CN102815971B - 一种Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法 - Google Patents

一种Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102815971B
CN102815971B CN 201210300660 CN201210300660A CN102815971B CN 102815971 B CN102815971 B CN 102815971B CN 201210300660 CN201210300660 CN 201210300660 CN 201210300660 A CN201210300660 A CN 201210300660A CN 102815971 B CN102815971 B CN 102815971B
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
temperature
complex phase
preparation
ultrahigh
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN 201210300660
Other languages
English (en)
Other versions
CN102815971A (zh
Inventor
熊翔
王雅雷
李国栋
孙威
陈招科
赵学嘉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central South University
Original Assignee
Central South University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central South University filed Critical Central South University
Priority to CN 201210300660 priority Critical patent/CN102815971B/zh
Publication of CN102815971A publication Critical patent/CN102815971A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102815971B publication Critical patent/CN102815971B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

本发明公开了一种Hf(Ta)C超高温复相涂层，所述Hf(Ta)C超高温复相涂层由HfC与HfTaC2组成，其中HfTaC2的摩尔分数为6-50％，均匀或梯度分布在涂层中。其制备方法是将经过表面处理的基体材料置于低压化学气相沉积炉中，以四氯化铪和五氯化钽混合粉末为铪源和钽源；甲烷为碳源；氩气为稀释气体；氢气为还原气体，将混合粉末输送至沉积炉反应器内部，在基体材料表面沉积制备Hf(Ta)C超高温复相涂层。本发明弥补了单一涂层在烧蚀过程中的局限性，充分发挥涂层各物相的优势，满足对基体材料长时间高温防护。本发明工艺简单，便于操作，所得涂层与基体结合良好，无层间裂纹和贯穿裂纹，抗热震性能和抗烧蚀性能优异；适用于炭/炭复合材料、炭/陶复合材料、石墨、碳化物陶瓷等材料的表面涂层与高温防护。

Description

一种Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法，属于化学气相沉积技术领域，适用于炭/炭复合材料、炭/陶复合材料、石墨、碳化物陶瓷等材料的表面涂层与高温防护。
技术背景
炭/炭复合材料具有优异的高温力学性能、低热膨胀系数、高热导率以及良好的抗热震性能，是用于固体火箭发动机喉衬较为理想的烧蚀结构材料。炭/炭复合材料喉衬在500℃以上高温有氧环境下的迅速氧化将导致其力学性能的迅速衰减。喉衬工作时若被严重烧蚀，则很难保持稳定的气动外形，将直接影响发动机的推力和效率。炭/炭复合材料较高的烧蚀率已经无法满足新一代固体火箭发动机对材料的性能要求。因此，提高炭/炭复合材料的抗烧蚀性能极其重要。
在炭/炭复合材料表面涂覆抗烧蚀涂层是较为理想的措施。针对炭/炭复合材料在超高温条件下的烧蚀保护，目前国际上倾向于在炭/炭复合材料工作表面涂覆难熔金属碳化物（HfC、TaC、ZrC）用作固体火箭发动机喉衬，且以化学气相沉积法制备的涂层性能最好。化学气相沉积技术的优势在于可对涂层材料组成和结构进行设计和控制，并可在较低温度下完成对高熔点材料的制备，设备简单，易于操作，且通过对沉积设备的改造利用共沉积可以实现不同组分或多层涂层的一次性沉积。目前，俄罗斯、美国、中国均实现了采用CVD技术在C/C复合材料表面制备HfC、TaC和ZrC单一涂层。Futamoto、Ache、Emig等人均采用HfCl4-CH4-H2系统，利用CVD技术制备出了HfC涂层。单一涂层用于炭/炭复合材料抗烧蚀保护具有其局限性，很难满足固体火箭发动机喉衬所处复杂的烧蚀环境。因此，开发多层涂层体系或复相涂层体系，可充分利用涂层内多相组元各自的特点达到对炭/炭复合材料最佳的抗烧蚀防护。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术之不足而提供一种组分配比合理、工艺简单、操作方便、与基体结合良好，无层间和贯穿裂纹，具有优异的抗热震和抗烧蚀性能的Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法。有效提高炭/炭复合材料、石墨、碳化物陶瓷等材料的超高温防护性能。
本发明一种Hf(Ta)C超高温复相涂层，所述Hf(Ta)C超高温复相涂层由HfC与HfTaC2组成，其中HfTaC2的摩尔分数为6-50%，均匀或梯度分布在涂层中。
本发明一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，是将经过表面处理的基体材料置于低压化学气相沉积炉中，以四氯化铪和五氯化钽混合粉末为铪源和钽源；甲烷为碳源；氩气为稀释气体；氢气为还原气体，沉积温度为1300-1700℃，沉积时间为1-20小时，沉积压力为0.1-100kPa；将混合粉末输送至沉积炉反应器内部，在基体材料表面沉积制备Hf(Ta)C超高温复相涂层，沉积完成后，随炉氮气保护冷却至室温，出炉。
本发明一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，所述基体材料置于低压化学气相沉积炉中，先抽真空至炉内压力低于100Pa后，通入氮气作为保护气体，然后，以5-10℃/min的升温速率升温至沉积温度；向炉内通入氢气，待炉内温度稳定后，通入甲烷，控制炉内压力为0.1-100kPa，进行沉积。
本发明一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，所述混合粉末是将HfCl4和TaCl5粉末按摩尔比HfCl4/TaCl5=(1-10)/1在真空手套箱中，氩气保护下，进行机械混合均匀得到的HfCl4+TaCl5混合粉末。
本发明一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，所述HfCl4粉末的粒度为50-100目；所述TaCl5粉末的粒度为50-100目。
本发明一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，所述的CH4、H2气体按摩尔比CH4/H2=1/(1-20)配置；且所述CH4与HfCl4+TaCl5的摩尔比满足CH4/（HfCl4+TaCl5）=（0.2-5）/1。
本发明一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，所述的混合粉末由机械送粉装置均匀连续输送至沉积炉反应器内部。
本发明一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，所述基体材料表面选自C/C复合材料、石墨、碳化物陶瓷中的一种。
本发明一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，基体材料表面处理是对基体材料表面进行抛光、超声波酒精清洗、真空干燥；所述抛光是用4000目以上SiC砂纸将基体材料表面打磨抛光；所述超声波酒精清洗是将基体材料置于酒精中，用40kHz赫兹的超声波清洗30min；所述真空干燥的温度为120℃，干燥时间120min。
本发明采取上述工艺方法具有以下优点和积极效果
(1)本发明利用化学气相沉积制备涂层的成分和结构可控性，可通过改变混合粉末中HfCl4和TaCl5比例、CH4和H2比例和CH4和（HfCl4+TaCl5）比例可制备具有不同相比例和不同结构的Hf(Ta)C复相涂层。
（2）Hf(Ta)C复相涂层可在化学气相沉积炉中一次沉积而成，涂层物相由HfC和HfTaC2组成，且与基体结合良好，无层间和贯穿裂纹存在，具有较好的抗热震性能。
（3）Hf(Ta)C复相涂层可弥补单一涂层的局限性，在烧蚀过程中可充分发挥涂层各物相的优势，满足对基体材料长时间高温防护。
（4）Hf(Ta)C复相涂层烧蚀后可生成Hf6Ta2O17相，其优异的相稳定性可减少相变对涂层烧蚀产物破坏，且对HfO2的高温烧结起到抑制作用。
本发明制备的涂层在烧蚀60s后，涂层仍然保持完整，无开裂或脱落现象，且与基体仍然保持较好的结合状态；涂层质量烧蚀率和线烧蚀率分别为0.01-0.03mg·cm-3·s-1和0.38-0.52μm·s-1，较单一难熔金属碳化物涂层抗烧蚀性能有所提高。该复相涂层在烧蚀过程保持了极好的尺寸和结构稳定性，具有优异的抗热震性能和抗烧蚀性能。
综上所述，本发明工艺简单、操作方便，一次加热，可一次沉积不同相比例、不同组织结构复相涂层，涂层与基体结合良好，无贯穿和层间裂纹，抗热震性能与抗烧蚀性能优越；适用于炭/炭复合材料、石墨、碳化物陶瓷、金属等材料的超高温防护，特别适用于固体火箭发动机C/C喉衬材料的超高温防护。
附图说明
附图1为本发明实施例一在炭/炭复合材料表面沉积的超高温Hf(Ta)C复相涂层表面的X射线衍射图谱。
附图2本发明实施例一在炭/炭复合材料表面沉积的抗烧蚀Hf(Ta)C复相涂层的表面形貌扫描电镜照片。
附图3为本发明实施例一在炭/炭复合材料表面沉积的抗烧蚀Hf(Ta)C复相涂层的截面扫描电镜照片。
附图4为附图3中A区形貌放大50000倍扫描电镜照片。
附图5为本发明实施例一在炭/炭复合材料表面沉积的抗烧蚀Hf(Ta)C复相涂层的截面EDS线扫描结果。
附图6为本发明实施例一在炭/炭复合材料表面沉积的抗烧蚀Hf(Ta)C复相涂层烧蚀60s后的表面X射线衍射图谱。
附图7为本发明实施例一在炭/炭复合材料表面沉积的抗烧蚀Hf(Ta)C复相涂层烧蚀60s后表面形貌的扫描电镜照片。
从附图1可以看出，复相涂层由HfC和HfTaC2组成，分别对应标准PDF卡片65-7862和65-8216。
从附图2可以看出，复相涂层表面由纳米颗粒堆积而成。
从附图3可以看出，复相涂层内部无层间和贯穿裂纹，且与炭/炭基体结合良好。
从附图4可以看出，复相涂层呈纳米颗粒紧密堆积结构特征，纳米介孔分布均匀。
从附图5可以看出，复相涂层内部铪、钽和碳元素沿涂层截面方向分布均匀。
从附图6可以看出，复相涂层烧蚀60s后表面由HfO2和Hf6Ta2O17组成。
从附图7可以看出，本发明复相涂层烧蚀后表面由重结晶的氧化物晶粒组成，Hf6Ta2O17的存在可有效抑制氧化物晶粒快速长大。
具体实施方式
本发明实施例制备的涂层，按照GJB323A-96，对涂层样品进行烧蚀实验以及烧蚀率计算。烧蚀时间60s。
实施例一
首先用SiC砂纸将C/C复合材料打磨抛光，超声波酒精清洗30min，120℃真空干燥2h后备用；将四氯化铪和五氯化钽粉末置于真空手套箱中，氩气保护状态下将两种粉末以摩尔比4/1机械混合；将得到的多元前驱体混合粉末置于机械送粉装置中，将经过表面处理的炭/炭复合材料基体置于低压化学气相沉积炉中。
打开真空系统，使气相沉积炉内保持低压状态（低于100Pa）；通入氩气保护，开启加热系统，升温速率为5℃/min，升温至1300℃；升温至1300℃后，通入氢气。待炉内温度稳定后，通入甲烷，且保证CH4/H2=1/8、CH4/（HfCl4+TaCl5）=3/1，同时打开机械送粉装置，控制反应炉内部压力维持3-5kPa，沉积2小时。
沉积过程完成后，氩气保护，随炉冷却。室温后将样品取出。制备出的复相涂层由HfC和HfTaC2组成，且两相摩尔含量为74%和26%。复相涂层呈纳米颗粒堆积结构。
本实施例制备的涂层按照GJB323A-96，烧蚀60s后，涂层仍然保持完整，无开裂或脱落现象，且与基体仍然保持较好的结合状态；涂层质量烧蚀率和线烧蚀率分别为0.01mg·cm-3·s-1和0.38μm·s-1。
实施例二
首先用SiC砂纸将石墨打磨抛光，超声波酒精清洗30min，120℃真空干燥2h后备用；将四氯化铪和五氯化钽粉末置于真空手套箱中，氩气保护状态下将两种粉末以摩尔比1/1机械混合；将得到的多元前驱体混合粉末置于机械送粉装置中，将经过表面处理的炭/炭复合材料基体置于低压化学气相沉积炉中。
打开真空系统，使气相沉积炉内保持低压状态（低于100Pa）；通入氩气保护，开启加热系统，升温速率为8℃/min，升温至1650℃；升温至1650℃后，通入氢气。待炉内温度稳定后，通入甲烷，且保证CH4/H2=1/20、CH4/（HfCl4+TaCl5）=0.2/1，同时打开机械送粉装置，控制反应炉内部压力维持95-100kPa，沉积1小时。
沉积过程完成后，氩气保护，随炉冷却。室温后将样品取出。制备出的复相涂层由HfC和HfTaC2组成，且两相摩尔含量为52%和48%。复相涂层呈粗大柱状晶结构。
本实施例制备的涂层按照GJB323A-96，烧蚀60s后，涂层仍然保持完整，无开裂或脱落现象，且与基体仍然保持较好的结合状态；涂层质量烧蚀率和线烧蚀率分别为0.03mg·cm-3·s-1和0.47μm·s-1。
实施例三
首先用SiC砂纸将ZrC陶瓷打磨抛光，超声波酒精清洗30min，120℃真空干燥2h后备用；将四氯化铪和五氯化钽粉末置于真空手套箱中，氩气保护状态下将两种粉末以摩尔比10/1物理混合；将得到的多元前驱体混合粉末置于机械送粉装置中，将经过表面处理的炭/炭复合材料基体置于低压化学气相沉积炉中。
打开真空系统，使气相沉积炉内保持低压状态（低于100Pa）；通入氩气保护，开启加热系统，升温速率为10℃/min，升温至1400℃；升温至1400℃后，通入氢气。待炉内温度稳定后，通入甲烷，且保证CH4/H2=1/1、CH4/（HfCl4+TaCl5）=5/1，同时打开机械送粉装置，控制反应炉内部压力维持0.1-0.5kPa，沉积时间10小时。
沉积过程完成后，氩气保护，随炉冷却。室温后将样品取出。制备出的复相涂层由HfC和HfTaC2组成，且两相摩尔含量为94%和6%。复相涂层呈颗粒堆积结构。
本实施例制备的涂层按照GJB323A-96，烧蚀60s后，涂层仍然保持完整，无开裂或脱落现象，且与基体仍然保持较好的结合状态；涂层质量烧蚀率和线烧蚀率分别为0.01mg·cm-3·s-1和0.42μm·s-1。
实施例四
首先用SiC砂纸将C/C复合材料打磨抛光，超声波酒精清洗30min，110℃真空干燥2h后备用；将四氯化铪和五氯化钽粉末置于真空手套箱中，氩气保护状态下将两种粉末以摩尔比6/1物理混合；将得到的多元前驱体混合粉末置于机械送粉装置中，将经过表面处理的炭/炭复合材料基体置于低压化学气相沉积炉中。
打开真空系统，使气相沉积炉内保持低压状态（低于100Pa）；通入氩气保护，开启加热系统，升温速率为5℃/min，升温至1500℃；升温至1500℃后，通入氢气。待炉内温度稳定后，通入甲烷，且保证CH4/H2=1/14、CH4/（HfCl4+TaCl5）=2/1，同时打开机械送粉装置，控制反应炉内部压力维持30-32kPa，沉积时间3小时。
沉积过程完成后，氩气保护，随炉冷却。制备出的复相涂层由HfC和HfTaC2组成，且两相摩尔含量为68%和32%。复相涂层呈针状晶结构。
本实施例制备的涂层按照GJB323A-96，烧蚀60s后，涂层仍然保持完整，无开裂或脱落现象，且与基体仍然保持较好的结合状态；涂层质量烧蚀率和线烧蚀率分别为0.02mg·cm-3·s-1和0.52μm.·s-1。从实施例1-4制备的涂层烧蚀结果可以看出，本发明制备的涂层在烧蚀60s后，涂层仍然保持完整，无开裂或脱落现象，且与基体仍然保持较好的结合状态；涂层质量烧蚀率和线烧蚀率分别为0.01-0.03mg·cm-3·s-1和0.38-0.52μm·s-1，较单一难熔金属碳化物涂层抗烧蚀性能有所提高。该复相涂层在烧蚀过程保持了极好的尺寸和结构稳定性，具有优异的抗热震性能和抗烧蚀性能。

Claims (7)

1.一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，是将经过表面处理的基体材料置于低压化学气相沉积炉中，以四氯化铪和五氯化钽混合粉末为铪源和钽源；甲烷为碳源；氩气为稀释气体；氢气为还原气体，沉积温度为1300-1700℃，沉积时间为1-20小时，沉积压力为0.1-100kPa；将混合粉末输送至沉积炉反应器内部，在基体材料表面沉积制备Hf(Ta)C超高温复相涂层，沉积完成后，氮气保护随炉冷却至室温，出炉，得到由HfC与HfTaC2组成的Hf(Ta)C超高温复相涂层，其中HfTaC2的摩尔分数为6-50%，均匀或梯度分布在涂层中；所述混合粉末是将HfCl4和TaCl5粉末按摩尔比HfCl4/TaCl5=(1-10)/1在真空手套箱中，氩气保护下，进行机械混合均匀得到的HfCl4+TaCl5混合粉末。
2.根据权利要求1所述的一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，其特征在于：所述基体材料置于低压化学气相沉积炉中，先抽真空至炉内压力低于100Pa后，通入氮气作为保护气体，然后，以5-10℃/min的升温速率升温至沉积温度；向炉内通入氢气，待炉内温度稳定后，通入甲烷，控制炉内压力为0.1-100kPa，进行沉积。
3.根据权利要求2所述的一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，其特征在于：所述HfCl4粉末的粒度为50-100目；所述TaCl5粉末的粒度为50-100目。
4.根据权利要求3所述的一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，其特征在于：所述的CH4、H2气体按摩尔比CH4/H2=1/(1-20)配置；且所述CH4与HfCl4+TaCl5的摩尔比满足CH4/（HfCl4+TaCl5）=（0.2-5）/1。
5.根据权利要求4所述的一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，其特征在于：所述的混合粉末由机械送粉装置均匀连续输送至沉积炉反应器内部。
6.根据权利要求5所述的一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，其特征在于：所述基体材料选自C/C复合材料、石墨、碳化物陶瓷中的一种。
7.根据权利要求6所述的一种Hf(Ta)C超高温复相涂层的制备方法，其特征在于：基体材料表面处理是对基体材料表面进行抛光、超声波酒精清洗、真空干燥；所述抛光是用4000目以上SiC砂纸将基体材料表面打磨抛光；所述超声波酒精清洗是将基体材料置于酒精中，用40kHz赫兹的超声波清洗30min；所述真空干燥的温度为120℃，干燥时间120min。
CN 201210300660 2012-08-22 2012-08-22 一种Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法 Active CN102815971B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201210300660 CN102815971B (zh) 2012-08-22 2012-08-22 一种Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201210300660 CN102815971B (zh) 2012-08-22 2012-08-22 一种Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102815971A CN102815971A (zh) 2012-12-12
CN102815971B true CN102815971B (zh) 2013-08-21

Family

ID=47300475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201210300660 Active CN102815971B (zh) 2012-08-22 2012-08-22 一种Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102815971B (zh)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103480043B (zh) * 2013-09-26 2014-08-06 赵德伟 一种医用多孔钽植入材料及其制备方法
CN106699233B (zh) * 2016-11-23 2020-08-25 中南大学 含化学气相共沉积硼化锆/铪-硼化钽的复合涂层及其制备方法
CN108395279B (zh) * 2018-02-08 2021-09-17 西北工业大学 化学气相共沉积法制备HfC-SiC复相梯度涂层的方法
CN109320303B (zh) * 2018-10-31 2021-03-30 中国兵器工业第五九研究所 超高温抗氧化耐烧蚀层及其制备方法
CN112899650B (zh) * 2019-03-28 2023-02-03 中国兵器工业第五九研究所 一种稳定性能优异的(Ta,Hf,Zr)C复合涂层的制备方法
CN110304919A (zh) * 2019-08-16 2019-10-08 湘潭大学 一种陶瓷材料的制备方法和热障涂层的制备方法
CN110655414B (zh) * 2019-10-15 2021-10-29 航天特种材料及工艺技术研究所 一种碳纤维增强碳-铪钽碳固溶体复合材料及其制备方法
CN112391606B (zh) * 2020-11-13 2022-01-14 南昌大学 一种SiC-Hf（Ta）C复合涂层的制备方法、复合涂层及石墨基座
CN112391592A (zh) * 2020-11-29 2021-02-23 中国科学院金属研究所 一种高温抗氧化钽铪碳三元陶瓷碳化物涂层及其制备方法
CN113402303A (zh) * 2021-06-30 2021-09-17 西北工业大学 基于梯度蒸发模具的CVD-TaxHf1-xC固溶体涂层的制备方法
CN114671710B (zh) * 2022-03-10 2023-04-07 西北工业大学 一种双周期多层TaC/HfC超高温陶瓷抗烧蚀涂层及制备方法
CN115124348B (zh) * 2022-05-31 2023-07-11 西北工业大学 一种单相(HfxZr1-x)N固溶体超高温抗烧蚀陶瓷涂层及制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1178204A (zh) * 1996-09-19 1998-04-08 株式会社东芝 热障涂层构件及其制作方法、使用该构件的燃气轮机零件
CN1445377A (zh) * 2002-03-20 2003-10-01 哈尔滨工业大学 一种复合碳化物颗粒增强钨基复合材料
JP4124075B2 (ja) * 2003-09-18 2008-07-23 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 用紙処理装置及び画像形成装置ならびに用紙の搬送方法
CN101316941A (zh) * 2005-08-19 2008-12-03 杰出金属实业公司 用于高温应用的硬质合金材料

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04124075A (ja) * 1990-09-12 1992-04-24 Toshiba Ceramics Co Ltd 窒化ケイ素焼結体及びその製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1178204A (zh) * 1996-09-19 1998-04-08 株式会社东芝 热障涂层构件及其制作方法、使用该构件的燃气轮机零件
CN1445377A (zh) * 2002-03-20 2003-10-01 哈尔滨工业大学 一种复合碳化物颗粒增强钨基复合材料
JP4124075B2 (ja) * 2003-09-18 2008-07-23 コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 用紙処理装置及び画像形成装置ならびに用紙の搬送方法
CN101316941A (zh) * 2005-08-19 2008-12-03 杰出金属实业公司 用于高温应用的硬质合金材料

Non-Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
C/C复合材料抗烧蚀HfC涂层的制备;侯根良等;《航空材料学报》;20090228;第29卷(第1期);全文 *
E. L. Courtright et al..Oxidation of Hafnium Carbide and Hafnium Carbide with Additions of Tantalum and Praseodymium.《Oxidation of Metals》.1991,第36卷(第5/6期),第423页摘要，第424页第1-4段.
Oxidation of Hafnium Carbide and Hafnium Carbide with Additions of Tantalum and Praseodymium;E. L. Courtright et al.;《Oxidation of Metals》;19911231;第36卷(第5/6期);第423页摘要，第424页第1-4段 *
侯根良等.C/C复合材料抗烧蚀HfC涂层的制备.《航空材料学报》.2009,第29卷(第1期),第77-80页.
刘岗等.固态输送ZrCl4低压化学气相沉积制备ZrC涂层的特征.《中国有色金属学报》.2012,第22卷(第1期),第172页和图1.
固态输送ZrCl4低压化学气相沉积制备ZrC涂层的特征;刘岗等;《中国有色金属学报》;20120131;第22卷(第1期);第172页和图1 *

Also Published As

Publication number Publication date
CN102815971A (zh) 2012-12-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102815971B (zh) 一种Hf(Ta)C超高温复相涂层及其制备方法
Xiong et al. HfC/ZrC ablation protective coating for carbon/carbon composites
Wang et al. Ablation behavior of HfC protective coatings for carbon/carbon composites in an oxyacetylene combustion flame
Wang et al. Structural evolution and ablation mechanism of a hafnium carbide coating on a C/C composite in an oxyacetylene torch environment
CN106699233B (zh) 含化学气相共沉积硼化锆/铪-硼化钽的复合涂层及其制备方法
Wang et al. Microstructure and ablation behavior of hafnium carbide coating for carbon/carbon composites
Yang et al. A double layer nanostructure SiC coating for anti-oxidation protection of carbon/carbon composites prepared by chemical vapor reaction and chemical vapor deposition
Hu et al. In-situ fabrication of ZrB2–SiC/SiC gradient coating on C/C composites
Zhang et al. SiC nanowire toughened ZrB2–SiC ablative coating for SiC coated C/C composites
Wang et al. Ablation resistance of HfB2-SiC coating prepared by in-situ reaction method for SiC coated C/C composites
Zhang et al. Microstructure and oxidation behavior of C/C–ZrB2–SiC composites coated with SiC coating at high temperature
Zhang et al. Effect of the surface microstructure of SiC inner coating on the bonding strength and ablation resistance of ZrB2-SiC coating for C/C composites
Huang et al. Preparation of a double layer SiC coating and its oxidation resistance at 1773 K
CN108558422A (zh) 具有高断裂功的三维碳纤维增韧超高温陶瓷基复合材料的制备方法
Zhang et al. Effect of HfC-SiC transition layer on the ablation resistance of SiC/HfC-SiC/HfC multi-layer coating for C/C composites
Ali et al. Tantalum carbide films synthesized by hot-filament chemical vapor deposition technique
CN109485423B (zh) SiC纳米线增韧化学气相共沉积HfC-SiC复相涂层的制备方法
Zhang et al. Growth mechanism and ablation behavior of CVD-HfC coating on the surface of C/C composites and CVD-SiC coating
Sun et al. Ablation mechanism and properties of SiO2 modified ZrB2-SiC coatings fabricated on C/C composites via plasma spraying technology
Li et al. SiC nanowires toughed HfC ablative coating for C/C composites
Ren et al. Dynamic oxidation protective behaviors and mechanisms of HfB2-20wt% SiC composite coating for carbon materials
CN111485220A (zh) 一种SiC纳米线增韧化学气相沉积ZrC涂层及制备方法
Ren et al. Influences of deposition temperature, gas flow rate and ZrC content on the microstructure and anti-ablation performance of CVD-HfC-ZrC coating
Pu et al. Ablation of vacuum plasma sprayed TaC-based composite coatings
Chen et al. MoSi2 modified HfC coating for the ablation protection of SiC-coated C/C composites: Ablation resistance and behavior

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant