CN102645689A - 彩色滤光片及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开了一种彩色滤光片及其制造方法，涉及液晶显示技术领域，用于提供一种便于控制图形膜层厚度的制造彩色滤光片的方法以及按照该方法制造的彩色滤光片。本发明中，在第一透明基板上形成第一图形膜层；在第二透明基板上形成透明膜层，在透明膜层上形成第二图形膜层；将透明膜层与第二透明基板分离；将带有透明膜层的第二图形膜层与第一图形膜层对合。采用本发明，能够较好的控制彩色滤光片上图形膜层的厚度。

Description

彩色滤光片及其制造方法

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种彩色滤光片及其制造方法。

背景技术

随着薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)技术的发展，其成本的降低和制造工艺的进一步完善，使其成为平板显示领域的主流技术。TFT-LCD是由彩色滤光片和阵列基板对盒后在其中注入液晶而形成。其中阵列基板是由薄膜晶体管和像素电极组成，彩色滤光片主要为TFT-LCD提供色彩。

现有技术所制备的彩色滤光片如图1和图2所示，图1为彩色滤光片侧面剖面图，图2为彩色滤光片的俯视图。

如图1所示，彩色滤光片包括透明基板1、黑矩阵图形2、像素树脂层3、保护层4和隔垫物5。

彩色滤光片的制造方法如下：首先在透明基板1上形成黑矩阵图形2，如图2所示的黑色部分；然后在透明基板1上未涂覆有黑矩阵图形2的部分形成像素树脂层3，如图2所示的空白部分，像素树脂层3包括红色像素树脂层、绿色像素树脂层和蓝色像素树脂层；然后在形成有黑矩阵图形2和像素树脂层3的透明基板1上形成保护层4，最后在保护层4上形成隔垫物5。在彩色滤光片上设置黑矩阵图形既可以隔离彩色树脂，防止混色，又可以阻挡外界光线照射到TFT器件沟道处的a-Si层上产生暗态漏电流，还可以防止像素区域的漏光现象。

在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术中存在以下技术问题：

现有技术中在制造彩色滤光片时，先在透明基板上形成黑矩阵图形，然后再在黑矩阵图形间形成像素树脂层，在制作像素树脂层时，为了避免像素树脂层的边缘漏光，像素树脂层的图形边缘与黑矩阵图形有一段交叠，并且由于阻力作用等，也很难控制黑矩阵图形和像素树脂层的厚度达到一致，从而引起突起，使得像素树脂层的厚度不均匀，造成像素树脂层的段差，段差对取向层的涂覆、摩擦效果、乃至液晶取向都会产生影响，以致于影响显示画面品质。

发明内容

本发明实施例提供一种彩色滤光片及其制造方法，用于提供一种便于控制图形膜层厚度的制造彩色滤光片的方法以及按照该方法制造的彩色滤光片。

一种彩色滤光片的制造方法，该方法包括：

在第一透明基板上形成第一图形膜层；在第二透明基板上形成透明膜层，在透明膜层上形成第二图形膜层；

将透明膜层与第二透明基板分离；将带有透明膜层的第二图形膜层与第一图形膜层对合。

一种彩色滤光片，包括透明基板、形成在透明基板上的黑矩阵图形和像素树脂层，该彩色滤光片还包括形成在黑矩阵图形和像素树脂层上的透明膜层。

本发明中，在第一透明基板上形成第一图形膜层；在第二透明基板上形成透明膜层，在透明膜层上形成第二图形膜层，第一图形膜层和第二图形膜层形成在不同的透明基板上，可以容易的控制各图形膜层的厚度；在第一图形膜层、第二图形膜层中的一个为黑矩阵图形，另一个为像素树脂层时，可以较好的控制像素树脂层的厚度，使得像素树脂层的厚度均匀，从而避免了由于像素树脂层的厚度不均匀造成的显示质量受到影响的问题。

附图说明

图1为现有技术中彩色滤光片的侧面剖面图；

图2为现有技术中彩色滤光片的俯视图；

图3A为本发明实施例提供的一种彩色滤光片的制造方法示意图；

图3B为本发明实施例提供的另一种彩色滤光片的制造方法示意图；

图4为本发明实施例提供的彩色滤光片的侧面剖面图；

图5为本发明实施例提供的又一种彩色滤光片的制造方法示意图；

图6为本发明实施例一中在玻璃基板上形成黑矩阵图形后的俯视图；

图7为本发明实施例一中在玻璃基板上形成透明膜层和像素树脂层后的俯视图；

图8为本发明实施例二中在玻璃基板上形成像素树脂层后的俯视图；

图9为本发明实施例二中在玻璃基板上形成透明膜层和黑矩阵图形后的俯视图。

具体实施方式

为了在彩色滤光片的制造过程中能够较好的控制图形膜层的厚度，本发明实施例提供一种彩色滤光片的制造方法以及彩色滤光片，如图3A所示，本方法具体包括以下步骤：

步骤301：在第一透明基板上形成第一图形膜层；在第二透明基板上形成透明膜层，在透明膜层上形成第二图形膜层；

步骤302：将透明膜层与第二透明基板分离，将带有透明膜层的第二图形膜层与第一图形膜层对合。

本发明中，第一图形膜层为黑矩阵图形，第二图形膜层为像素树脂层；或者，第一图形膜层为像素树脂层，第二图形膜层为黑矩阵图形。下面分别进行说明：

参见图3B，本发明实施例提供的彩色滤光片的制造方法，本方法中，黑矩阵图形和像素树脂层在不同的透明基板上形成，像素树脂层的厚度与黑矩阵图形的厚度相同，然后将像素树脂层与黑矩阵图形对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；最后在透明膜层上形成隔垫物。具体包括以下步骤：

步骤30：在第一透明基板上形成黑矩阵图形；并在第二透明基板上形成透明膜层，在透明膜层上形成像素树脂层，像素树脂层的形状与黑矩阵图形所围成的像素区域的形状呈镜面对称、并且像素树脂层的厚度与黑矩阵图形的厚度相同；

步骤31：将透明膜层与第二透明基板分离并将带有透明膜层的像素树脂层与黑矩阵图形对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；

步骤32：在透明膜层上形成隔垫物。

步骤30中，在第二透明基板上形成透明膜层，其具体实现可以采用如下两种方法：

第一，使用大气压力或粘结剂，将透明膜层与第二透明基板相结合；

第二，使用贴膜机械将透明膜层贴敷在第二透明基板上。

步骤30中，在透明膜层上形成像素树脂层，其具体实现方法可以如下：

首先，在透明膜层上涂覆像素树脂；

然后，使用刻画有图形的掩模板在像素树脂上曝光并显影，得到像素树脂层；像素树脂层的图形形状与黑矩阵图形所围成的像素区域的形状呈镜面对称。

步骤31的具体实现可以采用如下两种方法：

第一，将透明膜层与第二透明基板分离后，将带有透明膜层的像素树脂层与第一透明基板上的黑矩阵图形对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；

第二，将第二透明基板上的像素树脂层与第一透明基板上的黑矩阵图形对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；将透明膜层与第二透明基板分离。

上述将透明膜层与第二透明基板分离的具体实现可以采用如下三种方法中的一种或任意组合方法：

第一，采用揭片机将形成有像素树脂层的透明膜层从第二透明基板上剥离下来；

第二，将第二透明基板放入沸水中，以使透明膜层与第二透明基板分离；

第三，在第二透明基板上的小孔处通入空气，以使透明膜层与第二透明基板分离，所述小孔位于第二透明基板上未涂覆有像素树脂层的位置。

在将带有透明膜层的像素树脂层与第一透明基板上的黑矩阵图形对合时，可以通过大气压力或者粘结剂，使带有透明膜层的像素树脂层与形成有黑矩阵图形的透明基板均匀结合在一起。

进一步的，为了提高取向层的平整度以及为了满足TN型、VA型等液晶显示器的需要，在将带有透明膜层的像素树脂层与黑矩阵图形对合之后、并且在透明膜层上形成隔垫物之前，可以在透明膜层上形成用于公共电极的透明导电层；然后再在透明导电层上形成隔垫物。

需要说明的是，步骤30中在第一透明基板上形成黑矩阵图形的步骤，与在第二透明基板上形成透明膜层和在透明膜层上形成像素树脂层的步骤之间没有严格的时序关系，可以是先在第一透明基板上形成黑矩阵图形，然后在第二透明基板上形成透明膜层和在透明膜层上形成像素树脂层；也可以是先在第二透明基板上形成透明膜层和在透明膜层上形成像素树脂层，然后在第一透明基板上形成黑矩阵图形；还可以是两个步骤同时进行。

参见图4，本发明实施例还提供一种按照上述图3中的方法制造的彩色滤光片，该彩色滤光片包括透明基板1、形成在透明基板1上的黑矩阵图形2和像素树脂层3、形成在黑矩阵图形2和像素树脂层3上的透明膜层6、以及形成在透明膜层6上的隔垫物5，较优的，像素树脂层3位于黑矩阵图形2所围成的像素区域内，并且黑矩阵图形2的厚度与像素树脂层3的厚度相同。

进一步的，在透明膜层6与隔垫物5之间还形成有用于公共电极的透明导电层。

本发明实施例还提供另一种彩色滤光片的制造方法以及彩色滤光片，本方法中，黑矩阵图形和像素树脂层在不同的透明基板上形成，像素树脂层的厚度与黑矩阵图形的厚度相同，然后将像素树脂层与黑矩阵图形对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；最后在透明膜层上形成隔垫物。

参见图5，本发明实施例提供的彩色滤光片的制造方法，包括以下步骤：

步骤50：在第一透明基板上形成像素树脂层；并在第二透明基板上形成透明膜层，在透明膜层上形成黑矩阵图形，黑矩阵图形所围成的像素区域的形状与像素树脂层的形状呈镜面对称、并且像素树脂层的厚度与黑矩阵图形的厚度相同；

步骤51：将透明膜层与第二透明基板分离并将带有透明膜层的黑矩阵图形与像素树脂层对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；

步骤52：在透明膜层上形成隔垫物。

步骤50中，在第二透明基板上形成透明膜层，其具体实现可以采用如下两种方法：

第一，使用大气压力或粘结剂，将透明膜层与第二透明基板相结合；

第二，使用贴膜机械将透明膜层贴敷在第二透明基板上。

步骤50中，在透明膜层上形成黑矩阵图形，其具体实现方法可以如下：

首先，在透明膜层上涂覆黑矩阵用光阻剂；

然后，使用刻画有图形的掩模板在黑矩阵用光阻剂上曝光并显影，得到黑矩阵图形，黑矩阵图形所围成的区域的形状与像素树脂层的形状呈镜面对称。

步骤51的具体实现可以采用如下两种方法：

第一，将透明膜层与第二透明基板分离后，将带有透明膜层的黑矩阵图形与第一透明基板上的像素树脂层对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；

第二，将第二透明基板上的黑矩阵图形与第一透明基板上的像素树脂层对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；将透明膜层与第二透明基板分离。

上述将透明膜层与第二透明基板分离的具体实现可以采用如下三种方法中的一种或任意组合方法：

第一，采用揭片机将形成有黑矩阵图形的透明膜层从第二透明基板上剥离下来；

第二，将第二透明基板放入沸水中，以使透明膜层与第二透明基板分离；

第三，在第二透明基板上的小孔处通入空气，以使透明膜层与第二透明基板分离，所述小孔位于第二透明基板上未涂覆有黑矩阵图形的位置。

进一步的，为了提高取向层的平整度以及为了满足TN型、VA型等液晶显示器的需要，在将带有透明膜层的黑矩阵图形与像素树脂层对合之后、并且在透明膜层上形成隔垫物之前，可以在在透明膜层上形成用于公共电极的透明导电层；然后再在透明导电层上形成隔垫物。

需要说明的是，步骤50中在第一透明基板上形成像素树脂层的步骤，与在第二透明基板上形成透明膜层和在透明膜层上形成黑矩阵图形的步骤之间没有严格的时序关系，可以是先在第一透明基板上形成像素树脂层，然后在第二透明基板上形成透明膜层和在透明膜层上形成黑矩阵图形；也可以是先在第二透明基板上形成透明膜层和在透明膜层上形成黑矩阵图形，然后在第一透明基板上形成像素树脂层；还可以是两个步骤同时进行。

仍参见图4，本发明实施例还提供一种按照上述图5中的方法制造的彩色滤光片，该彩色滤光片包括透明基板1、形成在透明基板上的黑矩阵图形2和像素树脂层3、形成在黑矩阵图形2和像素树脂层3上的透明膜层6、以及形成在透明膜层上的隔垫物5，较优的，像素树脂层3位于黑矩阵图形2所围成的像素区域内，并且黑矩阵图形2的厚度与像素树脂层3的厚度相同。

进一步的，在透明膜层6与隔垫物5之间还形成有用于公共电极的透明导电层。

本发明中的透明基板具体可以是玻璃基板等。隔垫物具体可以是柱状隔垫物，用于在彩色滤光片和阵列基板对盒后在彩色滤光片与阵列基板之间形成空隙。像素树脂层包括红色像素树脂层、绿色像素树脂层和蓝色像素树脂层。黑矩阵图形和像素树脂层的厚度的取值可以在1-5微米之间，当然也可以是任何其他厚度值。透明膜层用于保护下面的黑矩阵图形和像素树脂层，透明膜层具体可以为环氧树脂透明薄膜或聚酰亚胺透明薄膜等具有抗拉性、耐高温性能、耐腐蚀性能的透明薄膜。

下面结合具体实施例对本发明进行说明：

实施例一：

步骤1、在玻璃基板上形成黑矩阵图形。

步骤2、在另一玻璃基板上先形成一透明膜层，然后在透明膜层上形成像素树脂层，像素树脂层的形状与黑矩阵图形所围成的像素区域的形状呈镜面对称，像素树脂层包括红色像素树脂层、绿色像素树脂层和蓝色像素树脂层。

步骤3、将带有透明膜层的像素树脂层从玻璃基板上取下，使透明膜层朝上，将带有透明膜层的像素树脂层与完成步骤1的玻璃基板对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内。

步骤4、在完成步骤3的玻璃基板上形成柱状隔垫物。

其中步骤1和步骤2可以同时进行。

下面结合附图对本实施例发明进行详细描述。

如图4所示，为本实施例提供的彩色滤光片的侧面剖面图。本实施例中的彩色滤光片具体结构包括玻璃基板1、在所述玻璃基板上设置的黑矩阵图形2、像素树脂层3、透明膜层6和柱状隔垫物5。其中像素树脂层和黑矩阵图形分别在不同的玻璃基板上形成，如图6所示为在玻璃基板上形成黑矩阵图形后的俯视图；如图7所示为在玻璃基板上先形成透明膜层，再在其表面形成红色、绿色和蓝色像素树脂层后的俯视图。像素树脂层的厚度和黑矩阵厚度一致，可以为1-5μm之间的一个数值。

下面举例说明液晶显示器的彩色滤光片的制造方法，包括：

步骤1、在玻璃基板上形成黑矩阵图形，具体为：在玻璃基板上涂覆一层黑矩阵用光阻剂，并通过刻画有图形的掩膜板曝光并显影，得到黑矩阵图形。所述黑矩阵图形厚度可以为1-5μm之间的一个数值，如图6所示。

步骤2、在另一玻璃基板上形成透明膜层和像素树脂层，具体为：先在玻璃基板上形成一透明膜层，该透明膜层可为环氧树脂透明薄膜。在透明膜层上涂覆红色像素树脂，并通过刻画有图形的掩模板曝光并显影而得到红色像素树脂层。重复上述步骤得到绿色像素树脂层和蓝色像素树脂层。所述像素树脂层形状与步骤1中黑矩阵图形所围成的像素区域呈镜面对称，且其厚度与黑矩阵图形一致，可以为1-5μm之间的一个数值，如图7。

步骤3、将带有透明膜层的像素树脂层从玻璃基板上取下，使透明膜层朝上，将带有透明膜层的像素树脂层与完成步骤1的玻璃基板对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内。

步骤4、在完成步骤3的玻璃基板上形成柱状隔垫物，如图4。

其中步骤1和步骤2可以同时进行。

另外，为了提高取向层的平整度以及为了满足TN型、VA型等液晶显示器的需要，在本发明的彩色滤光片的制造方法中的步骤3之后，还可以增加形成透明导电层的步骤，具体为，在所述像素树脂层上通过掩膜工艺形成透明导电层，使其起到公共电极的作用。在完成了这些之后再完成步骤4形成柱状隔垫物。

步骤3中可以将形成有像素树脂层的透明膜层先从玻璃基板上剥离，再根据完成步骤1的玻璃基板上面的标记(mark)，将带有透明膜层的像素树脂层与该玻璃基板进行对位粘合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；还可以直接将形成有透明膜层和像素树脂层的玻璃基板和形成有黑矩阵图形的玻璃基板，根据玻璃基板上的mark进行对位粘合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内，然后再将透明膜层从玻璃基板剥离下来。

上述将透明膜层从玻璃基板上剥离的实施方式如下：

采用揭片机进行剥离，例如，通过调整偏振片揭膜机的设备参数，可实现剥离微米级的薄膜并保留薄膜完整性和平整性；

放入水中将水煮至沸腾，实现聚酰亚胺薄膜从玻璃基板上的完整剥离；

通过大气压力与玻璃基板粘合的聚酰亚胺薄膜，可在粘合前在玻璃基板上均匀形成一定量的小孔，揭膜时在这些小孔处通入空气，从而实现薄膜的完整剥离。

上述三种方法可以单独使用，也可彼此结合使用。

本实施例采用先将像素树脂层和黑矩阵图形各自形成于一块玻璃基板之上，再将形成于透明膜层上的像素树脂层结合于形成黑矩阵图形的玻璃基板之上的方法，一方面较好的控制黑矩阵图形和像素树脂层的厚度，减小了段差，透明膜层也起到了保护层的作用，这两方面都提高了表面平整度，由此改善了显示画面的品质。另一方面，像素树脂层和黑矩阵图形分别形成于不同的两块玻璃基板之上，可同时进行生产，不仅提高了生产效率，而且提高了产品的良品率。

实施例二：

步骤1、在玻璃基板上形成像素树脂层，所述像素树脂层包括红色像素树脂层、绿色像素树脂层和蓝色像素树脂层。

步骤2、在另一玻璃基板上先形成一透明膜层，在所述透明膜层之上形成黑矩阵图形，黑矩阵图形所围成的像素区域的形状与像素树脂层的形状呈镜面对称形成像素树脂层玻璃所围成的图形呈镜面对称。

步骤3、将带有透明膜层的黑矩阵图形从玻璃基板上取下，使透明膜层朝上，将带有透明膜层的黑矩阵图形与完成步骤1的玻璃基板对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内。

步骤4、在完成步骤3的基板上形成柱状隔垫物。

其中步骤1和步骤2可以同时进行。

下面结合附图对本实施例进行详细描述。

如图4所示，为本实施例中的彩色滤光片的侧面剖面图。本实施例中的彩色滤光片具体结构包括玻璃基板1、在所述玻璃基板上设置的黑矩阵图形2、像素树脂层3、透明膜层6和柱状隔垫物5。其中像素树脂层和黑矩阵图形分别在不同的玻璃基板上形成，如图8所示为在玻璃基板上形成红色、绿色和蓝色像素树脂层的俯视图；如图9所示为在玻璃基板上先形成透明膜层，再在其表面形成黑矩阵图形后的俯视图。像素树脂层的厚度和黑矩阵厚度一致，可以为1-5μm之间的一个数值。

下面举例说明液晶显示器的彩色滤光片的制造方法，包括：

步骤1、在玻璃基板上形成像素树脂层，具体为：在玻璃基板上涂覆红色像素树脂，并通过刻画有图形的掩模板曝光并显影而得到红色像素树脂层。重复上述步骤得到绿色树脂层和蓝色像素树脂层。所述像素树脂层厚度为可以1-5μm之间的一个数值，如图8。

步骤2、在另一玻璃基板上形成透明膜层和黑矩阵图形，具体为：先在玻璃基板上形成一透明膜层，该透明膜层可为聚酰亚胺透明薄膜。在透明膜层上涂覆一层黑矩阵用光阻剂，并通过刻画有图形的掩膜板曝光并显影，得到黑矩阵图形。所述黑矩阵图形所围成的像素区域的形状与像素树脂层的形状呈镜面对称，且其厚度与像素树脂层一致，可以为1-5μm之间的一个数值，如图9。

步骤3、将带有透明膜层的黑矩阵图形从玻璃基板上取下，使透明膜层朝上，将带有透明膜层的黑矩阵图形与像素树脂层对合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内。

步骤4、在完成步骤3的基板上形成柱状隔垫物，如图4。

其中步骤1和步骤2可以同时进行。

另外，为了提高取向层的平整度以及为了满足TN型、VA型等液晶显示器的需要，在本发明的彩色滤光片的制造方法中的步骤3之后，还可以增加形成透明导电层的步骤，具体为，在所述像素树脂层上通过掩膜工艺形成透明导电层，使其起到公共电极的作用。在完成了这些之后再完成步骤4形成柱状隔垫物。

步骤3中可以将形成有黑矩阵图形的透明膜层先从玻璃基板上剥离，再根据完成步骤1的玻璃基板上面的标记(mark)，将带有透明膜层的黑矩阵图形与该玻璃基板进行对位粘合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；还可以直接将形成有透明膜层和黑矩阵图形的玻璃基板和形成有像素树脂层的玻璃基板，根据玻璃基板上的mark进行对位粘合，以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内，然后再将透明膜层从玻璃基板剥离下来。

上述将透明膜层从玻璃基板上剥离的实施方式如下：

采用揭片机进行剥离，例如，通过调整偏振片揭膜机的设备参数，可实现剥离微米级的薄膜并保留薄膜完整性和平整性；

放入水中将水煮至沸腾，实现聚酰亚胺薄膜从玻璃基板上的完整剥离；

通过大气压力与玻璃基板粘合的聚酰亚胺薄膜，可在粘合前在玻璃基板上均匀形成一定量的小孔，揭膜时在这些小孔处通入空气，从而实现薄膜的完整剥离。

上述三种方法可以单独使用，也可彼此结合使用。

本实施例采用先将像素树脂层和黑矩阵图形各自形成于一块玻璃基板之上，再将形成于透明膜层上的黑矩阵图形粘合于像素树脂层之上的方法，一方面较好的控制黑矩阵图形和像素树脂层的厚度，减小了段差，透明膜层也起到了保护层的作用，这两方面都提高了表面平整度，由此改善了显示画面的品质。另一方面，像素树脂层和黑矩阵图形分别形成于不同的两块玻璃基板之上，可同时进行生产，不仅提高了生产效率，而且提高了产品的良品率。

综上，本发明的有益效果包括：

本发明实施例提供的方案中，在第一透明基板上形成第一图形膜层；在第二透明基板上形成透明膜层，在透明膜层上形成第二图形膜层，第一图形膜层和第二图形膜层形成在不同的透明基板上，可以容易的控制各图形膜层的厚度；在第一图形膜层、第二图形膜层中的一个为黑矩阵图形，另一个为像素树脂层时，可以较好的控制像素树脂层的厚度，使得像素树脂层的厚度均匀，从而避免了由于像素树脂层的厚度不均匀造成的显示质量受到影响的问题。

黑矩阵图形和像素树脂层在不同的透明基板上形成，从而可以较好的控制黑矩阵图形和像素树脂层的厚度，以使得像素树脂层的厚度与黑矩阵图形的厚度相同；由于黑矩阵图形所围成的像素区域的形状与像素树脂层的形状呈镜面对称，因此在将像素树脂层与黑矩阵图形对合后可以使像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内；由于像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内、并且像素树脂层的厚度与黑矩阵图形的厚度相同，因此彩色滤光片上不存在段差区域，使得透明膜层的、与黑矩阵图形和像素树脂层相接触的一面较平整，避免了由于段差区域存在导致的透明膜层表面不平整，进而减少了后续摩擦工艺由于薄膜断差引起的摩擦不良和碎屑不良，进一步的，当在透明膜层上形成用于公共电极的透明导电层时，可有效避免透明导电层的断路不良，影响画面品质的问题。

本发明是参照根据本发明实施例的方法、设备(系统)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。

这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。

这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上，使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (13)

1.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，该方法包括：

在第一透明基板上形成第一图形膜层；在第二透明基板上形成透明膜层，在透明膜层上形成第二图形膜层；

将透明膜层与第二透明基板分离；将带有透明膜层的第二图形膜层与第一图形膜层对合。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，第一图形膜层为黑矩阵图形，第二图形膜层为像素树脂层；或者，第一图形膜层为像素树脂层，第二图形膜层为黑矩阵图形；

像素树脂层的形状与黑矩阵图形所围成的像素区域的形状呈镜面对称；将带有透明膜层的第二图形膜层与第一图形膜层对合后，像素树脂层嵌入到黑矩阵图形所围成的像素区域内。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，在第一图形膜层为黑矩阵图形，第二图形膜层为像素树脂层时，在透明膜层上形成像素树脂层包括：

在透明膜层上涂覆像素树脂；

使用刻画有图形的掩模板在像素树脂上曝光并显影，得到像素树脂层；像素树脂层的图形形状与黑矩阵图形所围成的像素区域的形状呈镜面对称。

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，在第一图形膜层为像素树脂层，第二图形膜层为黑矩阵图形时，在透明膜层上形成黑矩阵图形包括：

在透明膜层上涂覆黑矩阵用光阻剂；

使用刻画有图形的掩模板在黑矩阵用光阻剂上曝光并显影，得到黑矩阵图形，黑矩阵图形所围成的区域的形状与像素树脂层的形状呈镜面对称。

5.如权利要求1-4中任一所述的方法，其特征在于，所述将透明膜层与第二透明基板分离包括：

采用揭片机将形成有第二图形膜层的透明膜层从第二透明基板上剥离下来；或者，

将第二透明基板放入沸水中，以使透明膜层与第二透明基板分离；或者，

在第二透明基板上的小孔处通入空气，以使透明膜层与第二透明基板分离，所述小孔位于第二透明基板上未涂覆有第二图形膜层的位置。

6.如权利要求1-4中任一所述的方法，其特征在于，在将带有透明膜层的第二图形膜层与第一图形膜层对合之后，该方法进一步包括：

在透明膜层上形成用于公共电极的透明导电层。

7.如权利要求1-4中任一所述的方法，其特征在于，第一图形膜层与第二图形膜层的厚度相同。

8.如权利要求1-4中任一所述的方法，其特征在于，所述透明膜层为：

环氧树脂透明薄膜，或聚酰亚胺透明薄膜。

9.一种彩色滤光片，包括透明基板、形成在透明基板上的黑矩阵图形和像素树脂层，其特征在于，该彩色滤光片还包括形成在黑矩阵图形和像素树脂层上的透明膜层。

10.如权利要求9所述的彩色滤光片，其特征在于，像素树脂层位于黑矩阵图形所围成的像素区域内，并且黑矩阵图形的厚度与像素树脂层的厚度相同。

11.如权利要求9所述的彩色滤光片，其特征在于，在透明膜层上还形成有用于公共电极的透明导电层。

12.如权利要求9或10或11所述的彩色滤光片，其特征在于，黑矩阵图形和像素树脂层的厚度为：1-5微米。

13.如权利要求9或10或11所述的彩色滤光片，其特征在于，所述透明膜层为：

环氧树脂透明薄膜，或聚酰亚胺透明薄膜。

Images