CN104102042A - 一种彩膜基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开了一种彩膜基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够使对位标识顶部的树脂材料平坦。该彩膜基板包括衬底基板和位于所述衬底基板上的彩色滤色层,所述彩色滤色层包括至少两种颜色的区域,所述彩膜基板还包括位于所述衬底基板周边区域的至少两个对位标识,所述对位标识和所述不同颜色的区域一一对应,所述对位标识为块状结构,至少一个所述对位标识的顶部设置有凹槽。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
彩膜基板是液晶显示器的主要结构之一,彩膜基板包括衬底基板以及位于衬底基板上的彩色滤色层等结构,其中,彩色滤色层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域。为了使红色区域、绿色区域和蓝色区域准确地形成在衬底基板相应的位置上,通常在衬底基板的周边区域上设置有分别对应于红色区域、绿色区域和蓝色区域的三个相同的长方体结构的对位标识。
下面以依次形成红色区域、绿色区域和蓝色区域为例描述衬底基板上设置有对位标识时彩色滤色层的制作方法:首先,先在衬底基板上涂覆一层红色树脂,红色树脂覆盖整个衬底基板;其次,曝光机测试衬底基板周边区域的灰阶,由于对位标识所在区域的厚度较大,对位标识所在区域的灰阶明显不同于其他区域的灰阶,进而识别该对位标识,并使该对位标识与掩膜板上相应的对位标识对准;然后,进行曝光,经过显影等步骤后形成红色区域;类似地,在衬底基板上依次形成绿色区域和蓝色区域,进而形成整个彩色滤色层。为了使形成的红色区域、绿色区域和蓝色区域具有相同的厚度,在衬底基板上涂覆红色树脂、绿色树脂和蓝色树脂的量逐渐递减。
在上述制作过程中,在衬底基板上涂覆树脂材料(红色树脂、绿色树脂和蓝色树脂统称为树脂材料)时,由于树脂材料具有流动性和粘性,使得涂覆在对位标识上的树脂材料会向衬底基板的其他位置流动,进而会导致对位标识顶 部的树脂材料不平坦,使得对位标识所在区域的厚度不均匀,涂覆的树脂材料的量越少,对位标识上的树脂材料向其他位置流动越严重,对位标识顶部的树脂材料越不平坦,使得对位标识所在区域的厚度越不均匀,而对位标识的灰阶由对位标识所在区域的厚度决定,因此,对位标识所在区域的厚度不均匀,对位标识的灰阶不一致,容易导致曝光机无法识别该对位标识。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种彩膜基板及其制作方法、显示装置,能够使对位标识顶部的树脂材料平坦。
为解决上述技术问题,本发明实施例提供了一种彩膜基板,采用如下技术方案:
一种彩膜基板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的彩色滤色层,所述彩色滤色层包括至少两种颜色的区域,所述彩膜基板还包括位于所述衬底基板周边区域的至少两个对位标识,所述对位标识和所述不同颜色的区域一一对应,所述对位标识为块状结构,至少一个所述对位标识的顶部设置有凹槽。
所述凹槽的形状为倒置的梯形。
所述彩膜基板还包括黑矩阵,所述对位标识的材质与所述黑矩阵的材质相同。
所述彩色滤色层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域,所述彩膜基板包括位于所述衬底基板周边区域的三个所述对位标识。
两个所述对位标识的顶部设置有所述凹槽。
本发明实施例提供了一种彩膜基板,该彩膜基板包括衬底基板和位于衬底基板上的彩色滤色层,彩色滤色层包括至少两种颜色的区域,彩膜基板还包括位于衬底基板周边区域的至少两个对位标识,所述对位标识和所述不同颜色的 区域一一对应,对位标识为块状结构,至少一个对位标识的顶部设置有凹槽,用以形成彩色滤色层的不同颜色的区域的树脂材料涂覆到设置对应的有凹槽的对位标识上之后,凹槽对树脂材料的流动具有阻碍作用,从而使得对位标识顶部的树脂材料平坦,使得对位标识所在区域的厚度均匀,对位标识的灰阶一致,进而使得曝光机能够准确识别该对位标识。
此外,本发明实施例还提供了一种显示装置,该显示装置包括以上任一种实施方式中的彩膜基板。
为了进一步解决上述技术问题,本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法,采用如下技术方案:
一种彩膜基板的制作方法包括:
在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,所述对位标识为块状结构,至少一个所述对位标识的顶部设置有凹槽;
在所述衬底基板上形成彩色滤色层,所述彩色滤色层包括至少两种颜色的区域,所述对位标识和所述不同颜色的区域一一对应。
所述凹槽的形状为倒置的梯形。
所述在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,所述对位标识为块状结构,至少一个所述对位标识的顶部设置有凹槽,包括:
在所述衬底基板上形成一层光刻胶层,通过多灰阶掩膜板对所述光刻胶层进行曝光,经过显影后,形成至少两个所述对位标识,所述多灰阶掩膜板包括完全透光区、半透光区和可变透光区,所述完全透光区用以形成所述对位标识上除所述凹槽以外的区域,所述半透光区用以形成所述凹槽的底部,所述可变透光区用以形成所述凹槽的侧壁,所述可变透光区的透过率以所述半透光区的透过率为最低点,以所述完全透光区的透过率为最高点,且所述可变透光区的 透过率沿远离所述凹槽的底部的方向递增。
所述在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,包括:
在所述衬底基板的周边区域形成至少两个所述对位标识的同时,在所述衬底基板上形成黑矩阵。
所述在所述衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,包括:
在所述衬底基板上形成三个所述对位标识;
所述在所述衬底基板上形成彩色滤色层,包括:
在所述衬底基板上形成红色区域;
在所述衬底基板上形成绿色区域;
在所述衬底基板上形成蓝色区域。
两个所述对位标识的顶部设置有所述凹槽。
本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法,该彩膜基板的制作方法包括在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,对位标识为块状结构,至少一个对位标识的顶部设置有凹槽,在衬底基板上形成包括至少两种颜色的区域的彩色滤色层时,用以形成彩色滤色层的不同颜色的区域的树脂材料涂覆到对应的设置有凹槽的对位标识上之后,凹槽对树脂材料的流动具有阻碍作用,从而使得对位标识顶部的树脂材料平坦,使得对位标识所在区域的厚度均匀,对位标识的灰阶一致,进而使得曝光机能够准确识别该对位标识。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例中的彩膜基板的平面示意图;
图2为本发明实施例中图1沿A-A’方向的截面示意图;
图3为本发明实施例中的涂覆树脂材料的彩膜基板的截面示意图;
图4为本发明实施例中的彩膜基板的制作流程图;
图5为本发明实施例中形成对位标识的曝光过程示意图。
附图标记说明:
1—衬底基板; 2—彩色滤色层; 21—红色区域;
22—绿色区域; 23—蓝色区域; 3—对位标识;
4—黑矩阵; 5—多灰阶掩膜板; 51—完全透光区;
52—半透光区; 53—可变透光区。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例一
本发明实施例提供了一种彩膜基板,能够使对位标识顶部的树脂材料平坦。
具体地,如图1所示,该彩膜基板包括衬底基板1和位于衬底基板1上的彩色滤色层2,彩色滤色层2包括至少两种不同颜色的区域,彩膜基板还包括位于衬底基板1周边区域的至少两个对位标识3,对位标识3和不同颜色的区域一一对应,具体地,如图2所示,对位标识3为块状结构,至少一个对位标识3的顶部设置有凹槽。示例性地,凹槽的形状为倒置的梯形,对位标识3的长和宽均为100μm。
如图3所示,用以形成彩色滤色层2的不同颜色的区域的树脂材料涂覆到设置对应的有凹槽的对位标识3上之后,凹槽对树脂材料的流动具有阻碍作用,从而使得对位标识3顶部的树脂材料平坦,使得对位标识3所在区域的厚度均匀,对位标识3的灰阶一致,进而使得曝光机能够准确识别该对位标识。
需要说明的是,上述“至少一个对位标识3的顶部设置有凹槽”具体包括两种情况:第一种情况,所有的对位标识3的顶部设置有凹槽。第二种情况,除彩色滤色层2上最先制作的区域对应的对位标识3之外的所有对位标识3的顶部设置有凹槽。其中,最先制作的区域对应的对位标识3的顶部可以不设置凹槽的原因在于,彩色滤色层2包括至少两个不同颜色的区域,示例性地,以彩色滤色层2包括红色区域、绿色区域和蓝色区域为例,在彩色滤色层2的制作过程中,首先制作红色区域,由于衬底基板1上已经形成的结构较少,因此涂覆的红色树脂的量较多,对位标识3顶部的红色树脂的流动对对位标识3顶部的红色树脂的平坦程度影响较小,进而对对位标识3所在区域的厚度的均匀性几乎无影响。
进一步地,如图1所示,彩膜基板还包括黑矩阵4,黑矩阵4的厚度1.1~1.2μm,为了节约彩膜基板的成本,本发明实施例中优选对位标识3的材质与黑矩阵4的材质相同。
进一步地,如图1所示,本发明实施例中的彩色滤色层2包括红色区域21、绿色区域22和蓝色区域23,彩膜基板包括位于衬底基板1周边区域的三个对位标识3,三个对位标识3分别对应于红色区域21、绿色区域22和蓝色区域23。其中,两个对位标识3上设置有凹槽。
此外,彩膜基板还包括位于彩色滤色层2和黑矩阵4上的透明保护层,以及位于透明保护层上的柱状隔垫物等结构,其中透明保护层用以平坦彩膜基板 的表面,同时使彩色滤色层2和黑矩阵4与液晶分子隔离;柱状隔垫物用以维持彩膜基板和阵列基板对盒后形成的液晶盒的盒厚。
本发明实施例中彩色滤色层2的厚度为1.5μm,需要说明的是,彩色滤色层2的厚度越小,形成彩色滤色层2需要的树脂材料越少,本发明实施例中的彩膜基板的优势越明显。
本发明实施例提供了一种彩膜基板,该彩膜基板包括衬底基板和位于衬底基板上的彩色滤色层,彩色滤色层包括至少两种颜色的区域,彩膜基板还包括位于衬底基板周边区域的至少两个对位标识,对位标识和不同颜色的区域一一对应,对位标识为块状结构,至少一个对位标识的顶部设置有凹槽,用以形成彩色滤色层的不同颜色的区域的树脂材料涂覆到设置对应的有凹槽的对位标识上之后,凹槽对树脂材料的流动具有阻碍作用,从而使得对位标识顶部的树脂材料平坦,使得对位标识所在区域的厚度均匀,对位标识的灰阶一致,进而使得曝光机能够准确识别该对位标识。
此外,本发明实施例还提供了一种显示装置,该显示装置包括以上任一种实施方式中的彩膜基板。该显示装置可为:液晶面板、电子纸、液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或部件。
实施例二
本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法,如图4所示,该彩膜基板的制作方法包括:
步骤S401、在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,对位标识为块状结构,至少一个对位标识的顶部设置有凹槽。
示例性地,本发明实施例中形成的对位标识3顶部的凹槽的形状为倒置的梯形。
进一步地,本发明实施例还提供了一种用以形成顶部的凹槽的形状为倒置的梯形的对位标识3的具体方法,该方法包括:如图5所示,在衬底基板1上形成一层光刻胶层,通过多灰阶掩膜板5对光刻胶层进行曝光,经过显影后,形成至少两个对位标识3。其中,多灰阶掩膜板5包括完全透光区51、半透光区52和可变透光区53,完全透光区51用以形成对位标识3上除凹槽以外的区域,半透光区52用以形成凹槽的底部,可变透光区53用以形成凹槽的侧壁,其中,可变透光区53的透过率以半透光区52的透过率为最低点,以完全透光区51的透过率为最高点,且可变透光区53的透过率沿远离凹槽的底部的方向递增。
此外,为了节约彩膜基板的成本,简化彩膜基板的制作过程,本发明实施例中优选在衬底基板1的周边区域形成至少两个对位标识3的同时,在衬底基板1上形成黑矩阵4。
具体地,在衬底基板1上同时形成对位标识3和黑矩阵4的具体过程如下:首先,在衬底基板1上涂覆一层黑色树脂,其次,将衬底基板1放置于曝光机的基台上,并使衬底基板1与基台进行对位,再次,使掩膜板与基台对位,然后,调节衬底基板1与掩膜板之间的间隙,最后,衬底基板1与掩膜板对位,经过曝光、显影等步骤后形成包括对位标识3和黑矩阵4的图形。在将衬底基板1放置于曝光机的基台上之前还可以先用热盘加热衬底基板1使黑色树脂初步固化,然后利用冷盘精确控制衬底基板1上的黑色树脂的温度。
步骤S402、在衬底基板上形成彩色滤色层,彩色滤色层包括至少两种颜色的区域,对位标识和不同颜色的区域一一对应。
示例性地,在衬底基板1上形成彩色滤色层2包括:在衬底基板上形成红色区域21,在衬底基板上形成绿色区域22和在衬底基板上形成蓝色区域23, 三者的顺序本发明实施例不进行限定,本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
示例性地,以依次形成红色区域21、绿色区域22和蓝色区域23为例详细描述彩色滤色层2的制作过程。首先,在衬底基板2上涂覆一层红色树脂,将衬底基板1放置于曝光机的基台上,使衬底基板1与基台进行对位,控制衬底基板与掩膜板之间的间隙;然后,曝光机找到对应于红色区域的对位标识,并使该对位标识与掩膜板上相应的对位标识对准;最后,经过曝光、显影等步骤后形成红色区域21。类似地,在衬底基板1上依次形成绿色区域22和蓝色区域23,进而形成整个彩色滤色层。
需要说明的是,由于在衬底基板1上形成的彩色滤色层2包括红色区域21、绿色区域22和蓝色区域23,因此,在步骤S401中形成包括三个对位标识3,三个对位标识3分别与红色区域21、绿色区域22和蓝色区域23相对应。由步骤S401中形成形状为倒置的梯形的凹槽的方法可知,在制作顶部设置有凹槽的对位标识3的过程中需要使用多灰阶掩膜板5,而多灰阶掩膜板5上可变透光区53的制作成本高,因此,在能够保证对位标识3的顶部的树脂材料平坦的条件下,本发明实施例优选两个对位标识3上设置有凹槽。
本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法,该彩膜基板的制作方法包括在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,对位标识为块状结构,至少一个对位标识顶部设置有凹槽,在衬底基板上形成包括至少两种颜色的区域的彩色滤色层时,用以形成彩色滤色层的不同颜色的区域的树脂材料涂覆到对应的设置有凹槽的对位标识上之后,凹槽对树脂材料的流动具有阻碍作用,从而使得对位标识顶部的树脂材料平坦,使得对位标识所在区域的厚度均匀,对位标识的灰阶一致,进而使得曝光机能够准确识别该对位标识。
以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (12)
1.一种彩膜基板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的彩色滤色层,所述彩色滤色层包括至少两种颜色的区域,其特征在于,所述彩膜基板还包括位于所述衬底基板周边区域的至少两个对位标识,所述对位标识和所述不同颜色的区域一一对应,所述对位标识为块状结构,至少一个所述对位标识的顶部设置有凹槽。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述凹槽的形状为倒置的梯形。
3.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,还包括黑矩阵,所述对位标识的材质与所述黑矩阵的材质相同。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩色滤色层包括红色区域、绿色区域和蓝色区域,所述彩膜基板包括位于所述衬底基板周边区域的三个所述对位标识。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,两个所述对位标识的顶部设置有所述凹槽。
6.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的彩膜基板。
7.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,所述对位标识为块状结构,至少一个所述对位标识的顶部设置有凹槽;
在所述衬底基板上形成彩色滤色层,所述彩色滤色层包括至少两种颜色的区域,所述对位标识和所述不同颜色的区域一一对应。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述凹槽的形状为倒置的梯形。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,所述对位标识为块状结构,至少一个所述对位标识的顶部设置有凹槽,包括:
在所述衬底基板上形成一层光刻胶层,通过多灰阶掩膜板对所述光刻胶层进行曝光,经过显影后,形成至少两个所述对位标识,所述多灰阶掩膜板包括完全透光区、半透光区和可变透光区,所述完全透光区用以形成所述对位标识上除所述凹槽以外的区域,所述半透光区用以形成所述凹槽的底部,所述可变透光区用以形成所述凹槽的侧壁,所述可变透光区的透过率以所述半透光区的透过率为最低点,以所述完全透光区的透过率为最高点,且所述可变透光区的透过率沿远离所述凹槽的底部的方向递增。
10.根据权利要求7所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,包括:
在所述衬底基板的周边区域形成至少两个所述对位标识的同时,在所述衬底基板上形成黑矩阵。
11.根据权利要求7所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,
所述在衬底基板的周边区域形成至少两个对位标识,包括:
在所述衬底基板上形成三个所述对位标识;
所述在所述衬底基板上形成彩色滤色层,包括:
在所述衬底基板上形成红色区域;
在所述衬底基板上形成绿色区域;
在所述衬底基板上形成蓝色区域。
12.根据权利要求11所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,两个所述对位标识的顶部设置有所述凹槽。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104570450A (zh) * | 2015-02-05 | 2015-04-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示面板和显示装置 |
CN104865738A (zh) * | 2015-06-16 | 2015-08-26 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 具有黑色矩阵的玻璃基板及其制备方法、液晶面板 |
CN106842837A (zh) * | 2017-02-10 | 2017-06-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模 |
CN110412673A (zh) * | 2019-07-26 | 2019-11-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种母板、母板的制作方法及彩膜基板 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106647011A (zh) * | 2017-03-14 | 2017-05-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板的制作方法、显示基板、显示面板和显示装置 |
CN107065281B (zh) * | 2017-04-12 | 2020-07-03 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种彩色色阻的制作方法 |
CN110596970B (zh) * | 2019-08-27 | 2020-12-04 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种显示面板及其制作方法、显示装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1885116A (zh) * | 2005-06-22 | 2006-12-27 | Nec液晶技术株式会社 | 液晶显示面板及其制造方法 |
CN101344662A (zh) * | 2007-07-13 | 2009-01-14 | 中华映管股份有限公司 | 显示基板的制作方法 |
US20100320468A1 (en) * | 2009-06-19 | 2010-12-23 | Ips Alpha Technology, Ltd. | Thin film transistor substrate and method of manufacturing the same |
CN102681251A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 |
CN102681240A (zh) * | 2011-03-11 | 2012-09-19 | 元太科技工业股份有限公司 | 彩色显示装置及其彩色滤光片 |
-
2014
- 2014-06-30 CN CN201410306806.3A patent/CN104102042B/zh active Active
- 2014-10-30 US US14/528,571 patent/US9547110B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1885116A (zh) * | 2005-06-22 | 2006-12-27 | Nec液晶技术株式会社 | 液晶显示面板及其制造方法 |
CN101344662A (zh) * | 2007-07-13 | 2009-01-14 | 中华映管股份有限公司 | 显示基板的制作方法 |
US20100320468A1 (en) * | 2009-06-19 | 2010-12-23 | Ips Alpha Technology, Ltd. | Thin film transistor substrate and method of manufacturing the same |
CN102681240A (zh) * | 2011-03-11 | 2012-09-19 | 元太科技工业股份有限公司 | 彩色显示装置及其彩色滤光片 |
CN102681251A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104570450A (zh) * | 2015-02-05 | 2015-04-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示基板、显示面板和显示装置 |
CN104865738A (zh) * | 2015-06-16 | 2015-08-26 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 具有黑色矩阵的玻璃基板及其制备方法、液晶面板 |
CN106842837A (zh) * | 2017-02-10 | 2017-06-13 | 京东方科技集团股份有限公司 | 对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模 |
CN110412673A (zh) * | 2019-07-26 | 2019-11-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种母板、母板的制作方法及彩膜基板 |
CN110412673B (zh) * | 2019-07-26 | 2021-09-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种母板、母板的制作方法及彩膜基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9547110B2 (en) | 2017-01-17 |
US20150378071A1 (en) | 2015-12-31 |
CN104102042B (zh) | 2017-08-25 |
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