:
采用贴敷工艺或丝网印刷工艺在所述彩膜基板的出光面上形成一层覆盖所述曝光窗口的避光膜。
9.根据权利要求5~8所述的任一方法,其特征在于,所述遮光层为不透光的金属材料或不透光的树脂材料。
10.根据权利要求7或8所述的方法,其特征在于,所述避光膜为避光胶带或光固化油墨。
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