CN108628032A - 一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，其中显示基板包括基板，基板包括封框胶涂覆区域；形成在基板上的黑色矩阵和第一遮光层；以及形成在第一遮光层背离基板一侧的第二遮光层，其中第一遮光层以及第二遮光层在基板上的正投影均覆盖封框胶涂覆区域；当通过光照射对封框胶进行固化时，设置在第一遮光层上的第二遮光层可以保护第一遮光层，避免第一遮光层的材料如黑色矩阵材料因光照射封框胶涂覆区域而发生变性，避免第一遮光层的附着力发生变化，从而提高显示基板的可靠性。

Description

一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置。

背景技术

随着显示产品的不断发展与应用，显示基板自身显示能力需不断提升，同时对显示基板的设计与工艺要求也逐步提高；通过产品设计与工艺条件不断改善显示基板的显示能力。在现有的对盒工艺制程中包括密封胶(seal胶)固化工艺，seal胶固化一般采用UV光(Ultraviolet Rays，即紫外光线)照射使其短时间内产生高温热能使Seal胶固化。而显示基板的外围与seal胶区域相对应的区域设置有与黑色矩阵材料，当UV光照射seal胶时，黑色矩阵材料会因为UV光照射发生变性，进而影响黑色矩阵材料的附着力，在进行成品高温信赖性及机械性能等可靠性测试时容易失败。

发明内容

本发明提供一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，以提高显示基板的可靠性。

为了解决上述问题，本发明公开了一种显示基板，所述显示基板包括：

基板，所述基板包括封框胶涂覆区域；

形成在所述基板上的黑色矩阵和第一遮光层；

以及形成在所述第一遮光层背离所述基板一侧的第二遮光层，其中，所述第一遮光层以及所述第二遮光层在所述基板上的正投影均覆盖所述封框胶涂覆区域。

可选地，所述第二遮光层的材料为金属。

可选地，所述第二遮光层的材料为钼或银。

可选地，所述第二遮光层的厚度大于或等于100埃，且小于或等于1000埃。

可选地，所述第二遮光层在所述基板上的正投影呈环状，所述第二遮光层的宽度为大于或等于400微米，且小于或等于700微米。

可选地，所述显示基板还包括：

形成在所述基板和所述黑色矩阵上的色阻层；

以及保护层，所述保护层覆盖所述黑色矩阵、所述色阻层、所述第一遮光层和所述第二遮光层。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示装置，所述显示装置包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板，所述第一显示基板与所述第二显示基板之间通过封框胶封装；其中，所述第一显示基板为上述任一项所述的显示基板，所述封框胶位于所述第一显示基板的封框胶涂覆区域。

可选地，所述第一显示基板为彩膜基板，所述第二显示基板为阵列基板。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示基板的制备方法，所述制备方法包括：

提供基板，所述基板包括封框胶涂覆区域；

在所述基板上形成黑色矩阵和第一遮光层；

在所述第一遮光层背离所述基板一侧形成第二遮光层，其中，所述第一遮光层以及所述第二遮光层在所述基板上的正投影均覆盖所述封框胶涂覆区域。

可选地，所述制备方法还包括：

在所述基板和所述黑色矩阵上形成色阻层；

形成保护层，所述保护层覆盖所述黑色矩阵、所述色阻层、所述第一遮光层和所述第二遮光层。

与现有技术相比，本发明包括以下优点：

本申请提供了一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，其中显示基板包括基板，基板包括封框胶涂覆区域；形成在基板上的黑色矩阵和第一遮光层；以及形成在第一遮光层背离基板一侧的第二遮光层，其中第一遮光层以及第二遮光层在基板上的正投影均覆盖封框胶涂覆区域；当通过光照射对封框胶进行固化时，设置在第一遮光层上的第二遮光层可以保护第一遮光层，避免第一遮光层的材料如黑色矩阵材料因光照射封框胶涂覆区域而发生变性，避免第一遮光层的附着力发生变化，从而提高显示基板的可靠性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了现有技术中彩膜基板和阵列基板进行对盒的工艺流程示意图；

图2示出了现有技术中彩膜基板与封框胶的剖面结构关系示意图；

图3示出了本申请一实施例提供的一种显示基板的剖面结构示意图；

图4示出了本申请一实施例提供的一种显示基板中第二遮光层对入射光进行反射的光路结构示意图；

图5示出了本申请一实施例提供的一种显示基板中第二遮光层的平面结构示意图；

图6示出了本申请一实施例提供的另一种显示基板的剖面结构示意图；

图7示出了本申请一实施例提供的一种显示基板的制备方法的步骤流程图；

图8示出了本申请一实施例提供的一种显示基板的制备方法中完成黑色矩阵和第一遮光层制作的剖面结构示意图；

图9示出了本申请一实施例提供的另一种显示基板的制备方法的步骤流程图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

现有的阵列基板和彩膜基板对盒工艺，参照图1，例如可以在彩膜基板CF一侧进行封框胶Seal胶涂覆，在阵列基板TFT一侧进行液晶LC滴注，然后将阵列基板TFT翻转180°与彩膜基板CF进行对盒，从阵列基板TFT侧对Seal胶进行UV照射，使seal胶固化。发明人发现，由于彩膜基板CF侧seal胶涂覆区域有黑色矩阵材料21，参照图2，UV光照射会使黑色矩阵材料21发生变性，进而导致黑色矩阵材料21的附着力变化，影响显示基板的可靠性。此外，发明人还发现，现有技术是通过UV光照射在短时间内产生高温热能使Seal胶固化，若seal胶在UV Cure阶段未得到很好的固化，会使得seal胶与液晶存在相溶的风险，若液晶被污染，会使得在显示过程中液晶取向受到影响，进而导致显示异常等不良。因此，发明人认为有必要解决黑色矩阵材料变性问题，并进一步提高seal胶在UV固化阶段的固化速率，防止液晶污染。

为了解决UV固化过程中黑色矩阵材料发生变性这一问题，本申请一实施例提供了一种显示基板，参照图3，该显示基板可以包括基板30，基板30包括封框胶涂覆区域SA；形成在基板30上的黑色矩阵31和第一遮光层32；以及形成在第一遮光层32背离基板30一侧的第二遮光层33，第一遮光层32以及第二遮光层33在基板30上的正投影均覆盖封框胶涂覆区域SA。

具体的，基板30可以是玻璃基板、柔性基板或者是形成有薄膜晶体管阵列的基板等。第一遮光层32可以是与黑色矩阵31同步图案化形成在基板30上的黑色矩阵材料。在实际应用中，基板30可以包括有效显示区域AA(Active Area)、虚拟显示区域(Dummy Area)以及封框胶涂覆区域SA(Sealant Area)，黑色矩阵31可以形成在基板30的有效显示区域AA和虚拟显示区域DA，第一遮光层32可以形成在基板30的封框胶涂覆区域SA，且第一遮光层32在基板30上的正投影覆盖封框胶涂覆区域SA。

本实施例提供的显示基板在与对盒基板进行对盒的工艺过程中，可以从对盒基板侧对设置在显示基板和对盒基板之间的封框胶进行光照固化。为了避免封框胶涂覆区域SA内的第一遮光层32在封框胶固化阶段受到光照而发生变性，需要第二遮光层33在基板30上的正投影覆盖封框胶涂覆区域SA，也就是在封框胶涂覆区域SA内或者需要进行光照的区域内，第二遮光层33完全覆盖第一遮光层32。

本实施例提供的显示基板，通过在封框胶涂覆区域的第一遮光层上设置第二遮光层33，避免第一遮光层32的材料如黑色矩阵材料因光照射封框胶涂覆区域而发生变性，避免第一遮光层32的附着力发生变化，从而改善显示基板的高温信赖性测试以及机械性能测试等可靠性测试能力，提高产品良率。

当使用UV光对封框胶进行固化时，第二遮光层33的材料可以是能够遮挡UV光的材料，进一步地，第二遮光层33的材料是既能遮挡UV光又不会发生变性的材料，例如非晶硅、金属等。

为了进一步提高封框胶的固化速率，防止液晶污染，上述的第二遮光层33的材料可以是能够反光的金属材料，例如钼或银等金属材料。

参照图4，通过光照对封框胶进行固化的过程中，光线从对盒基板41一侧经封框胶42入射到第二遮光层33表面，由于第二遮光层33为可以反光的金属材料，因此，入射光线又被反射回封框胶42，使得封框胶42在单位时间、面积内可产生大量的热量，与现有技术相比，可实现封框胶42快速固化的目的，从而避免封框胶42污染液晶的风险，减少异常显示等不良。而且，如果在这一步骤封框胶42的固化效果好，还可以减少后续的热固化工序，进一步降低成本。

在实际应用中，第二遮光层的厚度可以大于或等于100埃，且小于或等于1000埃，例如300埃或500埃等。

由于第二遮光层33在基板30上的正投影覆盖封框胶涂覆区域SA，因此，第二遮光层33在基板30上的正投影呈环状，参照图5，第二遮光层33的宽度d为大于或等于400微米，且小于或等于700微米。在实际应用中，第二遮光层33的宽度d可以根据封框胶涂覆区域SA的宽度具体确定，本申请对此不作限定。

在实际应用中，上述各实施例中的第二遮光层33可以采用对封框胶进行光照固化工艺中所采用的掩膜版进行制作，从而不必增加新的掩膜版，降低成本。

在另一实施例中，参照图6，上述的显示基板还可以包括：形成在基板30和黑色矩阵31上的色阻层61；以及保护层62，保护层62覆盖黑色矩阵31、色阻层61、第一遮光层32和第二遮光层33。

具体的，色阻层61可以包括红色色阻层R、绿色色阻层G以及蓝色色阻层B，通过色阻层61使显示基板实现彩色显示。保护层62可以是透光的OverCoating层。

在本申请另一实施例中，还提供了一种显示装置，参照图4，该显示装置包括相对设置的第一显示基板40和第二显示基板41，第一显示基板40与第二显示基板41之间通过封框胶42封装；其中，第一显示基板40为上述任一实施例所述的显示基板，封框胶42位于第一显示基板40的封框胶涂覆区域SA，也就是第一显示基板40的第二遮光层33在基板30上的正投影覆盖封框胶42在基板30上的正投影。

具体的，第一显示基板40可以为彩膜基板，第二显示基板41可以为阵列基板。

本实施例提供的显示装置，通过在第一遮光层上设置第二遮光层33，且第二遮光层33在基板30上的正投影覆盖封框胶42在基板30上的正投影，从而避免第一遮光层32的材料如黑色矩阵材料因光照射封框胶而发生变性，避免第一遮光层32的附着力发生变化，进而改善显示装置的高温信赖性测试以及机械性能测试等可靠性测试能力，提高产品良率。

在本申请另一实施例中，还提供了一种显示基板的制备方法，参照图7，该制备方法可以包括：

步骤701：提供基板，基板包括封框胶涂覆区域。

步骤702：在基板上形成黑色矩阵和第一遮光层，参照图8。

具体的，可以通过构图工艺，在基板上同步形成黑色矩阵和第一遮光层。

步骤703：在第一遮光层背离基板一侧形成第二遮光层，其中，第一遮光层以及第二遮光层在基板上的正投影均覆盖封框胶涂覆区域，参照图3。

具体的，第二遮光层可以通过在封框胶涂覆区域设有开孔的掩膜版，采用磁控溅射工艺直接形成，也可以通过构图工艺形成。其中第二遮光层可以采用对封框胶进行光照固化工艺中所采用的掩膜版进行制作，从而不必增加新的掩膜版，降低成本。

具体的，参照图9，上述制备方法还可以包括：

步骤901：在基板和黑色矩阵上形成色阻层。

步骤902：形成保护层，保护层覆盖黑色矩阵、色阻层、第一遮光层和第二遮光层，参照图6。

通过本实施例制备得到的显示基板，与前述实施例具有相同的有益效果，这里不再赘述。

本申请提供了一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置，其中显示基板包括基板，基板包括封框胶涂覆区域；形成在基板上的黑色矩阵和第一遮光层；以及形成在第一遮光层背离基板一侧的第二遮光层，其中第一遮光层以及第二遮光层在基板上的正投影均覆盖封框胶涂覆区域；当通过光照射对封框胶进行固化时，设置在第一遮光层上的第二遮光层可以保护第一遮光层，避免第一遮光层的材料如黑色矩阵材料因光照射封框胶涂覆区域而发生变性，避免第一遮光层的附着力发生变化，从而提高显示基板的可靠性。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上对本发明所提供的一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (10)

1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：

基板，所述基板包括封框胶涂覆区域；

形成在所述基板上的黑色矩阵和第一遮光层；

以及形成在所述第一遮光层背离所述基板一侧的第二遮光层，其中，所述第一遮光层以及所述第二遮光层在所述基板上的正投影均覆盖所述封框胶涂覆区域。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二遮光层的材料为金属。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第二遮光层的材料为钼或银。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二遮光层的厚度大于或等于100埃，且小于或等于1000埃。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二遮光层在所述基板上的正投影呈环状，所述第二遮光层的宽度为大于或等于400微米，且小于或等于700微米。

6.根据权利要求1至5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：

形成在所述基板和所述黑色矩阵上的色阻层；

以及保护层，所述保护层覆盖所述黑色矩阵、所述色阻层、所述第一遮光层和所述第二遮光层。

7.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板，所述第一显示基板与所述第二显示基板之间通过封框胶封装；其中，所述第一显示基板为如权利要求1至6任一项所述的显示基板，所述封框胶位于所述第一显示基板的封框胶涂覆区域。

8.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述第一显示基板为彩膜基板，所述第二显示基板为阵列基板。

9.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

提供基板，所述基板包括封框胶涂覆区域；

在所述基板上形成黑色矩阵和第一遮光层；

在所述第一遮光层背离所述基板一侧形成第二遮光层，其中，所述第一遮光层以及所述第二遮光层在所述基板上的正投影均覆盖所述封框胶涂覆区域。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

在所述基板和所述黑色矩阵上形成色阻层；

形成保护层，所述保护层覆盖所述黑色矩阵、所述色阻层、所述第一遮光层和所述第二遮光层。