CN102634277A - 用于形成低折射率膜的涂料、低折射率膜的制造方法以及低折射率膜 - Google Patents

Abstract

本发明提供用于形成低折射率膜的涂料、低折射率膜的制造方法以及低折射率膜。本发明的涂料能够形成兼具充分的低折射率功能和机械强度的低折射率膜。本发明的用于形成低折射率膜的涂料，其特征在于，包含二氧化硅粒子、结合在所述二氧化硅粒子表面上的金属醇盐和粘结剂成分。

Description

用于形成低折射率膜的涂料、低折射率膜的制造方法以及低折射率膜

技术领域

本发明涉及用于形成低折射率膜的涂料、低折射率膜的制造方法以及低折射率膜。 

背景技术

一直以来，在等离子体显示器(PDP)、液晶显示器(LCD)、电致发光显示器(ELD)等各种平板显示器(FPD)的显示面等上，形成以防止反射为目的的低折射率膜。 

作为低折射率膜的制造方法，已知大致分为以下两种方法。 

第1种方法是使用在中空SiO₂等的内部具有空隙的粒子的方法(参照专利文献1、2)。第2种方法是在膜中形成空隙(细孔)的方法(参照专利文献3～6)。 

专利文献1：国际公开WO2007/060884号 

专利文献2：日本特开2005-263550号公报 

专利文献3：日本特开平11-6902号公报 

专利文献4：日本特开平11-38201号公报 

专利文献5：日本特开2007-169563号公报 

专利文献6：日本专利第4527272号公报 

在使用中空SiO₂的第1种方法中，为了生成中空SiO₂，需要多个烦杂的工序，另外，在模板法中也需要进一步除去芯部分的作业。因此，除了中空SiO₂的制造装置为大规模且高价的装置之外，还产生大 量废液处理的问题，因而难以说是工业上最佳的方法，现状为中空SiO₂的制作成本与一般的实心粒子相比非常高。 

另一方面，作为在膜中形成空隙(细孔)的第2种方法，在专利文献3、4中报道了利用微孔的低折射率膜的制作方法。这些方法是比较容易进行涂料制作的方法，但为了降低膜的折射率，减少了粘结剂成分的比率，从而难以得到充分的膜强度。 

另外，在专利文献5中，记载了通过溶胶凝胶法制作具有细孔的低折射率膜。根据该方法，虽然膜强度得到改善，但低折射率化不充分。 

另外，在专利文献6中，记载了使用70nm～110nm的非凝聚的SiO₂粒子和由金属醇盐组成的粘结剂成分来制作具有空隙的低折射率膜的方法。但是，由于使用粒径相对于膜厚非常大的SiO₂粒子，因此，容易产生膜厚的不均匀和膜表面的凹凸，难以确保机械强度。 

发明内容

本发明是鉴于上述现有技术的问题而完成的，其目的在于提供能够形成兼具充分的低折射率性和机械强度的低折射率膜的涂料以及低折射率膜的制造方法。 

本发明人们为了解决上述课题，进行了深入的研究，结果发现，利用包含表面结合有金属醇盐的二氧化硅粒子和粘结剂成分的涂料，能够制作良好地显示出由膜中所形成的空隙带来的低折射率功能、且机械强度也优良的低折射率膜，从而完成了本发明。 

即，本发明的用于形成低折射率膜的涂料，其特征在于，包含二氧化硅粒子、结合在所述二氧化硅粒子的表面上的金属醇盐和粘结剂成分。 

上述涂料优选如下构成：所述二氧化硅粒子的平均一次粒径为5nm以上且50nm以下。 

上述涂料优选如下构成：所述二氧化硅粒子的质量与所述金属醇盐以及所述粘结剂成分的总质量的比率在1以上且4以下的范围。 

上述涂料优选如下构成：所述粘结剂成分含有金属醇盐。 

上述涂料优选如下构成：所述粘结剂成分含有硅醇盐以及有机改性硅醇盐中的至少一种。 

上述涂料优选如下构成：结合在所述二氧化硅粒子的表面上的金属醇盐为硅醇盐。

本发明的低折射率膜的制造方法，其特征在于，具有：在基材上涂布上述用于形成低折射率膜的涂料的工序。 

本发明的低折射率膜，其特征在于，通过在基材上涂布上述用于形成低折射率膜的涂料而成。 

发明效果 

根据本发明的用于形成低折射率膜的涂料，在涂布涂料而形成低折射率膜时，由于结合在二氧化硅粒子的表面上的金属醇盐与粘结剂成分相结合，因而能够使二氧化硅粒子与粘结剂成分牢固地粘着。由此，能够减少粘结剂成分含量的同时，也能够在膜中良好地形成空隙。结果，得到能够制造兼具充分的低折射率性和机械强度的低折射率膜的涂料。 

根据本发明的低折射率膜的制造方法，通过使用上述涂料，能够 容易地制造兼具充分的低折射率性和机械强度的低折射率膜。 

本发明的低折射率膜，是通过涂布上述涂料而成的膜，因此，兼具充分的低折射率性和机械强度。 

附图说明

图1是实施例中制作的低折射率膜的截面SEM图像。 

标记说明 

10封装玻璃(基材) 

11低折射率膜 

具体实施方式

以下，对于本发明的实施方式，详细地进行说明。 

需要说明的是，以下的实施方式是为了更好地理解发明的宗旨而进行具体说明的方式，本发明并不限定于如下说明。 

本实施方式的用于形成低折射率膜的涂料，包含二氧化硅粒子、结合在所述二氧化硅粒子的表面上的金属醇盐、粘结剂成分、和分散介质。 

作为二氧化硅粒子，只要是以氧化硅为主成分的粒子，则没有特别的限定，可以是含水物、无水物中的任意一种，可以使用通过各种制造方法得到的二氧化硅粒子。例如，可以使用通过溶胶凝胶法制作的二氧化硅粒子、通过气相合成制作的二氧化硅粒子。另外，也可以包含其他元素。 

二氧化硅粒子优选使用平均一次粒径为5nm以上且50nm以下的粒子。在使用平均一次粒径超过50nm的二氧化硅粒子的情况下，形成 低折射率膜时膜表面的凹凸大，而且二氧化硅粒子之间的连接点减少，因此，难以得到充分的膜强度。另一方面，在使用平均一次粒径低于5nm的二氧化硅粒子的情况下，比表面积大，因此，在涂料中的稳定性容易降低，而且涂膜中难以形成空隙，因而难以显示出充分的低折射率功能。 

另外，作为二氧化硅粒子，更优选使用平均一次粒径为7nm以上且30nm以下的粒子。通过设定在这样的范围内，能够得到更容易地形成兼具充分的低折射率功能和膜强度的低折射率膜的涂料。 

本实施方式的用于形成低折射率膜的涂料中含有的二氧化硅粒子，具备其表面上结合有金属醇盐的结构。作为结合在二氧化硅粒子的表面上的金属醇盐，可以列举硅醇盐、钛醇盐、铝醇盐、钽醇盐、或锆醇盐，在形成低折射率膜时，优选使用得到SiO₂的硅醇盐。 

更具体而言，可以列举：甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丁基三乙氧基硅烷、正己基三甲氧基硅烷、正己基三乙氧基硅烷、正辛基三乙氧基硅烷、正癸基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷等硅烷偶联剂；乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等乙烯基硅烷偶联剂；3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷等氨基硅烷偶联剂；3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等丙烯酰氧基硅烷偶联剂；3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等甲基丙烯酰氧基硅烷偶联剂；3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三乙氧基硅烷等巯基硅烷偶联剂；2-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷等环氧硅烷偶联剂；或者二甲基硅油、甲基含氢硅油、环氧基改性硅油、羧基改性硅油、聚醚改性硅油、氨基改性硅油等硅油。 

作为使上述金属醇盐结合到二氧化硅粒子的表面上的处理，没有 特别的限定，可以列举如下方法：在金属醇盐的溶液中添加二氧化硅粒子制作分散液后，在该分散液中添加水和催化剂，由此使金属醇盐水解，从而使生成的水解物在二氧化硅粒子表面发生缩合反应。 

作为粘结剂成分，可以使用金属醇盐或改性金属醇盐。作为粘结剂成分的金属醇盐，在使用用于形成低折射率膜的涂料来形成低折射率膜时，优选能够确保二氧化硅粒子之间以及二氧化硅粒子与基材之间的附着强度、并且具备耐热性、不损害透明性的金属醇盐。 

作为用于粘结剂成分的金属醇盐，可以列举硅醇盐、钛醇盐、铝醇盐、钽醇盐或锆醇盐，在形成低折射率膜时，优选使用得到SiO₂的硅醇盐。 

更具体而言，可以列举：甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丁基三乙氧基硅烷、正己基三甲氧基硅烷、正己基三乙氧基硅烷、正辛基三乙氧基硅烷、正癸基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷等硅烷偶联剂；乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等乙烯基硅烷偶联剂；3-氨丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨乙基)-3-氨丙基甲基二甲氧基硅烷等氨基硅烷偶联剂；3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等丙烯酰氧基硅烷偶联剂；3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷等甲基丙烯酰氧基硅烷偶联剂；3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三乙氧基硅烷等巯基硅烷偶联剂；2-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷等环氧硅烷偶联剂；或者二甲基硅油、甲基含氢硅油、环氧基改性硅油、羧基改性硅油、聚醚改性硅油、氨基改性硅油等硅油。 

上述粘结剂成分，可以以醇盐单体(或者低聚物)的状态添加到用分散介质使二氧化硅粒子分散后的分散液中，也可以以添加水和催化剂使其水解的状态添加到上述分散液中。 

作为分散介质，只要在低折射率膜的制造工序中在挥发性和毒性方面没有问题即可，优选从粘结剂成分的溶解性和二氧化硅粒子的分散性方面出发进行适当选择。 

作为上述分散介质，优选使用例如：水、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、二丙酮醇、糠醇、乙二醇、己二醇等醇类；乙酸甲酯、乙酸乙酯等酯类；乙醚、乙二醇单甲醚(甲基溶纤剂)、乙二醇单乙醚(乙基溶纤剂)、乙二醇单丁醚(丁基溶纤剂)、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、1，4-二氧六环、四氢呋喃等醚类；丙酮、甲乙酮(MEK)、乙酰丙酮、乙酰乙酸乙酯等酮类等，这些溶剂可以仅使用其中的1种，或者混合使用2种以上。 

在本实施方式的用于形成低折射率膜的涂料中，二氧化硅粒子的质量(M_H)、与结合在二氧化硅粒子的表面上的金属醇盐的质量(M_A)以及粘结剂成分的质量(M_B)之和(M_A+M_B)的比率R＝M_H/(M_A+M_B)，优选为1以上且4以下，更优选为2以上且3以下。 

比率R低于1时，由于粘结剂成分过多，因此难以在膜上形成空隙，涂膜难以显示出低折射率功能。另一方面，比率R为4以上时，粘结剂成分过少，因此，二氧化硅粒子之间、以及二氧化硅粒子与基材间的粘着力变小，难以得到充分的膜强度。 

作为使用本实施方式的用于形成低折射率膜的涂料的低折射率膜的制造方法，可以使用如下方法：在玻璃基板等基材的表面上涂布上述用于形成低折射率膜的涂料，之后，通过加热处理等使粘结剂成分聚合。 

作为涂料的涂布方法，可以列举：旋涂法、喷涂法、淋涂法等各种方法，没有特别的限定。另外，在需要粘结剂成分的水解处理的情 况下，在涂布前适当实施即可。另外，加热处理的方法，只要使粘结剂成分的聚合反应进行、从而能提高二氧化硅粒子之间、以及二氧化硅粒子与基材间的附着性即可。因此，加热装置的结构和处理条件根据粘结剂成分适当选择即可。 

在通过上述制造方法得到的低折射率膜中，由于使用包含表面上结合有金属醇盐的二氧化硅粒子和粘结剂成分的涂料，因此，在使粘结剂成分聚合时，除了发生构成粘结剂成分的金属醇盐之间的聚合反应之外，还发生粘结剂成分与二氧化硅粒子表面的金属醇盐之间的结合反应。 

由此，能够提高粘结剂成分与二氧化硅粒子间的粘着力，因此，能够得到膜强度优良的低折射率膜。另外，由于这样能得到良好的粘着性，因而无需过度添加粘结剂成分，因此，在低折射率膜中容易形成空隙，从而变得容易显示出低折射率功能。结果，使用本实施方式的用于形成低折射率膜的涂料而形成的低折射率膜，兼具充分的低折射率功能和膜强度。 

另外，本实施方式的用于形成低折射率膜的涂料，也具有如下优点：金属醇盐结合在二氧化硅粒子的表面上，因此，在添加粘结剂成分的金属醇盐单体或金属醇盐低聚物、或者以这些金属醇盐为原料使其水解而得到的生成物等时，能够得到与这些粘结剂成分相容性高、且二氧化硅粒子分散均匀的涂料。 

实施例 

以下，根据实施例及比较例对本发明进行具体的说明，但本发明并不限定于这些实施例。 

首先，制作表1所示的涂料1～涂料19。以下，对详细的制作顺序进行说明。 

需要说明的是，表1中的“二氧化硅粒子/金属醇盐”一栏表示涂料中包含的二氧化硅粒子的质量、与涂料中包含的全部金属醇盐的质量(二氧化硅粒子的表面上结合的金属醇盐和作为粘结剂成分含有的金属醇盐的总质量)的比率。 

[涂料1] 

用甲基三乙氧基硅烷对平均一次粒径为20nm的二氧化硅粒子进行表面处理的同时，使其分散在水中，制备表面上结合了甲基三乙氧基硅烷的二氧化硅粒子的水分散液A。 

接着，在水分散液A中添加作为粘结剂成分的四甲氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，制作用于形成低折射率膜的涂料1。 

使涂料中的二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量(甲基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的总质量)的比率为2.33(70∶30)。 

[涂料2] 

除了使二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量的比率为4(80∶20)以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料2。 

[涂料3] 

除了使二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量的比率为1.22(55∶45)以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料3。 

[涂料4] 

用甲基三乙氧基硅烷对平均一次粒径为20nm的二氧化硅粒子进 行表面处理的同时，使其分散在水中，制备表面上结合了甲基三乙氧基硅烷的二氧化硅粒子的水分散液A。 

接着，在水分散液A中添加作为粘结剂成分的四甲氧基硅烷以及3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，制作用于形成低折射率膜的涂料4。 

使涂料中的二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量(甲基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷以及3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的总质量)的比率为2.33(70∶30)。 

[涂料5] 

用甲基三乙氧基硅烷对平均一次粒径为20nm的二氧化硅粒子进行表面处理的同时，使其分散在水中，制备表面上结合了甲基三乙氧基硅烷的二氧化硅粒子的水分散液A。 

接着，在水分散液A中添加作为粘结剂成分的四乙氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，制作用于形成低折射率膜的涂料5。 

使涂料中的二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量(甲基三乙氧基硅烷、四乙氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的总质量)的比率为2.33(70∶30)。 

[涂料6] 

用3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷对平均一次粒径为20nm的二氧化硅粒子进行表面处理的同时，使其分散在水中，制备表面上结合了3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷的二氧化硅粒子的水分散液B。 

接着，在水分散液B中添加作为粘结剂成分的四甲氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，制作用于形成低折射率膜的涂料6。 

使涂料中的二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量(3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的总质量)的比率为2.33(70∶30)。 

[涂料7] 

用己基三甲氧基硅烷对平均一次粒径为20nm的二氧化硅粒子进行表面处理的同时，使其分散在乙醇中，制备表面上结合了己基三甲氧基硅烷的二氧化硅粒子的乙醇分散液C。 

接着，在乙醇分散液C中添加作为粘结剂成分的四甲氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，制作用于形成低折射率膜的涂料7。 

使涂料中的二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量(己基三甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的总质量)的比率为2.33(70∶30)。 

[涂料8] 

用癸基三甲氧基硅烷对平均一次粒径为20nm的二氧化硅粒子进行表面处理的同时，使其分散在乙醇中，制备表面上结合了癸基三甲氧基硅烷的二氧化硅粒子的乙醇分散液D。 

接着，在乙醇分散液D中添加作为粘结剂成分的四甲氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷，制作用于形成低折射率膜的涂料8。 

使涂料中的二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量(癸基三甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷以及3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷的总质量)的比率为2.33(70∶30)。 

[涂料9] 

用甲基三乙氧基硅烷对平均一次粒径为20nm的二氧化硅粒子进行表面处理的同时，使其分散在水中，制备表面上结合了甲基三乙氧基硅烷的二氧化硅粒子的水分散液A。 

接着，在水分散液A中添加作为粘结剂成分的四甲氧基硅烷，制作用于形成低折射率膜的涂料9。 

使涂料中的二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量(甲基三乙氧基硅烷以及四甲氧基硅烷的总质量)的比率为2.33(70∶30)。 

[涂料10] 

除了使二氧化硅粒子的平均一次粒径为7nm以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料10。 

[涂料11] 

除了使二氧化硅粒子的平均一次粒径为12nm以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料11。 

[涂料12] 

除了使二氧化硅粒子的平均一次粒径为30nm以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料12。 

[涂料13] 

除了使二氧化硅粒子的平均一次粒径为50nm以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料13。 

[涂料14] 

除了使二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量的比率为0.67 (40∶60)以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料14。 

[涂料15] 

除了使二氧化硅粒子的质量与金属醇盐的质量的比率为5.67(85∶15)以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料15。 

[涂料16] 

除了使二氧化硅粒子的平均一次粒径为3nm以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料16。 

[涂料17] 

除了使二氧化硅粒子的平均一次粒径为100nm以外，通过与涂料1同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料17。 

[涂料18] 

在平均一次粒径为20nm的二氧化硅粒子的水分散液中添加作为粘结剂成分的四甲氧基硅烷，制作用于形成低折射率膜的涂料18。 

使涂料中的二氧化硅粒子的质量与金属醇盐(四甲氧基硅烷)的质量的比率为2.33(70∶30)。 

[涂料19] 

除了使涂料中的二氧化硅粒子的质量与金属醇盐(四甲氧基硅烷)的质量的比率为0.67(40∶60)以外，通过与涂料18同样的制作工序，制作用于形成低折射率膜的涂料19。 

将上述涂料1～涂料19用辊涂法涂布到太阳能电池用封装玻璃上，之后，在200℃下煅烧30分钟，由此，制作出表面上形成了涂膜的封 装玻璃。图1是使用涂料1在封装玻璃上形成的低折射率膜的截面SEM(扫描电子显微镜)像。图1中示出了在封装玻璃10上通过粘结剂而结合有多个二氧化硅粒子的低折射率膜11。 

对于上述的各封装玻璃，测定空隙率、增透率和涂膜的强度。将测定结果示于表2。 

关于空隙率，使二氧化硅粒子与粘结剂(涂膜形成后)的折射率均为1.46，使用Drude式由该值与制作的涂膜的折射率之差来计算。 

(n_涂膜)²-1＝(n_i ²-1)×V_i/100 

n_i＝(“SiO₂粒子+粘结剂”的折射率)＝1.46 

V_i＝(“SiO₂粒子+粘结剂”的体积填充率) 

空隙率(％)＝100-V_i

增透率分类如下：对低折射率膜形成前后的透射率进行比较，将增加率为2.5％以上的情况评价为“◎”，将增加率为2％以上且低于2.5％的情况评价为“○”，将增加率为1.5％以上且低于2％的情况评价为“△”，将增加率为低于1.5％的情况评价为“×”。 

膜强度的评价通过使用橡皮摩擦的附着力试验来进行。 

附着力试验的结果分类为：用橡皮擦拭所形成的低折射率膜的表面(250g/cm²×10次)，将没有擦伤的情况记为“A”，将略微擦伤的情况记为“B”，将多处擦伤的情况记为“C”，将出现剥离的情况记为“D”。另外，在本例中也进行铅笔硬度测试(1kg载荷)，将其结果一同示于表2。 

表1 

※a1：甲基三乙氧基硅烷、a2：3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷 

a3：己基三甲氧基硅烷、a4：癸基三甲氧基硅烷 

b1：四甲氧基硅烷、b2：3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷 

b3：3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、b4：四乙氧基硅烷 

表2 

如表2所示，使用包含表面上结合有金属醇盐的二氧化硅粒子和粘结剂成分的涂料1～17而制作的涂膜，得到了充分的膜强度。与此相对，二氧化硅粒子的表面上没有结合金属醇盐的涂料18，涂膜剥离，不能得到充分的膜强度。另外，在使二氧化硅粒子与粘结剂成分的比率小于1的、含有大量粘结剂成分的涂料19中，由于没有使用表面上结合有金属醇盐的二氧化硅粒子，因此，不能得到充分的膜强度。 

另外，二氧化硅粒子的平均一次粒径为3nm的涂料16，涂膜中几乎不形成空隙，与使用涂料1的涂膜相比，在低折射率性方面得到差的结果。另一方面，二氧化硅粒子的平均一次粒径为100nm的涂料17，与使用二氧化硅粒子的平均一次粒径为5nm～50nm范围的其他涂料的 情况相比，膜强度降低。 

另外，使二氧化硅粒子与金属醇盐以及粘结剂成分的比率大于4的涂料15，涂膜容易擦伤，与使用涂料1的涂膜相比，在膜强度方面得到差的结果。另一方面，使上述比率小于1的涂料14，利用粘结剂埋入了多个空隙，与使用涂料1的涂膜相比，在低折射率性方面得到差的结果。 

产业上的可利用性 

本发明的涂料，通过在基板等上涂布，能够赋予防反射功能。例如，可以适当用于对液晶面板和等离子体显示器面板的前面板等赋予防反射功能、使太阳能电池面板的封装玻璃增加透过率等用途。 

Claims (8)

1.一种用于形成低折射率膜的涂料，其特征在于，包含二氧化硅粒子、结合在所述二氧化硅粒子的表面上的金属醇盐和粘结剂成分。

2.如权利要求1所述的用于形成低折射率膜的涂料，其特征在于，所述二氧化硅粒子的平均一次粒径为5nm以上且50nm以下。

3.如权利要求1或2所述的用于形成低折射率膜的涂料，其特征在于，所述二氧化硅粒子的质量与所述金属醇盐以及所述粘结剂成分的总质量的比率在1以上且4以下的范围。

4.如权利要求1～3中任一项所述的用于形成低折射率膜的涂料，其特征在于，所述粘结剂成分含有金属醇盐。

5.如权利要求4所述的用于形成低折射率膜的涂料，其特征在于，所述粘结剂成分含有硅醇盐以及有机改性硅醇盐中的至少一种。

6.如权利要求1～5中任一项所述的用于形成低折射率膜的涂料，其特征在于，结合在所述二氧化硅粒子的表面上的金属醇盐为硅醇盐。

7.一种低折射率膜的制造方法，其特征在于，具有：在基材上涂布权利要求1～6中任一项所述的用于形成低折射率膜的涂料的工序。

8.一种低折射率膜，其特征在于，通过在基材上涂布权利要求1～6中任一项所述的用于形成低折射率膜的涂料而成。

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