CN102553812A - 超疏水表面的制备方法 - Google Patents

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吴巍炜
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Abstract

本发明公开一种在任意高分子材料表面，特别是在高分子薄膜材料表面制备超疏水表面的方法。本发明的方法是：首先在任意高分子基片表面采用刻蚀的方法制备出与基片材料为同一材料的柱状阵列的一级结构，再在柱状阵列的一级结构的表面沉积氧化锌种子层，随后将基片放入可生长氧化锌纳米线阵列的生长液中，使一级结构的表面生长出氧化锌纳米线阵列的二级结构，再将制备了一级和二级结构的高分子基片浸入溶有疏水物质的溶液，使高分子基片上的一级和二级结构的表面完全附着疏水物质物质后，将高分子基片取出，晾干，得到所需要的超疏水表面。

Description

超疏水表面的制备方法
技术领域
本发明涉及一种在任意高分子材料表面，特别是在高分子薄膜材料表面制备超疏水表面的方法。
背景技术
自然界的动植物有很多奇特现象，超疏水表面就是其中一种。动植物的超疏水表面是由蜡质包裹的粗糙表面结构导致的。蜡质可以使得表面具有较低的表面能从而增大接触角，而粗糙表面结构可以进一步增大这种疏水效应。参见：Jiang L，Wang R，Yang B，et al.[J].Pure Appl.Chem.，2000，72-73。
如果能在人造材料的表面形成超疏水(超憎水)表面，即所形成的表面具有极大的接触角和极小的滚动角，符合超疏水的技术要求，其显著的荷叶效应使得该表面具有自清洁功能。此外，超疏水表面具有很多的应用前景，在自清洁领域，它可以用来防雪、防污染、抗氧化以及防止电流传导等。参见：NakajimaA，Hashimoto K，Watanable T.[J].Monatshefte für Chemie，2001，132：31。NakajimaA，FujishimaA，Hashimoto K，et al.[J].Adv.Mater.，1999，11：1365。如果建筑物的外墙、露天的广告牌等表面象荷叶一样，就可以自然保持清洁。参见：Zhai J，Li H J，Li Y S，et al.[J].Physics(in Chinese)，2002，31：483。另外，超疏水表面在减小阻力方面也有特殊的表现，液体在运输管道，比如输水和输油管道，流动时，有很大一部分的能量用来克服流体和固体界面的阻力，随着管道尺寸的减小，阻力所起作用会越来越大，所以对于微流孔道的表面具有超疏水表面将有效减少孔道表面的阻力。同时减少表面摩擦阻力是提高船只航速和节约能源的主要途径。研究发现超疏水硅表面和添加疏水填料的硅橡胶和聚氨树酯均可以达到减阻30％以上的效果。参见：Feng L，Li S，Li Y，et al.[J].Adv.Mater.，2002，14：1857。
目前制备超疏水表面的技术主要可分为以下几类：硅材料表面的刻蚀法，溶胶凝胶法，化学气相沉积法，机械拉伸法，聚合反应成膜法，模板法，电纺法，电化学沉积法，腐蚀金属法。这些方法共同的特点是制备的表面具有较低的表面能，同时又具有较大的粗糙度，从而导致其具有超疏水的特性(参见：赵宁，卢晓英，张晓燕，刘海云，谭帅霞，徐坚，“超疏水表面的研究进展”，《化学进展》，第19卷，第6期，860页，2007)。目前在模仿荷叶表面制备的超疏水表面技术中，所使用的技术是用光刻技术制作的一级结构(模仿荷叶乳突)，然后在其上面生长纳米线(模仿乳突上的二级结构)，以此来实现超疏水。这种技术具有明显的缺陷，由于一级结构光刻胶和材料本体结合力较差，所以一级结构在受到外力作用时很容易脱落，导致超疏水表面结构的破坏，从而使得超疏水表面失效。
发明内容
本发明提供一种可克服现有技术不足，制备工艺简单，制造成本低廉，工艺重复性好，能制备出具有良好的生物兼容性和良好的表面结构，且表面结构更为可靠的超疏水表面制备方法。
本发明的方法是：首先在任意高分子基片表面采用刻蚀的方法制备出与基片材料为同一材料的柱状阵列的一级结构，或者先采用浇筑成型法制备出表面带有柱状阵列的一级结构的高分子材料，或者先采用热压成型法制备出表面带有柱状阵列的一级结构的高分子材料，或者先采用预聚体浇入模子然后聚合的方法制备出表面带有柱状阵列的一级结构的高分子材料，再在柱状阵列的一级结构的表面沉积氧化锌种子层，随后将基片放入可生长氧化锌纳米线阵列的生长液中，使一级结构的表面生长出氧化锌纳米线阵列的二级结构，再将制备了一级和二级结构的高分子基片浸入溶有疏水物质的溶液，使高分子基片上的一级和二级结构的表面完全附着疏水物质物质后，将高分子基片取出，晾干，得到所需要的超疏水表面。
本发明所用的疏水物质可以是蜡质物，例如石蜡，也可以是碳链长度为8-14之间的烷酸，或氟硅烷，或十八烷基硫醇，或正十二烷基三甲氧基硅烷，或C4F8。在具体实施中可将所用的疏水物质用可溶解的溶液溶解，然后将已经在其表面生成一级和二级结构的高分子材料浸入其中，使其一级结构和二级结构的表面完全充分的附着蜡质物质，再将其取出晾干，得到所需要的具有超疏水表面的材料。
本发明的实施例中采用的高分子基片为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，但本领域技术人员不难看出，将本发明的技术用于其它高分子材料时也必然会有相同的结果，因为本发明中无论是采用物理刻蚀方法还是浇筑成型法制备或者热压成型法制备或者预聚体浇入模子然后聚合的方法均可以得到其表面带有与母体材料相同的柱状阵列的一级结构或类柱状阵列的一级结构，这里的类似是指用浇筑成型法制备或者热压成型法制备或者预聚体浇入模子然后聚合的方法制备的材料的一级结构。而在前述工序之后的处理方法，即在一级结构的表面生成的二级结构的方法均是相同的。
本发明超疏水表面的制备方法中采用的刻蚀方法可以是如下的方法：
1)任意高分子基片材料表面用诸点离子束刻蚀办法，在基片表面形成基片材料的微米柱阵列的一级结构；
2)或者是先在任意高分子基片表面上旋涂的光刻胶，再用聚焦离子束技术进行曝光，然后显影，得到光刻胶点阵，然后进行离子束刻蚀，使基片表面形成其顶端带有光刻胶的基片材料的高分子微米柱阵列的一级结构，然后除去其顶端的光刻胶；
3)或者是先在任意高分子基片表面上旋涂的光刻胶，再用电子束曝光技术进行曝光，然后显影，得到光刻胶点阵，然后进行离子束刻蚀，使基片表面形成其顶端带有光刻胶的基片材料的高分子微米柱阵列的一级结构，然后除去其顶端的光刻胶；
4)或者是先在任意高分子基片的表面利用图形掩膜和光刻技术，做出光刻胶点阵，然后，将负载有光刻胶点阵的高分子基片进行离子束刻蚀，使基片表面形成其顶端带有光刻胶的基片材料的高分子微米柱阵列的一级结构，然后除其顶端的光刻胶。
本发明的实施例中，所用的高分子基片为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，旋涂光刻胶前先将基片在90度下烘半小时，旋涂时胶机转速为3000-5000转/分钟，经曝光后在110度再烘半小时，在进行离子刻蚀时电压为1kV-10kV，电流为0.01-1.5mA，通入氩气，真空度为1×10-3-1×10-2Pa。
本发明的实施例中采用磁控溅射法在高分子柱状阵列表面溅射一层氧化锌种子层。所用的可生长氧化锌纳米线阵列的生长液为20mM硝酸锌和20mM的六次甲基四胺的混合液，生长氧化锌纳米线阵列的温度为95摄氏度；或者，所用的可生长氧化锌纳米线阵列的生长液为25mM硝酸锌+12.5mM六次甲基四胺+5mM分子量为800的聚乙烯亚胺和0.35M氨水组成的混合溶液，生长氧化锌纳米线阵列的温度为87.5摄氏度，并每隔2.5小时更换新的反应液。
本发明的实施例中进行浸蜡质物时所用的浸蜡液为5mmol/L的硬质酸的酒精溶液。
本发明的优点在于：
1.本发明在原位制备的与基片材料相同的高分子柱状阵列作为一级结构，具有良好的力学性能，使得超疏水表面结构不易损坏。
2.采用氧化锌纳米线阵列作为二级结构具有良好的生物相容性，无毒，无害，无污染。
3.本发明制备超疏水表面的方法简便，工艺相对简单。
4、可对多种材料表面进行处理，获得超疏水层表面。
附图说明
附图1为制备超疏水表面的流程示意图，其中：图1-1为在材料表面形成光刻胶点阵示意图；图1-2为光刻后形成的顶端带有光刻胶的高分子柱状阵列(一级结构)示意图；图1-3为去除顶端光刻胶后的高分子柱状阵列示意图；图1-4在一级结构表面形成二级结构后的示意图。图中：a为光刻胶微米柱，b为高分子薄膜，c为高分子微米柱阵列，d为氧化锌纳米线。
附图2为本发明制备的光刻胶微米柱扫描电镜图。
附图3为本发明制备的高分子微米柱扫描电镜图
附图4为本发明制备的超疏水表面低倍的顶视扫描电镜图。插入图为生长在高分子微米柱上的氧化锌纳米线。
附图5为本发明制备的超疏水表面的低倍扫描电镜俯视图。
附图6为本发明制备的超疏水表面的高倍扫描电镜俯视图。
附图7为本发明制备的超疏水表面的接触角和滚动角数据图。
具体实施方式
本发明的实施例采用的高分子基片为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。其具体的做法是：先将聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜洗净吹干后，在其上旋涂一层光刻胶(型号DNR-L300)，转速为3000-5000转/分钟，90度下前烘半小时，曝光，110度下后烘半小时，然后显影，得到光刻胶的点状阵列。然后对其进行离子束刻蚀，电压为1kV-10kV，电流为0.01-1.5mA，通入氩气，真空度为1×10-3-1×10-2Pa。得到顶端带有光刻胶的高分子柱状阵列。然后用溶液清洗掉光刻胶，制备得到高分子柱状阵列。然后用磁控溅射在高分子柱状阵列表面溅射一层氧化锌种子层。将其将基片放入浓度为0.1～50mmol/L等摩尔比的Zn(NO3)2和六次甲基四胺的混合培养液中，在60～100摄氏度反应，生长得到垂直与柱状阵列表面的氧化锌纳米线阵列。最后将其泡入浓度为1-50mmol/L硬脂酸的酒精溶液中，静置5-100小时，取出后晾干，制备得到超疏水表面。
以下是本发明的最佳实施例。
本最佳实施例所用的高分子基片为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。其具体制备方法如下：
1、先将聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜洗净吹干后，在其上旋涂一层光刻胶(型号)，甩胶机转速由慢到快，最终转速为3000转/分钟，保持此转速60秒。随后在90摄氏度烘箱中前烘40分钟，然后用光刻机对光刻胶进行曝光，再将温度调高至110摄氏度后烘30分钟，，得到如图1-1所示的光刻胶微米柱。
2、然后对经上处理后的材料表面用离子束刻蚀的办法，对光刻胶微米柱进行离子束刻蚀，使用Gatan Dual 600离子减薄仪，在4kV加速电压，0.2mA束流，2×10-3Pa氩气压强下，对薄膜减薄(光刻)4小时，然后取出，得到如图1-2所示的其顶端带有光刻胶的聚对苯二甲酸乙二醇酯微米柱阵列。
3、将上述处理后的材料用磁控溅射在高分子柱状阵列表面溅射一层氧化锌种子层。然后将基片放入20mM硝酸锌和20mM的六次甲基四胺混合液中，基片镀有氧化锌薄膜的面(也就是带有一级结构的)朝下放置，加热至95摄氏度，进行水热法反应，保持3～6小时反应结束，得到如图1-4所示的一级结构表面长有氧化锌纳米线的二级结构的阵列。
或者，经步骤2处理后的材料用磁控溅射在高分子柱状阵列表面溅射一层氧化锌种子层。然后将基片放入25mM硝酸锌，12.5mM六次甲基四胺，5mM分子量为800的聚乙烯亚胺和0.35M氨水组成的混合溶液中，基片镀有氧化锌薄膜的面(也就是带有一级结构的)朝下放置，加热到87.5摄氏度，进行水热法反应。每隔2.5小时更换反应液，10小时反应结束，取出基片，得到如图1-4所示的一级结构表面长有氧化锌纳米线的二级结构的阵列。
4、对生长有表面结构(包含聚对苯二甲酸乙二醇酯微米柱和氧化锌纳米线阵列)的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜进行表面浸蜡处理。将上一步生长好的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜泡入5mmol/L的硬脂酸酒精溶液中，静置5-48小时，取出后。得到具有超疏水性能的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(如附图5，附图6所示)
5、对制备得到的超疏水聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜表面进行滚动角和接触角测试，所得的超疏水表面滚动角为4度，接触角为160度，具有很强的超疏水性能，参见图7。

Claims (13)

1.超疏水表面的制备方法，其特征在于首先在任意高分子基片表面采用刻蚀的方法制备出与基片材料为同一材料的柱状阵列的一级结构，再在柱状阵列的一级结构的表面沉积氧化锌种子层，随后将基片放入可生长氧化锌纳米线阵列的生长液中，使一级结构的表面生长出氧化锌纳米线阵列的二级结构，再将制备了一级和二级结构的高分子基片浸入溶有疏水物质的溶液，使高分子基片上的一级和二级结构的表面完全附着疏水物质物质后，将高分子基片取出，晾干，得到所需要的超疏水表面。
2.根据权利要求1所述的超疏水表面的制备方法，其特征在于在任意高分子基片材料表面用离子束刻蚀办法，在基片表面形成基片材料的微米柱阵列的一级结构。
3.根据权利要求1所述的超疏水表面的制备方法，其特征在于先在任意高分子基片表面上旋涂的光刻胶，再用聚焦离子束技术进行曝光，然后显影，得到光刻胶点阵，然后进行离子束刻蚀，使基片表面形成其顶端带有光刻胶的基片材料的高分子微米柱阵列的一级结构，然后除去其顶端的光刻胶。
4.根据权利要求1所述的超疏水表面的制备方法，其特征在于先在任意高分子基片表面上旋涂的光刻胶，再用电子束曝光技术进行曝光，然后显影，得到光刻胶点阵，然后进行离子束刻蚀，使基片表面形成其顶端带有光刻胶的基片材料的高分子微米柱阵列的一级结构，然后除去其顶端的光刻胶。
5.根据权利要求1所述的超疏水表面的制备方法，其特征在于先在任意高分子基片的表面利用图形掩膜和光刻技术，做出光刻胶点阵，然后，将负载有光刻胶点阵的高分子基片进行离子束刻蚀，使基片表面形成其顶端带有光刻胶的基片材料的高分子微米柱阵列的一级结构，然后除其顶端的光刻胶。
6.根据权利要求5所述的超疏水表面的制备方法，其特征在于所用的高分子基片为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，旋涂光刻胶前先将基片在90度下烘半小时，旋涂时胶机转速为3000-5000转/分钟，经曝光后在110度再烘半小时，显影后，再进行离子刻蚀时电压为1kV-10kV，电流为0.01-1.5mA，通入氩气，真空度为1×10-3-1×10-2Pa。
7.根据权利要求1至6所述的任一超疏水表面的制备方法，其特征在于用磁控溅射法在高分子柱状阵列表面溅射一层氧化锌种子层。
8.根据权利要求7所述的超疏水表面的制备方法，其特征在于所用的可生长氧化锌纳米线阵列的生长液为20mM硝酸锌和20mM的六次甲基四胺的混合液，生长氧化锌纳米线阵列的温度为95摄氏度。
9.根据权利要求8所述的超疏水表面的制备方法，其特征在于所用的可生长氧化锌纳米线阵列的生长液为25mM硝酸锌+12.5mM六次甲基四胺+5mM分子量为800的聚乙烯亚胺和0.35M氨水组成的混合溶液，生长氧化锌纳米线阵列的温度为87.5摄氏度，并每隔2.5小时更换新的反应液。
10.根据权利要求9所述的超疏水表面的制备方法，其特征在于浸入的溶有疏水物质的溶液为溶有的硬质酸的酒精溶液，溶液中硬质酸浓度为5mmol/L。
11.超疏水表面的制备方法，其特征在于首先采用浇筑成型法制备出表面带有柱状阵列的一级结构的高分子材料，再在柱状阵列的一级结构的表面沉积氧化锌种子层，随后将基片放入可生长氧化锌纳米线阵列的生长液中，使一级结构的表面生长出氧化锌纳米线阵列的二级结构，再将制备了一级和二级结构的高分子基片浸入溶有疏水物质的溶液，使高分子基片上的一级和二级结构的表面完全附着疏水物质物质后，将高分子基片取出，晾干，得到所需要的超疏水表面。
12.超疏水表面的制备方法，其特征在于首先采用热压成型法制备出表面带有柱状阵列的一级结构的高分子材料，再在柱状阵列的一级结构的表面沉积氧化锌种子层，随后将基片放入可生长氧化锌纳米线阵列的生长液中，使一级结构的表面生长出氧化锌纳米线阵列的二级结构，再将制备了一级和二级结构的高分子基片浸入溶有疏水物质的溶液，使高分子基片上的一级和二级结构的表面完全附着疏水物质物质后，将高分子基片取出，晾干，得到所需要的超疏水表面。
13.超疏水表面的制备方法，其特征在于首先采用预聚体浇入模子然后聚合的方法制备出表面带有柱状阵列的一级结构的高分子材料，再在柱状阵列的一级结构的表面沉积氧化锌种子层，随后将基片放入可生长氧化锌纳米线阵列的生长液中，使一级结构的表面生长出氧化锌纳米线阵列的二级结构，再将制备了一级和二级结构的高分子基片浸入溶有疏水物质的溶液，使高分子基片上的一级和二级结构的表面完全附着疏水物质物质后，将高分子基片取出，晾干，得到所需要的超疏水表面。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103663354A (zh) * 2012-09-11 2014-03-26 北京大学 微/纳米阵列及其在微/纳米材料标准弯曲应变加载中的应用
CN104148266A (zh) * 2014-07-05 2014-11-19 兰州大学 自清洁高聚物薄膜或涂层及其制备方法
CN104627952A (zh) * 2015-01-13 2015-05-20 华中科技大学 一种柔性超疏水超疏油结构制备方法
CN105110363A (zh) * 2015-08-12 2015-12-02 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 一种制备氧化锌微米管的方法
CN106702322A (zh) * 2016-12-13 2017-05-24 电子科技大学 一种具有疏水性能的透明隔热薄膜及其制备方法
CN106811740A (zh) * 2015-11-27 2017-06-09 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 长效减阻涂层、其制备方法及应用
CN109721756A (zh) * 2018-12-21 2019-05-07 浙江工业大学 具有材料表面超疏水性的二级微结构
CN110385246A (zh) * 2019-05-30 2019-10-29 湖北大学 具有水收集功能的微纳结构超滑表面的制备方法
CN110699634A (zh) * 2019-09-11 2020-01-17 神通科技集团股份有限公司 一种塑件表面处理方法
CN113145418A (zh) * 2020-01-07 2021-07-23 中国石油天然气集团有限公司 超疏水材料的制备方法及超疏水材料
CN114214597A (zh) * 2021-12-14 2022-03-22 国网天津市电力公司电力科学研究院 一种超疏水纳米结构有机薄膜的定向生长调控方法
CN116078633A (zh) * 2022-11-18 2023-05-09 中国科学院金属研究所 一种具有微柱阵列结构的防冰防腐超疏水涂层及制备方法
WO2023236621A1 (zh) * 2022-06-07 2023-12-14 泰州市创新电子有限公司 一种显示器支撑架用超疏水仿生纳米涂层及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030144150A1 (en) * 2000-12-06 2003-07-31 Arendt Paul N. Substrate structure for growth of highly oriented and/or epitaxial layers thereon
CN101135059A (zh) * 2006-08-31 2008-03-05 中国科学院过程工程研究所 一种制备纳米氧化锌晶须的方法
CN101570853A (zh) * 2009-05-08 2009-11-04 中国科学技术大学 利用磁控溅射制备形貌可控的锌和锌氧化物纳米材料的方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030144150A1 (en) * 2000-12-06 2003-07-31 Arendt Paul N. Substrate structure for growth of highly oriented and/or epitaxial layers thereon
CN101135059A (zh) * 2006-08-31 2008-03-05 中国科学院过程工程研究所 一种制备纳米氧化锌晶须的方法
CN101570853A (zh) * 2009-05-08 2009-11-04 中国科学技术大学 利用磁控溅射制备形貌可控的锌和锌氧化物纳米材料的方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
栗常红等: "仿荷叶表面研究进展", 《化学通报》 *
齐高璨等: "氧化锌纳米棒改性涤纶绸缎的超疏水与抑菌性能", 《无机盐工业》 *

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103663354B (zh) * 2012-09-11 2016-07-20 北京大学 微/纳米阵列及其在微/纳米材料标准弯曲应变加载中的应用
CN103663354A (zh) * 2012-09-11 2014-03-26 北京大学 微/纳米阵列及其在微/纳米材料标准弯曲应变加载中的应用
CN104148266A (zh) * 2014-07-05 2014-11-19 兰州大学 自清洁高聚物薄膜或涂层及其制备方法
CN104148266B (zh) * 2014-07-05 2016-05-25 兰州大学 自清洁高聚物薄膜或涂层及其制备方法
CN104627952A (zh) * 2015-01-13 2015-05-20 华中科技大学 一种柔性超疏水超疏油结构制备方法
CN105110363B (zh) * 2015-08-12 2020-03-31 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 一种制备氧化锌微米管的方法
CN105110363A (zh) * 2015-08-12 2015-12-02 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 一种制备氧化锌微米管的方法
CN106811740A (zh) * 2015-11-27 2017-06-09 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 长效减阻涂层、其制备方法及应用
CN106811740B (zh) * 2015-11-27 2019-06-11 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 长效减阻涂层、其制备方法及应用
CN106702322A (zh) * 2016-12-13 2017-05-24 电子科技大学 一种具有疏水性能的透明隔热薄膜及其制备方法
CN106702322B (zh) * 2016-12-13 2019-05-14 电子科技大学 一种具有疏水性能的透明隔热薄膜及其制备方法
CN109721756A (zh) * 2018-12-21 2019-05-07 浙江工业大学 具有材料表面超疏水性的二级微结构
CN110385246A (zh) * 2019-05-30 2019-10-29 湖北大学 具有水收集功能的微纳结构超滑表面的制备方法
CN110699634A (zh) * 2019-09-11 2020-01-17 神通科技集团股份有限公司 一种塑件表面处理方法
CN110699634B (zh) * 2019-09-11 2021-07-20 神通科技集团股份有限公司 一种塑件表面处理方法
CN113145418A (zh) * 2020-01-07 2021-07-23 中国石油天然气集团有限公司 超疏水材料的制备方法及超疏水材料
CN114214597A (zh) * 2021-12-14 2022-03-22 国网天津市电力公司电力科学研究院 一种超疏水纳米结构有机薄膜的定向生长调控方法
WO2023236621A1 (zh) * 2022-06-07 2023-12-14 泰州市创新电子有限公司 一种显示器支撑架用超疏水仿生纳米涂层及其制备方法
CN116078633A (zh) * 2022-11-18 2023-05-09 中国科学院金属研究所 一种具有微柱阵列结构的防冰防腐超疏水涂层及制备方法

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