CN102797771A - 一种单向自增力式离心离合器 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种单向自增力式离心离合器,是由离心块、摩擦片、弹簧、主动殻和被动殻组成,其特点是主动殻的外圆周上间隔均匀设有凸块,每个凸块上设有关节窝,离心块的一端设有的关节头活动安装在关节窝内,弹簧的两端分别固定在离心块和凸块上,本发明具有接合平稳、不易打滑、磨损极小、使用寿命更长的特点。
Description
技术领域
本发明属于离合器技术领域,尤其是涉及一种单向自增力式离心离合器。
背景技术
现有的离心式离合器是采用两块离心块通过弹簧连接,两块离心块的内外两侧分别设有主动殻和被动殻,工作原理是主动毂转动,带动离心块旋转,转速低于临界转速时,离心块在弹簧拉力下,靠向主动毂,与被动毂脱离接触,不能传递动力,当转速升高,达到一定角速度时,离心块在离心加速度作用下,克服拉簧拉力,沿离合器径向移动,直至离心块上的摩擦片压在被动毂内壁上,将主动轴的动力,传至被动毂,现有机构传递动力的转矩,与摩擦材料和被动毂的接触压力有密切关系,现有结构存在下列问题:1、 当主动轴转速一定时,接触压力是一个定值,当负载力矩超过接触压力时,摩擦片与被动毂发生打滑,快速磨损;2、当主动轴转速一定时,摩擦材料磨损,相当于弹簧拉力加大,加大部分抵消等量的离心力,使接触压力减少,摩擦片与被动毂发生打滑,快速磨损。
发明内容
本发明的目的在于改进已有技术的不足而提供一种接合平稳、不易打滑、磨损极小、使用寿命更长的单向自增力式离心离合器。
本发明的目的是这样实现的,一种单向自增力式离心离合器,是由离心块、摩擦片、弹簧、主动殻和被动殻组成,其特点是主动殻的外圆周上间隔均匀设有凸块,每个凸块上设有关节窝,离心块的一端设有的关节头活动安装在关节窝内,弹簧的两端分别固定在离心块和凸块上。
为了进一步实现本发明的目的,可以是固定在离心块和凸块上的弹簧为两个。
本发明与已有技术相比具有以下显著特点和积极效果:本发明采用主动殻的外圆周上间隔均匀设有三个凸块,每个凸块上设有关节窝,离心块的一端设有的关节头活动安装在关节窝内,弹簧的两端分别固定在离心块和凸块上,动力输出轴带动主动毂转动时,带动离心块旋转,转速低于临界转速期间,离心块在弹簧弹力下,靠向主动毂,与被动毂脱离接触,不能传递动力,当转速升高,达到一定角速度时,离心块在离心加速度作用下,克服压簧弹力,沿旋转关节转动,直至离心块上的摩擦片压在被动毂内壁上,将主动殻的动力,传至被动毂;离心块在离心力的作用下,向圆心相反方向运动时,还会发生以旋转关节为轴心、与主动轴旋转方向相反的运动,离心块在被负载拖动后移的同时,还发生向直径扩大方向的运动,摩擦片与被动毂的摩擦压力会随着负载力矩加大而增加,摩擦片与被动毂的摩擦压力增加值为负载转矩增加值的数倍,从而消除打滑现象;固定在离心块和凸块上的弹簧为两个,可以保证离心块受弹簧力的均匀作用,保证工作稳定。
如图2对离心块被拖动后移与径向运动进行分析:
假设离心块后移距离为:12.5mm,而向直径扩大方向的运动距离为:87.5mm-82.5mm=5mm,12.5/5=2.5,离心块后移距离为径向位移距离的2.5倍,所以摩擦片与被动毂的摩擦压力增加值为负载转矩增加值的2.5倍,从而消除打滑现象。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明。
图1为本发明的一种结构示意图。
图2为本发明的离心块被拖动后移与径向运动分析示意图。
具体实施方式
实施例1,一种单向自增力式离心离合器,参照图1,是主动殻4的外圆周上间隔均匀设有凸块6,每个凸块6上设有关节窝7,离心块1的一端设有的关节头8活动安装在关节窝7内,弹簧3的两端分别固定在离心块1和凸块6上,离心块1的外侧固定有摩擦片2,被动殻5包围在离心块1外,静止时,弹簧3处于压缩状态,离心块1与被动殻5间形成间隙,凸块6的数量可根据需要设置,本实施例采用三个凸块6,这构成本发明的一种结构。
实施例2,一种单向自增力式离心离合器,参照图1,是在实施例1的基础上,固定在离心块1和凸块6上的弹簧3为两个并排设置,其他与实施例1完全相同。
Claims (2)
1.一种单向自增力式离心离合器,是由离心块(1)、摩擦片(2)、弹簧(3)、主动殻(4)和被动殻(5)组成,其特征是主动殻(4)的外圆周上间隔均匀设有凸块(6),每个凸块(6)上设有关节窝(7),离心块(1)的一端设有的关节头(8)活动安装在关节窝(7)内,弹簧(3)的两端分别固定在离心块(1)和凸块(6)上。
2.根据权利要求1所述的一种单向自增力式离心离合器,其特征是固定在离心块(1)和凸块(6)上的弹簧(3)为两个。
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- 2012-08-01 CN CN2012102707906A patent/CN102797771A/zh active Pending
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Legal Events
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Application publication date: 20121128 |