CN102707467A - 液晶面板的亮点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种提高液晶面板品质的液晶面板的亮点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板；所述方法包括步骤：A：在短接的第一TFT或第二TFT上做修补线打断数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接，B：将与第一TFT连接的第一像素电极以及与第二TFT连接的第二像素电极进行桥接。本发明由于在短接的第一TFT或第二TFT上做修补线打断数据线与像素电极之间的连接，并将与第一TFT连接的第一像素电极以及与第二TFT连接的第二像素电极进行桥接，避免了亮点的产生，也不需要再将像素修补成暗点，提高了液晶面板的显示质量以及液晶面板的品质。

Description

液晶面板的亮点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板
技术领域
本发明涉及液晶显示领域，更具体的说，涉及一种液晶面板的亮点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板。
背景技术
在液晶显示装置的像素（pixel）设计中，为了保证Main&CC（主和副）区的像素充电足够，而设计双TFT结构。
如图1所示，像素结构包括：第一TFT10、第二TFT20以及分别与第一TFT10、第二TFT20连接的第一像素电极50、第二像素电极60。但是在TFT LCD（液晶面板）制作过程中，包含有制程工艺以及转运，这个过程中会产生许多particle（颗粒物），这些颗粒物一部分会被清洗机台所清洗掉，而部分颗粒物会残留于液晶面板上（Array side or CF side，阵列基板或彩膜基板），这些残留于液晶面板上的颗粒物，会造成液晶面板点亮时产生亮点、亮（暗）线、碎亮点以及弱亮（暗）线等，这些影响都不允许出现在液晶面板上的。因此我们会以YAG laser（钇铝石榴石激光器）对LCD作修补，将颗粒物移除，或者将亮点修补成暗点。
为保证液晶面板的品质以及人眼的感官，亮点是绝不可有的，因此需要将亮点修补成暗点，然而暗点颗数也有一定规范，暗点颗数太多也会降低液晶面板的等级甚至报废。因此除了在液晶面板的生产过程中尽量降低机台以及环境的颗粒物外，液晶面板的修补技术也比较关键。
如图2及图3所示，当像素结构中的第一TFT或第二TFT被颗粒物污染而造成短接时，便会产生亮点，因此需要将亮点修补成暗点。图中所示，在第一TFT及第二TFT上分别设置了第一修补线11以及第二修补线21，以打断被污染的第一TFT或第二TFT分别与第一像素电极50以及第二像素电极60的连接，从而当扫描线40被启动时，第一像素电极50以及第二像素电极60不能被充电，从而不能进行显示，形成暗点。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种提高液晶面板品质的液晶面板的亮点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：一种液晶面板的亮点修补方法，包括步骤：
A：在短接的第一TFT或第二TFT上做修补线打断数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接，
B：将与第一TFT连接的第一像素电极以及与第二TFT连接的第二像素电极进行桥接。
优选的，所述步骤B中，将第一像素电极以及第二像素电极桥接是通过在第一TFT与第二TFT的漏极之间设置一ITO进行桥接的。ITO是透明的导电物质，从而使用ITO进行桥接不会影响液晶面板的透光率。
优选的，所述步骤B中，在设置所述ITO之前，还包括在所述第一TFT以及第二TFT的漏极上打过孔的步骤，所述ITO的两端分别设置在过孔位置处。通过过孔的加工，并使得ITO的两端分别处于过孔的位置处，进而提高ITO与像素电极之间的连接可靠性。
优选的，在所述第一TFT以及第二TFT的漏极上打过孔是通过激光进行的。通过激光加工过孔，工艺简单精度高。
优选的，所述步骤A中，打断数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接是通过在所述短接的第一TFT的漏极与所述第一像素电极之间或在短接的第二TFT的漏极与所述第二像素电极之间做修补线实现的。将短接的TFT与像素电极之间的连接设置修补线打断，从而可以打断数据线与像素电极之间的连接，也不会影响到其它线路。
一种经亮点修补后的液晶面板，包括：像素阵列，所述像素阵列由多个像素结构构成，所述每个像素结构包括：第一TFT、第二TFT、与所述第一TFT以及第二TFT分别连接的第一像素电极以及第二像素电极，所述第一TFT以及第二TFT共用一条数据线；在形成亮点的像素结构内，在短接的第一TFT或第二TFT上设置有修补线，所述修补线将数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接打断，所述第一像素电极与所述第二像素电极之间设置有桥接线路。
优选的，所述桥接线路是设置在所述第一TFT与第二TFT的漏极之间的ITO。ITO是透明的导电物质，从而使用ITO进行桥接不会影响液晶面板的透光率。
优选的，所述第一TFT与第二TFT的漏极上设置有过孔，所述ITO的两端分别设置在所述过孔位置处。通过过孔的设置，并使得ITO的两端分别处于过孔的位置处，进而提高ITO与TFT之间的连接可靠性。
优选的，所述第一TFT以及第二TFT的漏极上的过孔是通过激光进行加工的。通过激光加工过孔，工艺简单精度高。
优选的，所述修补线设在所述短接的第一TFT与所述第一像素之间或在短接的第二TFT与所述第二像素电极之间。将短接的TFT与像素电极之间的连接设置修补线打断，从而可以打断数据线与像素电极之间的连接，也不会影响到其它线路。
本发明由于在短接的第一TFT或第二TFT上做修补线打断数据线与像素电极之间的连接，并将与第一TFT连接的第一像素电极以及与第二TFT连接的第二像素电极进行桥接，若第一TFT没有短接而第二TFT受到颗粒物污染而短接，则当第一TFT导通时，被打断的第二TFT不能对第二像素电极进行充电，而第一像素电极以及第二像素电极都是由第一TFT进行充电，从而使得像素显示相应的灰阶，避免了亮点的产生，也不需要再将像素修补成暗点，提高了液晶面板的显示质量以及液晶面板的品质；相应的，若第一TFT短接而第二TFT没有短接，则情况也一样。
附图说明
图1是液晶面板的像素结构的结构简图，
图2是液晶面板的亮点修复成暗点的示意图，
图3也是液晶面板的亮点修复成暗点的示意图，
图4是本发明实施例中液晶面板的一个像素结构的结构简图，
图5是本发明所述的亮点修复方法的流程图。
其中：6、颗粒物，10、第一TFT，11、第一修补线，20、第二TFT，21、第二修补线，30、数据线，40、扫描线，50、漏极（第一TFT），60、漏极（第二TFT），70、ITO，71、过孔。
具体实施方式
下面结合附图和较佳的实施例对本发明作进一步说明。
如图5所示，本发明提供一种液晶面板的亮点修补方法，包括：
A：在短接的第一TFT或第二TFT上做修补线打断数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接，B：将与第一TFT连接的第一像素电极以及与第二TFT连接的第二像素电极进行桥接。
液晶面板包括阵列基板以及彩膜基板，其中，阵列基板上设置有多个像素结构，如图4所示，根据本发明提供的亮点修补方法，对一具有亮点的液晶面板修补，产生亮点的像素结构经修补后结构如图中所示，包括：第一TFT10、第二TFT20、与所述第一TF10T以及第二TFT20分别连接的第一像素电极以及第二像素电极（图中未示出）；所述第一TFT10以及第二TFT20共用一条数据线30以及一条扫描线40。第二TFT20由于在液晶面板的生产过程中，有颗粒物6残留，因而造成第二TFT20短接。为了避免产生亮点，需在短接的第二TFT20上做第二修补线21以打断数据线30与第二像素电极之间的连接，从而避免亮点的产生。第一TFT10以及第二TFT20之间，还设置有一ITO70将第一TFT10以及第二TFT20桥接起来，具体的，ITO70设置在第一TFT10的漏极50以及第二TFT20的漏极60之间。由于第一TFT10的漏极50与第一像素电极连接，第二TFT20的漏极60与第二像素电极连接，则第一TFT10的漏极50与第二TFT20的漏极60之间的桥接，也就相当于第一像素电极与第二像素电极之间的桥接；当第一TFT10导通时，第一像素电极得到充电电压V1，而由于第一TFT10与第二TFT20有ITO70进行桥接，因而第二像素电极也得到充电电压V1，这样，此时液晶面板在该像素位置显示电压V1所对应的灰阶。
第一TFT10上的漏极50以及第二TFT20上的漏极60上分别通过激光加工有过孔71，ITO70的两端分别设置在过孔71上，进而可提高IT070与两个TFT之间的连接可靠性。ITO70作为第一TFT10以及第二TFT20之间的桥接线路，由于其具有透光性，从而不会影响液晶面板的透光率，当然，也可以选用其他导电材料作为第一TFT10及第二TFT20之间的桥接线路。
以下是本实施例中修补后的像素结构的具体修补方法，包括以下步骤:
A：在短接的第二TFT20上做第二修补线21打断数据线30与第二像素电极之间的连接，具体的第二修补线21位置可以设置在第二TFT20的漏极60与第二像素电极之间；当然，也可以在数据线30与第二TFT20之间做修补线。
B：将与第一TFT10连接的第一像素电极以及与第二TFT20连接的第二像素电极进行桥接。
步骤B中，具体的还包括：
步骤B1：在所述第一TFT10的漏极50以及第二TFT20的漏极60上使用激光打过孔71；
在步骤B中，将与第一TFT10连接的第一像素电极以及与第二TFT20连接的第二像素电极进行桥接是通过在第一TFT10上的漏极50与第二TFT20的漏极60之间设置一ITO70进行桥接的。ITO70是透明的导电物质，从而使用ITO70进行桥接不会影响液晶面板的透光率；同时，ITO70的两端分别设置在过孔71的位置处，过孔71使得ITO70与TFT（第一TFT10的漏极50以及第二TFT20的漏极60）之间的连接更为可靠。
在本发明实施例中，由于颗粒物6残留于第二TFT20上，从而需要将第二TFT20与第二像素电极之间的连接进行打断，而避免亮点产生；当然，所颗粒物6残留于第一TFT10上时，则需要在第一TFT10上做修补线打断第一TFT与第一像素电极之间的连接进行打断，相应的，需要将第一TFT10以及第二TFT20进行桥接，以使得第一像素电极以及第二像素电极均得到充电，从而可以避免暗点的产生。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种液晶面板的亮点修补方法，包括步骤：
A：在短接的第一TFT或第二TFT上做修补线打断数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接，
B：将与第一TFT连接的第一像素电极以及与第二TFT连接的第二像素电极进行桥接。
2.如权利要求1所述的一种液晶面板的亮点修补方法，其特征在于，所述步骤B中，将第一像素电极以及第二像素电极桥接是通过在第一TFT与第二TFT的漏极之间设置一ITO进行桥接的。
3.如权利要求2所述的一种液晶面板的亮点修补方法，其特征在于，所述步骤B中，在设置所述ITO之前，还包括在所述第一TFT以及第二TFT的漏极上打过孔的步骤，所述ITO的两端分别设置在过孔位置处。
4.如权利要求3所述的一种液晶面板的亮点修补方法，其特征在于，在所述第一TFT以及第二TFT的漏极上打过孔是通过激光进行的。
5.如权利要求1所述的一种液晶面板的亮点修补方法，其特征在于，所述步骤A中，打断数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接是通过在所述短接的第一TFT与所述第一像素电极之间或在短接的第二TFT与所述第二像素电极之间做修补线实现的。
6.一种经亮点修补后的液晶面板，包括：阵列基板，所述阵列基板包括多个像素结构，所述每个像素结构包括：第一TFT、第二TFT、与所述第一TFT以及第二TFT分别连接的第一像素电极以及第二像素电极；其特征在于，在形成亮点的像素结构内，在短接的第一TFT或第二TFT上设置有修补线，所述修补线将数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接打断，所述第一像素电极与所述第二像素电极之间设置有桥接线路。
7.如权利要求6所述的一种经亮点修补后的液晶面板，其特征在于，所述桥接线路是设置在所述第一TFT与第二TFT的漏极之间的ITO。
8.如权利要求7所述的一种经亮点修补后的液晶面板，其特征在于，所述第一TFT与第二TFT的漏极上设置有过孔，所述ITO的两端分别设置在所述过孔位置处。
9.如权利要求8所述的一种经亮点修补后的液晶面板，其特征在于，所述第一TFT以及第二TFT的漏极上的过孔是通过激光进行加工的。
10.如权利要求8所述的一种经亮点修补后的液晶面板，其特征在于，所述修补线设在所述短接的第一TFT与所述第一像素之间或在短接的第二TFT与所述第二像素电极之间。
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