WO2013189088A1 - 液晶面板的亮点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板 - Google Patents

液晶面板的亮点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板 Download PDF

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Abstract

一种提高液晶面板品质的液晶面板的亮点修补方法,所述方法包括步骤:A:在短接的第一TFT(10)或第二TFT(20)上做修补线(11,21)打断数据线(30)与第一像素电极或第二像素电极之间的连接,B:将与第一TFT(10)连接的第一像素电极以及与第二TFT(20)连接的第二像素电极进行桥接。由于在短接的第一TFT(10)或第二TFT(20)上做修补线(11,21)打断数据线(30)与像素电极之间的连接,并将与第一TFT(10)连接的第一像素电极以及与第二TFT(20)连接的第二像素电极进行桥接,避免了亮点的产生,也不需要再将像素修补成暗点,提高了液晶面板的显示质量以及液晶面板的品质。还披露了一种经亮点修补后的液晶面板。

Description

液晶面板的亮点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板
【技术领域】
本发明涉及液晶显示领域, 更具体的说, 涉及一种液晶面板的亮点修补方 法以及经亮点修补后的液晶面板。
【背景技术】
在液晶显示装置的像素 (pixel )设计中, 为了保证 Main&CC (主和副) 区的像素充电足够, 而设计双 TFT结构。
如图 1所示, 像素结构包括: 第一 TFT10、 第二 TFT20 以及分别与第一 TFT10、第二 TFT20连接的第一像素电极 50、第二像素电极 60。但是在 TFT LCD (液晶面板)制作过程中, 包含有制程工艺以及转运, 这个过程中会产生许多 particle (颗粒物), 这些颗粒物一部分会被清洗机台所清洗掉, 而部分颗粒物会 残留于液晶面板上(Array side or CF side, 阵列基板或彩膜基板), 这些残留于 液晶面板上的颗粒物, 会造成液晶面板点亮时产生亮点、 亮 (暗) 线、 碎亮点 以及弱亮 (暗) 线等, 这些影响都不允许出现在液晶面板上的。 因此我们会以 YAG laser (钇铝石榴石激光器)对 LCD作修补, 将颗粒物移除, 或者将亮点修 补成暗点。
为保证液晶面板的品质以及人眼的感官, 亮点是绝不可有的, 因此需要将 亮点修补成暗点, 然而暗点颗数也有一定规范, 暗点颗数太多也会降低液晶面 板的等级甚至报废。 因此除了在液晶面板的生产过程中尽量降低机台以及环境 的颗粒物外, 液晶面板的修补技术也比较关键。
如图 2及图 3所示, 当像素结构中的第一 TFT或第二 TFT被颗粒物污染 而造成短接时, 便会产生亮点, 因此需要将亮点修补成暗点。 图中所示, 在第 一 TFT及第二 TFT上分别设置了第一修补线 11以及第二修补线 21 , 以打断被 污染的第一 TFT或第二 TFT分别与第一像素电极 50以及第二像素电极 60的连 接, 从而当扫描线 40被启动时, 第一像素电极 50以及第二像素电极 60不能被 充电, 从而不能进行显示, 形成暗点。
【发明内容】
本发明所要解决的技术问题是提供一种提高液晶面板品质的液晶面板的亮 点修补方法以及经亮点修补后的液晶面板。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的: 一种液晶面板的亮点修补方 法, 包括步骤:
A: 在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修补线打断数据线与第一像素电极 或第二像素电极之间的连接,
B: 在所述第一 TFT以及第二 TFT的漏极上打过孔, 将与第一 TFT连接的 第一像素电极以及与第二 TFT连接的第二像素电极的漏极之间使用 ITO进行桥 接, 所述 ITO的两端分别设置在过孔的位置处。
本发明的目的还通过以下技术方案来实现: 一种液晶面板的亮点修补方法, 包括步骤:
A: 在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修补线打断数据线与第一像素电极 或第二像素电极之间的连接,
B: 将与第一 TFT连接的第一像素电极以及与第二 TFT连接的第二像素电 极进行桥接。
优选的, 所述步骤 B 中, 将第一像素电极以及第二像素电极桥接是通过在 第一 TFT与第二 TFT的漏极之间设置一 ITO进行桥接的。 ITO是透明的导电物 质, 从而使用 ITO进行桥接不会影响液晶面板的透光率。
优选的, 所述步骤 B中, 在设置所述 ITO之前, 还包括在所述第一 TFT以 及第二 TFT的漏极上打过孔的步骤, 所述 ITO的两端分别设置在过孔位置处。 通过过孔的加工, 并使得 ITO的两端分别处于过孔的位置处, 进而提高 ITO与 像素电极之间的连接可靠性。
优选的,在所述第一 TFT以及第二 TFT的漏极上打过孔是通过激光进行的。 通过激光加工过孔, 工艺筒单精度高。
优选的, 所述步骤 A中, 打断数据线与第一像素电极或第二像素电极之间 的连接是通过在所述短接的第一 TFT的漏极与所述第一像素电极之间或在短接 的第二 TFT的漏极与所述第二像素电极之间做修补线实现的。 将短接的 TFT与 像素电极之间的连接设置修补线打断, 从而可以打断数据线与像素电极之间的 连接, 也不会影响到其它线路。
一种经亮点修补后的液晶面板, 包括: 像素阵列, 所述像素阵列由多个像 素结构构成, 所述每个像素结构包括: 第一 TFT、 第二 TFT、 与所述第一 TFT 以及第二 TFT分别连接的第一像素电极以及第二像素电极, 所述第一 TFT以及 第二 TFT共用一条数据线; 在形成亮点的像素结构内, 在短接的第一 TFT或第 二 TFT上设置有修补线, 所述修补线将数据线与第一像素电极或第二像素电极 之间的连接打断, 所述第一像素电极与所述第二像素电极之间设置有桥接线路。
优选的, 所述桥接线路是设置在所述第一 TFT与第二 TFT 的漏极之间的 ITO。 ITO是透明的导电物质, 从而使用 ITO进行桥接不会影响液晶面板的透光 率。
优选的, 所述第一 TFT与第二 TFT的漏极上设置有过孔, 所述 ITO的两端 分别设置在所述过孔位置处。 通过过孔的设置, 并使得 ITO的两端分别处于过 孔的位置处, 进而提高 ITO与 TFT之间的连接可靠性。
优选的, 所述第一 TFT以及第二 TFT的漏极上的过孔是通过激光进行加工 的。 通过激光加工过孔, 工艺筒单精度高。
优选的, 所述修补线设在所述短接的第一 TFT与所述第一像素之间或在短 接的第二 TFT与所述第二像素电极之间。 将短接的 TFT与像素电极之间的连接 设置修补线打断, 从而可以打断数据线与像素电极之间的连接, 也不会影响到 其它线路。
本发明由于在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修补线打断数据线与像素电 极之间的连接, 并将与第一 TFT连接的第一像素电极以及与第二 TFT连接的第 二像素电极进行桥接,若第一 TFT没有短接而第二 TFT受到颗粒物污染而短接, 则当第一 TFT导通时, 被打断的第二 TFT不能对第二像素电极进行充电, 而第 一像素电极以及第二像素电极都是由第一 TFT进行充电, 从而使得像素显示相 应的灰阶, 避免了亮点的产生, 也不需要再将像素修补成暗点, 提高了液晶面 板的显示质量以及液晶面板的品质; 相应的, 若第一 TFT短接而第二 TFT没有 短接, 则情况也一样。
【附图说明】
图 1是液晶面板的像素结构的结构筒图,
图 2是液晶面板的亮点修复成暗点的示意图,
图 3也是液晶面板的亮点修复成暗点的示意图,
图 4是本发明实施例中液晶面板的一个像素结构的结构筒图,
图 5是本发明所述的亮点修复方法的流程图。
其中: 6、 颗粒物, 10、 第一 TFT, 11、 第一修补线, 20、 第二 TFT, 21、 第二修补线, 30、 数据线, 40、 扫描线, 50、 漏极(第一 TFT ), 60、 漏极(第 二 TFT ), 70、 ITO, 71、 过孔。
【具体实施方式】
下面结合附图和较佳的实施例对本发明作进一步说明。
如图 5所示, 本发明提供一种液晶面板的亮点修补方法, 包括:
A: 在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修补线打断数据线与第一像素电极 或第二像素电极之间的连接, B: 将与第一 TFT连接的第一像素电极以及与第 二 TFT连接的第二像素电极进行桥接。
液晶面板包括阵列基板以及彩膜基板, 其中, 阵列基板上设置有多个像素 结构, 如图 4所示, 根据本发明提供的亮点修补方法, 对一具有亮点的液晶面 板修补, 产生亮点的像素结构经修补后结构如图中所示, 包括: 第一 TFT10、 第二 TFT20、 与所述第一 TF10T以及第二 TFT20分别连接的第一像素电极以及 第二像素电极(图中未示出); 所述第一 TFT10以及第二 TFT20共用一条数据 线 30以及一条扫描线 40。 第二 TFT20由于在液晶面板的生产过程中, 有颗粒 物 6残留,因而造成第二 TFT20短接。为了避免产生亮点,需在短接的第二 TFT20 上做第二修补线 21以打断数据线 30与第二像素电极之间的连接, 从而避免亮 点的产生。 第一 TFT10以及第二 TFT20之间, 还设置有一 ITO70将第一 TFT10 以及第二 TFT20桥接起来, 具体的, ITO70设置在第一 TFT10的漏极 50以及 第二 TFT20的漏极 60之间。 由于第一 TFT10的漏极 50与第一像素电极连接, 第二 TFT20的漏极 60与第二像素电极连接, 则第一 TFT10的漏极 50与第二 TFT20的漏极 60之间的桥接, 也就相当于第一像素电极与第二像素电极之间的 桥接;当第一 TFT10导通时,第一像素电极得到充电电压 VI ,而由于第一 TFT10 与第二 TFT20有 ITO70进行桥接,因而第二像素电极也得到充电电压 VI ,这样, 此时液晶面板在该像素位置显示电压 VI所对应的灰阶。
第一 TFT10上的漏极 50以及第二 TFT20上的漏极 60上分别通过激光加工 有过孔 71 , ITO70的两端分别设置在过孔 71上, 进而可提高 IT070与两个 TFT 之间的连接可靠性。 ITO70作为第一 TFT10以及第二 TFT20之间的桥接线路, 由于其具有透光性, 从而不会影响液晶面板的透光率, 当然, 也可以选用其他 导电材料作为第一 TFT10及第二 TFT20之间的桥接线路。
以下是本实施例中修补后的像素结构的具体修补方法, 包括以下步骤:
A: 在短接的第二 TFT20上做第二修补线 21打断数据线 30与第二像素电 极之间的连接, 具体的第二修补线 21位置可以设置在第二 TFT20的漏极 60与 第二像素电极之间; 当然, 也可以在数据线 30与第二 TFT20之间做修补线。
B: 将与第一 TFT10连接的第一像素电极以及与第二 TFT20连接的第二像 素电极进行桥接。
步骤 B中, 具体的还包括:
步骤 B1: 在所述第一 TFT10的漏极 50以及第二 TFT20的漏极 60上使用 激光打过孔 71;
在步骤 B中,将与第一 TFT10连接的第一像素电极以及与第二 TFT20连接 的第二像素电极进行桥接是通过在第一 TFT10上的漏极 50与第二 TFT20的漏 极 60之间设置一 ITO70进行桥接的。 ITO70是透明的导电物质,从而使用 ITO70 进行桥接不会影响液晶面板的透光率; 同时, ITO70的两端分别设置在过孔 71 的位置处, 过孔 71使得 ITO70与 TFT (第一 TFT10的漏极 50以及第二 TFT20 的漏极 60 )之间的连接更为可靠。
在本发明实施例中, 由于颗粒物 6残留于第二 TFT20上, 从而需要将第二 TFT20 与第二像素电极之间的连接进行打断, 而避免亮点产生; 当然, 所颗粒 物 6残留于第一 TFT10上时,则需要在第一 TFT10上做修补线打断第一 TFT与 第一像素电极之间的连接进行打断,相应的,需要将第一 TFT10以及第二 TFT20 进行桥接, 以使得第一像素电极以及第二像素电极均得到充电, 从而可以避免 暗点的产生。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明, 不 能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。 对于本发明所属技术领域的普通 技术人员来说, 在不脱离本发明构思的前提下, 还可以做出若干筒单推演或替 换, 都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims

权利要求
1、 一种液晶面板的亮点修补方法, 包括步骤:
A: 在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修补线打断数据线与第一像素电极 或第二像素电极之间的连接,
B: 在所述第一 TFT以及第二 TFT的漏极上打过孔, 将与第一 TFT连接的 第一像素电极以及与第二 TFT连接的第二像素电极的漏极之间使用 ITO进行桥 接, 所述 ITO的两端分别设置在过孔的位置处。
2、 一种液晶面板的亮点修补方法, 包括步骤:
A: 在短接的第一 TFT或第二 TFT上做修补线打断数据线与第一像素电极 或第二像素电极之间的连接,
B: 将与第一 TFT连接的第一像素电极以及与第二 TFT连接的第二像素电 极进行桥接。
3、 如权利要求 2所述的一种液晶面板的亮点修补方法, 其特征在于, 所述 步骤 B中,将第一像素电极以及第二像素电极桥接是通过在第一 TFT与第二 TFT 的漏极之间设置一 ITO进行桥接的。
4、 如权利要求 3所述的一种液晶面板的亮点修补方法, 其特征在于, 所述 步骤 B中,在设置所述 ITO之前,还包括在所述第一 TFT以及第二 TFT的漏极 上打过孔的步骤, 所述 ITO的两端分别设置在过孔位置处。
5、 如权利要求 4所述的一种液晶面板的亮点修补方法, 其特征在于, 在所 述第一 TFT以及第二 TFT的漏极上打过孔是通过激光进行的。
6、 如权利要求 2所述的一种液晶面板的亮点修补方法, 其特征在于, 所述 步骤 A中, 打断数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接是通过在所 述短接的第一 TFT与所述第一像素电极之间或在短接的第二 TFT与所述第二像 素电极之间做修补线实现的。
7、 一种经亮点修补后的液晶面板, 包括: 阵列基板, 所述阵列基板包括多 个像素结构, 所述每个像素结构包括: 第一 TFT、 第二 TFT、 与所述第一 TFT 以及第二 TFT分别连接的第一像素电极以及第二像素电极; 其特征在于, 在形 成亮点的像素结构内, 在短接的第一 TFT或第二 TFT上设置有修补线, 所述修 补线将数据线与第一像素电极或第二像素电极之间的连接打断, 所述第一像素 电极与所述第二像素电极之间设置有桥接线路。
8、 如权利要求 7所述的一种经亮点修补后的液晶面板, 其特征在于, 所述 桥接线路是设置在所述第一 TFT与第二 TFT的漏极之间的 ITO。
9、 如权利要求 8所述的一种经亮点修补后的液晶面板, 其特征在于, 所述 第一 TFT与第二 TFT的漏极上设置有过孔,所述 ΙΤΟ的两端分别设置在所述过 孔位置处。
10、 如权利要求 9所述的一种经亮点修补后的液晶面板, 其特征在于, 所 述第一 TFT以及第二 TFT的漏极上的过孔是通过激光进行加工的。
11、 如权利要求 9 所述的一种经亮点修补后的液晶面板, 其特征在于, 所 述修补线设在所述短接的第一 TFT与所述第一像素之间或在短接的第二 TFT与 所述第二像素电极之间。
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