CN102830532B - 液晶显示面板、液晶显示装置及制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种液晶显示面板、液晶显示装置及制造方法，涉及液晶显示器领域，实现了反射区域的光线光程与透过透射区域的光线光程一致的效果，从而优化了液晶显示面板的显示性能。本发明实施例的液晶显示面板，包括：彩膜基板、阵列基板以及设置在彩膜基板与阵列基板之间的液晶层，所述彩膜基板面向液晶层的侧面上设置有凸出的基台，所述基台的高度为所述液晶层厚度的1/2，所述阵列基板面向液晶层的侧面上设置有反射层，且所述基台与所述反射层相对设置。

Description

液晶显示面板、液晶显示装置及制造方法

技术领域

本发明涉及液晶显示领域，尤其涉及一种液晶显示面板、液晶显示装置及制造方法。

背景技术

现有技术中液晶显示中多采用的是背光提供光源，其显示的亮度受背光源控制；而后提出的反射式液晶显示利用了反射外界光进行成像，显示的亮度受到外界光线强弱的影响。为了克服反射型液晶显示亮度受制于外界光线的这种缺陷，人们提出了半透半反的显示模式，即部分光来自外界光，部分则利用背光。

对于半透半反式液晶显示而言，其显示单元中必定要同时包含两部分：既包含反射外界光线的反射区域又包含透射背光的透射区域。发明人在研发过程中发现现有技术至少存在以下缺陷：因为两种光源来源不同，若不对显示结构进行相关设计，会导致两种光源的光程不同，进而导致两种显示模式的显示效果不同，影响了显示效果以及用户的使用体验。

发明内容

本发明的实施例所要解决的技术问题在于提供一种液晶显示面板、液晶显示装置及制造方法，能够使得反射光源和透射光源两种光源经过的光程相同，提高了液晶显示器的显示效果，且液晶显示面板制作工序简单易行、不会产生技术衍生问题。

为解决上述技术问题，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明提供了一种液晶显示面板，包括：

彩膜基板、阵列基板以及设置在彩膜基板与阵列基板之间的液晶层，所述彩膜基板面向所述液晶层的侧面上设置有凸出的基台，所述基台凸出部分的高度为液晶盒厚度的1/2，所述阵列基板面向所述液晶层的侧面上设置有反射层，且所述基台与所述反射层相对设置。

所述彩膜基板与所述阵列基板之间设置有柱状隔垫物。

所述基台面向液晶层的侧面设置有纳米铟锡金属氧化物ITO电极层和第一取向膜层，所述反射层面向液晶层的侧面设置有ITO电极层和第二取向膜层。

所述反射层为金属层，所述金属层为铝层。

所述液晶层所在的区域分为反射区域R和透射区域T，所述反射区域R为所述基台与所述反射层图形所对应的液晶层区域，所述透射区域T为未被所述基台与所述反射层图形所对应的液晶层区域。

所述液晶层中的液晶为负性液晶，所述负性液晶为氟基衍生物，所述氟基衍生物的分子结构中含有刚性基团结构，所述负性液晶的吸电基团在液晶分子的短轴方向。

所述彩膜基板背向液晶层的侧面设置有补偿膜、λ/4波片及上偏光片，所述阵列基板背向液晶层的侧面设置有λ/4波片及下偏光片。

本发明还提供一种液晶显示装置，包括上述的液晶显示面板。

本发明还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：

在彩膜基底上形成黑矩阵图形；

在所述黑矩阵图形上形成彩膜层；

在所述彩膜树脂层上沉积树脂层，通过构图工艺形成基台。

上述制作方法还包括：在所述基台上形成ITO电极层；

在所述ITO电极层上形成柱状隔垫物，所述柱状隔垫物位于所述彩膜基板与所述阵列基板之间。

本发明还提供了一种阵列基板的制造方法，包括：

在阵列基底上通过构图工艺形成包括公共电极、公共电极线、栅极和栅线的图形，以及第一绝缘层及钝化活动层；

在所述钝化活动层上通过构图工艺形成包括数据线，漏极和薄膜晶体管区域的图形，以及第二绝缘层；

在所述第二绝缘层上沉积反射层，通过构图工艺形成反射层区域的图形。

上述制作方法还包括：在所述第二绝缘层上刻蚀出导通孔；

在所述反射层上形成ITO电极层，所述ITO电极层通过所述导通孔与所述栅极相连接。

本发明实施例的液晶显示面板、液晶显示装置及制造方法，通过在彩膜基板面向液晶层的侧面上设置凸出的基台、在阵列基板面向液晶层的侧面上设置反射层，可以使两种不同光源走过的光程达到一致。本发明实施例的液晶显示面板结构巧妙、合理，且生产工艺简单易行，优化了液晶显示面板的显示性能，大大提高了显示效果，使用户能够得到更佳的使用体验。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例中液晶显示面板的结构示意图；

图2为本发明实施例中未加电情况下液晶显示面板的示意图；

图2a为本发明实施例中未加电情况下反射区的光学原理图；

图2b为本发明实施例中未加电情况下透射区的光学原理图；

图3为本发明实施例中加电情况下液晶显示面板的示意图；

图3a为本发明实施例中加电情况下反射区的光学原理图；

图3b为本发明实施例中加电情况下透射区的光学原理图；

图4为本发明实施例中彩膜基板制作方法流程示意图；

图4a~4e为本发明实施例中制作带凸出基台的彩膜基板的结构示意图；

图5为本发明实施例中阵列基板制作方法的流程示意图；

图5a~5f为本发明实施例中制作带反射层的阵列基板的结构示意图；

图6为本发明实施例中液晶显示面板使用的负性液晶分子式。

附图标记说明：

10、彩膜基板；11、彩膜基底；12、黑矩阵；13、彩膜层；14、基台；15、ITO电极；16、柱状隔垫物；17、补偿膜；18、λ/4波片；19、上偏光片；20、阵列基板；21、阵列基底；22、栅极；23、第一绝缘层；24、钝化活动层；25、漏极；26、第二绝缘层；27、第一取向膜层；28、第二取向膜层；29、下偏光片；30、液晶层；31、反射层。

具体实施方式

本发明实施例提供了一种液晶显示面板、液晶显示装置及制造方法，能够使得反射光源和透射光源两种光源通过的光程相同，提高了液晶显示器的显示效果。

以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、接口、技术之类的具体细节，以便透切理解本发明。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其它实施例中也可以实现本发明。在其它情况中，省略对众所周知的装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本发明的描述。

下面结合下述附图对本发明实施例做详细描述。

实施例一

本实施例提供一种液晶显示面板，如图1所示，该液晶显示面板包括：彩膜基板10、阵列基板20以及设置在彩膜基板与阵列基板之间的液晶层30，彩膜基板面向液晶层的侧面上设置有凸出的基台14，基台凸出部分的高度为液晶盒厚度的1/2。本实施例的液晶显示面板通过在彩膜基板上设置凸出的基台，从而将一个像素的显示区域划分为了反射区域R及透射区域T，反射区域R为所述基台与所述反射层图形对应的液晶层区域，透射区域T为未被所述基台与所述反射层图形对应的液晶层区域。基台凸出部分的高度为液晶盒厚度的1/2，因此反射区域液晶层的厚度为液晶盒厚度的1/2，透射区域液晶层的厚度等于液晶盒厚度。所以，当反射光进入反射区域，被反射层反射，并再次透过反射区域时，反射光经过的光程与透射区域透射光所经过的光程一致。阵列基板20面向液晶层30的侧面上设置有反射层26，基台14与反射层31相对设置，这样确保外界反射光源的光只能在反射区域被反射回去。

图2~3为本发明实施例中未加电情况下及加电情况下液晶显示面板的示意图，结合图2~3对显示面板的显示原理进行进一步的解释。

本发明上述技术方案中，上下偏光片的吸收轴方向相互垂直，第一取向膜层与第二取向膜层的取向方向也相互垂直。其中，上偏光片的吸收轴方向与第一取向膜层的取向方向一致。第一取向膜层27设置在基台14面向液晶层30的侧面上，第二取向膜层28设置在反射层31面向液晶层30的侧面上。

当未加电的情况下，如图2所示，因为取向膜层的作用，液晶分子呈垂直基底排列，这时液晶分子不会对光线进行光延迟操作，透过反射区域的光与透过透射区域的光的偏振方向均与上偏振片透过轴方向垂直，因此不会有光线透过，透过区和反射区均呈暗场。

参照图2a图2b，对图2未加电情况下反射区及透射区光线的变化过程进行解释。未加电的情况下反射区域的光线变化过程，如图2a所示，在反射区R，上偏振片19透过轴为水平方向，外界光通过偏振片后生成水平方向线偏振光。经过λ/4波片18，水平偏振光变为左旋圆偏振光。由于液晶垂直取向作用，反射区域液晶层对左旋圆偏振光无影响。左旋圆偏振光经过反射层31反射，形成右旋圆偏振光。经过λ/4波片18后，右旋圆偏振光形成垂直方向线偏振光。此时线偏振光的偏振方向和上偏振片19透过轴方向垂直，因此光线无法透出，从而反射区呈现暗场。

未加电的情况下透射区域的光线变化过程，如图2b所示，在透射区T，背光源发出的光经过下偏振片29作用生成垂直偏振的线偏振光。经过λ/4波片18，线偏振光变为右旋圆偏振光。由于液晶垂直取向作用，经过透射区域液晶层对右旋圆偏振光无影响。经过λ/4波片后，右旋圆偏振光形成垂直偏振光。此时线偏振光的偏振方向和上偏光片透过轴方向垂直，因此光线无法透出，从而透射区呈现暗场。

当加电的情况下，如图3所示，由于液晶为负性液晶，液晶分子在电场作用下长轴平行基板螺旋排列。这种扭曲排列的液晶分子会对光线进行光延迟操作。当反射区域的液晶层对光形成λ/4的延迟作用时，因为透射区域的液晶层是反射区域的液晶层厚度的2倍，因此透射区域的液晶层必然对光形成λ/2的延迟作用。透过反射区域的光与透过透射区域的光的偏振方向均与上偏振片透过轴方向平行，因此光线可以透射出去，透过区和反射区均呈亮场。

参照图3a图3b，对图3加电情况下反射区及透射区光线的变化过程进行解释。加电的情况下反射区域的光线变化过程，如图3a所示，在反射区R，上偏振片19透过轴为水平方向，外界光通过偏振片后生成水平方向线偏振光。经过λ/4波片18，水平偏振光变为左旋圆偏振光。这时因为反射区内加电情况下的液晶分子对光形成λ/4的延迟作用，左旋圆偏振光变化成为水平线偏振光，水平线偏振光经过反射区31反射还是水平线偏振光。再次因为反射区内加电情况下的液晶分子对光形成λ/4的延迟作用，水平线偏振光形成左旋圆偏振光。经过λ/4波片后，左旋圆偏振光形成水平方向线偏振光。此时线偏振光的偏振方向和上偏振片透过轴方向平行，光线可以透过，从而反射区呈现亮场。

加电的情况下透射区域的光线变化过程，如图3b所示，在透射区T，背光源发出的光经过下偏振片29作用生成垂直偏振的线偏振光。经过λ/4波片18，线偏振光变为右旋圆偏振光。这时因为反射区内加电情况下的液晶分子对光形成λ/2的延迟作用，右旋圆偏振光变化成为左旋圆偏振光。经过λ/4波片后，左旋圆偏振光形成水平偏振光。此时线偏振光的偏振方向和上偏振片透过轴方向平行，光线可以透过，从而反射区呈现亮场。

上述分析分别对液晶显示面板反射区域和透射区域在未加电和加电时两种状态下的光线变化方式进行了解释。可以发现，本实施例的液晶显示面板在未加电和加电时反射区域和透射区域的光线达到同步显示效果。

本发明实施例的液晶显示面板，通过彩膜基板面向液晶层的侧面上设置凸出的基台及阵列基板面向液晶层的侧面上设置的反射层，可以使两种不同光源走过的光程达到一致。本发明实施例的液晶显示面板结构巧妙、合理，优化了液晶显示面板的显示性能，大大提高了显示效果，使用户能够得到更佳的使用体验。

作为本发明的一种实施方式，彩膜基板10与阵列基板20之间设置有柱状隔垫物16，具体的，柱状隔垫物的高度为所述液晶层厚度的1/2。柱状隔垫物16位于基台的下方，柱状隔垫物穿过液晶层，支撑着显示面板两个面板，保持整个液晶层的间隙不变。

进一步的，基台及反射层面向液晶层的侧面上设置有ITO电极层15，在彩膜基板的ITO电极层面向液晶层的侧面上设置有第一取向膜层27，在阵列基板的ITO电极层面向液晶层的侧面上设置有第二取向膜层28。

进一步的，彩膜基板被向液晶层的侧面上依次设置有补偿膜17、λ/4波片18及上偏光片19，在阵列基板被向液晶层的侧面上依次设置有λ/4波片18及下偏光片29。

反射层为金属层，具体的，金属层为铝层。

本实施例中，液晶层中的液晶为负性液晶，负性液晶为氟基衍生物，氟基衍生物的分子结构中含有刚性基团结构，负性液晶的吸电基团在液晶分子的短轴方向。如图6所示，图6为本发明液晶显示面板使用的负性液晶分子式，分子结构中含联苯、或联苯环己烷等刚性基团结构，吸电基团在液晶分子的短轴方向，液晶整体呈现负性的状态。负性液晶分子刚性部分之间基本相互平行排列，但是其质心位置无序，不能形成层状结构，液晶分子能上下、左右、前后滑动，只在分子长轴方向上保持相互平行或近于平行，分子间相互作用微弱。由于液晶分子自身的特性，吸电基团在受到电场作用时，液晶分子会发生转动。

本实施例的液晶显示面板，通过改进显示面板的结构，在彩膜基板面向液晶层的侧面上设置有凸出的基台，阵列基板面向液晶层的侧面上设置有反射层，并使基台与反射层相对设置，能够使得反射光源和透射光源两种光源通过的光程相同，提高了液晶显示器的显示效果。

本实施例还提供一种液晶显示装置，包括上述液晶显示面板，其中，液晶显示面板的结构以及工作原理同上述实施例，在此不再赘述。另外，液晶显示装置其他部分的结构可以参考现有技术，对此本文不再详细描述。

本发明实施例提供的液晶显示装置，所述液晶显示装置可以为液晶显示器、液晶电视、数码相框、手机、平板电脑等具有显示功能的产品或者部件，本发明不做限制。

实施例二

本实施例提供一种彩膜基板的制作方法，如图4所示，该方法包括：

步骤101、在彩膜基底上形成黑矩阵图形。

作为本发明的一种实施方式，首先将黑矩阵层涂覆到彩膜基底上，涂覆的方式可以使用印染或沉积的方法，然后通过刻蚀工艺去掉不需要的黑矩阵层，对保留下来的黑矩阵层进行固化并干燥，最终在位于彩膜基底面向液晶层的侧面上形成阵列排列的黑矩阵，其结构如图4a所示。黑矩阵层所使用材料可以为聚合物有机树脂。

步骤102、在黑矩阵图形上形成彩膜层。

在黑矩阵12形成之后，作为本发明的一种实施方式，在彩膜基底11上通过分散法涂覆颜料，利用涂胶机将颜料和树脂均匀的涂覆在彩膜基底上，然后将颜料干燥成膜，再利用光刻工艺做成点阵图形，最后形成阵列排列的彩膜层13，彩膜层位于彩膜基底面向液晶层的侧面上，如图4b所示。

步骤103、在彩膜层上沉积树脂层，通过构图工艺形成基台。

在黑矩阵12与彩膜层13形成之后，作为本发明的一种实施方式，在彩膜基底11上涂覆树脂材料，利用掩模板对树脂层进行遮盖并做显影处理，使得曝光区域的树脂层被固化，然后对树脂层进行热处理，未被固化的树脂层被去掉，形成凸出的基台，如图4c所示。涂覆的树脂厚度为液晶层厚度的1/2，所使用树脂材料可以为聚合物有机树脂。

本实施例的方法进一步包括：

步骤104、在基台上形成ITO电极。

作为本发明的一种实施方式，首先利用溅射汽化沉积法，将ITO电极层溅射到彩膜层表面上，然后沉积保护层。利用光刻法刻蚀掉需要去掉ITO电极层上的保护层，使用干法或湿法对ITO电极层进行腐蚀，去除未被保护层覆盖的ITO电极层，被保护层覆盖的ITO电极层被保留下来，去除保护层，形成ITO电极，如图4d所示。

步骤105、在ITO电极上形成柱状隔垫物。

作为本发明的一种实施方式，在形成ITO电极层15之后，首先利用漂浮法，使用负压气流，将包含柱状隔垫物的液滴均匀的滴加到在ITO电极层面向液晶层的侧面上，最后形成柱状隔垫物16，如图4e所示。柱状隔垫物所使用的材料可以玻璃纤维或塑料材料，柱状隔垫物穿过液晶层，支撑着显示面板两个面板，柱状隔垫物的厚度为液晶层厚度的1/2。

本发明实施例的彩膜基板制造方法，在彩膜基板制作过程中，加入了涂覆树脂材料制作出了凸出的基台的步骤，在不产生技术衍生问题的情况下，简单可行的完成了制造带凸出的基台的彩膜基板的工艺。

实施例三

本实施例提供一种阵列基板的制作方法，如图5所示，该方法包括：

步骤201、在阵列基底上通过构图工艺形成包括公共电极、公共电极线、栅极和栅线的图形，以及第一绝缘层及钝化活动层。

作为本发明的一种实施方式，首先在阵列基底21面向液晶层的侧面上利用气向沉积法沉积形成公共电极层和栅极层。在栅极层表面涂覆保护层，利用光刻法刻蚀掉需要去掉的栅极部分的保护层，利用干法或湿法进行腐蚀，去除未被保护层覆盖的栅极层，保留被保护层覆盖的栅极层，去除保护层，形成公共电极、公共电极线、栅极和栅线的图形栅极和栅线的图形，如图5a所示。

然后，在形成栅极22之后，首先在阵列基底21面向液晶层的侧面上形成第一绝缘层23。沉积第一绝缘层可以利用溅射汽化沉积法，在高真空条件下，利用溅射汽化等离子状态的绝缘材料，在阵列基底上形成第一绝缘层。在第一绝缘层外利用气向沉积法沉积钝化活动层，然后涂覆光致抗蚀层，通过曝光和显影过程形成保护掩膜，然后采用蚀刻工艺去掉未被掩膜覆盖的钝化活动层，去除掩膜，形成所需的钝化活动层，如图5b所示。第一绝缘层所使用的材料可以为有机聚合物或非单晶硅，钝化活动层所使用的材料可以为单晶硅。

步骤202、在所述钝化活动层上通过构图工艺形成包括数据线，漏极和薄膜晶体管区域的图形，以及第二绝缘层。

作为本发明的一种实施方式，在钝化活动层24面向液晶层的侧面上，在高真空条件下利用磁控溅射沉积法沉积漏极层，然后涂覆光致抗蚀层，通过曝光和显影过程形成保护掩膜，然后采用蚀刻工艺去掉未涂覆掩膜的漏极部分，去除掩膜，形成漏极，如图5c所示。

然后，在漏极25面向液晶层的侧面上沉积第二绝缘层26，沉积第二绝缘层可以利用溅射汽化沉积法，在高真空条件下，利用溅射汽化等离子状态的绝缘材料，形成第二绝缘层，然后涂覆光致抗蚀层，通过曝光和显影过程形成保护掩膜，然后采用蚀刻工艺去掉未涂覆掩膜的第二绝缘层，去除掩膜，形成第二绝缘层，如图5d所示。第二绝缘层所使用的材料可以为有机聚合物或非单晶硅，第二绝缘层包覆着生成的漏极。

步骤203、在所述第二绝缘层上沉积反射层，通过构图工艺形成反射层。

作为本发明的一种实施方式，在第二绝缘层26面向液晶层的侧面上，在高真空条件下利用磁控溅射法沉积一层金属铝层，将保护层涂覆在金属铝层表面，通过曝光和显影过程形成保护掩膜，然后采用蚀刻工艺去掉未涂覆掩膜的金属铝层，去除掩膜，形成反射层，如图5e所示。反射层所使用的材料为金属铝，反射层与步骤103生成的基台相对设置。

本实施例的方法进一步包括：

步骤204、在第二绝缘层上制作导通孔，在反射层上形成ITO电极层，使ITO电极层通过导通孔与栅极相连接。

作为本发明的一种实施方式，在第二绝缘层26面向液晶层的侧面上，涂覆保护层，用曝光和显影过程形成保护掩膜，然后采用蚀刻工艺在第二绝缘层上刻蚀出导通孔。将ITO溅射到阵列基板表面上，然后沉积保护层。利用光刻法刻蚀出需要去掉的ITO电极层上的保护层，利用干法或湿法对ITO电极层进行腐蚀，去除未被保护层覆盖的ITO电极层，保留被保护层覆盖的ITO电极层，去除保护层，形成ITO电极，如图5f所示。

本发明实施例的阵列基板制造方法，在阵列基板制作过程中，加入了溅射金属铝制作出了反射层的步骤，在不产生技术衍生问题的情况下，简单可行的完成了制造带反射层的阵列基板的工艺。

对本发明实施例的制作出的彩膜基板及阵列基板进行真空对盒，可以形成实施例一所述的液晶显示面板所使用的液晶盒。下面对对盒过程进行一下简单介绍。

首先，将要使用的液晶材料进行混配处理。使用的液晶材料为负性向列相液晶，此向列相液晶长轴以苯环、环己烷和酯基组合，吸电基团在液晶分子短轴方向，呈现负性特征。将混配好的液晶放置到脱泡器中进行脱泡处理，温度范围在-20℃~90℃之间，脱泡时间1～10小时。

然后，在实施例二的带基台的彩膜基板及实施例三的带反射层的阵列基板上涂覆取向剂，利用绒布摩擦取向。第一取向膜层的摩擦取向方向为当彩膜基板面向液晶层的表面方向向上时，水平沿逆时针旋转45°所指向的方向；第二取向膜层的摩擦取向方向为当阵列基板面向液晶层的表面方向向上时，水平沿顺时针旋转135°所指向的方向。

然后，将经混配脱泡处理后的液晶滴加到列阵基板面向液晶层的表面上，将封框胶涂覆到彩膜基板面向液晶层的表面上，利用真空对盒的方法将列阵基板和彩膜基板进行真空对盒。

然后，对对盒后的面板进行紫外光辐照，紫外光辐照的光照强度为1～100mW/cm²，辐射时间是5～60分钟。通过紫外光辐照封框胶发生聚合，防止液晶分子扩散。最后，对进行紫外光辐照的面板进行加热，然后进行检测。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种液晶显示面板，包括：彩膜基板、阵列基板以及设置在彩膜基板与阵列基板之间的液晶层，其特征在于，所述彩膜基板面向所述液晶层的侧面上设置有凸出的基台，所述基台的高度为所述液晶层厚度的1/2，所述阵列基板面向所述液晶层的侧面上设置有反射层，且所述基台与所述反射层相对设置；所述基台面向液晶层的侧面设置有第一取向膜层，所述反射层面向液晶层的侧面设置有第二取向膜层，所述第一取向膜层与第二取向膜层的取向方向相互垂直；加电时，所述第一取向膜层和所述第二取向膜层使得所述液晶层中的液晶分子的长轴平行所述彩膜基板和所述阵列基板螺旋排列，反射区域中的液晶分子使得射入的光在圆偏振光与水平线方向线偏振光之间相互转化，透射区域中的液晶分子使得射入的光在左圆偏振光与右圆偏振光之间相互转化；

所述液晶层中的液晶为负性液晶，所述负性液晶的吸电基团在液晶分子的短轴方向。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板与所述阵列基板之间设置有柱状隔垫物。

3.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述基台面向液晶层的侧面设置有纳米铟锡金属氧化物ITO电极层。

4.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述反射层面向液晶层的侧面设置有ITO电极层。

5.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述反射层为金属层。

6.根据权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述金属层为铝层。

7.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述负性液晶为氟基衍生物，所述氟基衍生物的分子结构中含有刚性基团结构。

8.一种液晶显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的液晶显示面板。