CN102431686A - 一种电容电阻整形机 - Google Patents

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陈小明
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Abstract

本发明公开了一种电容电阻整形机,具有控制机箱和设置在控制机箱侧面的振动料仓,所述控制机箱上设置有相互连接的整形轨道和传送轨道,并且传动轨道与振动料仓连接,所述整形轨道的末端设置有整形刀,整形刀的下方设置有安装在驱动器上的转盘;所述转盘的边缘均匀分布这大小相同的槽口;所述转盘下方的控制机箱面上设置有收纳盒;所述控制机箱上设置有控制按钮;所述振动料仓内壁上设置有螺旋槽。本发明的优点是,这种电容电阻整形机生产效率比较高,能够降低劳动力生产成本,结构简单,操作方便。

Description

一种电容电阻整形机
技术领域
本发明涉及一种整形机,尤其是涉及一种电容电阻整形机。
背景技术
随着信息技术的不断发达,电路板在各个领域都被广泛的应用,电容电阻作为电路板上的重要组成部件也得到一定的改善和发展。由于电路板中,电容电阻的应用数量比较多,因此,对电容电阻的产量达到了新的要求。一般,电容电阻在出产时焊接脚比较长,所以在焊接电容之前要求对电容电阻进行一下处理,而现在大多数电容电阻的处理方式都是通过人工手动整形,这种整形方式比较缓慢,而且耗费人力,从而加大了生产成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种结构简单,能够适应大批量整形的一种电容电阻整形机。
为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:
这种电容电阻整形机,具有控制机箱和设置在控制机箱侧面的振动料仓,所述控制机箱上设置有相互连接的整形轨道和传送轨道,并且传动轨道与振动料仓连接,所述整形轨道的末端设置有整形刀,整形刀的下方设置有安装在驱动器上的转盘。
为了使整形好的电容电阻被转盘带出,进一步地,所述转盘的边缘均匀分布这大小相同的槽口。
为了可以对整形好的电容电阻进行归纳,进一步地,所述转盘下方的控制机箱面上设置有收纳盒。
为了能够控制电容电阻整形机,再进一步地,所述控制机箱上设置有控制按钮。
为了能够使振动料仓内的电容电阻原件送到传送轨道上,更进一步地,所述振动料仓内壁上设置有螺旋槽。
与现有技术相比,本发明的有益之处是:这种电容电阻整形机生产效率比较高,能够降低劳动力生产成本,结构简单,操作方便。
附图说明:
下面结合附图对本发明进一步说明。
图1是本发明一种电容电阻整形机结构示意图。
图中:1、控制机箱; 2、控制按钮; 3、整形刀; 4、收纳盒; 5、转盘;
      6、驱动器; 7、整形轨道; 8、传送轨道; 9、振动料仓。
具体实施方式:
下面结合附图及具体实施方式对本发明进行详细描述:
图1所示一种电容电阻整形机,具有控制机箱1和设置在控制机箱1侧面的振动料仓9,所述控制机箱1上设置有相互连接的整形轨道7和传送轨道8,并且传动轨道8与振动料仓9连接,控制机箱1面上设置有控制按钮2,方便对机器控制;所述振动料仓9内壁上设置有螺旋槽,能够使振动料仓内的电容电阻原件送到传送轨道上;所述整形轨道7的末端设置有整形刀3,整形刀3的下方设置有安装在驱动器6上的转盘5;所述转盘5下方的控制机箱1面上设置有收纳盒4,方便用来收纳电容电阻成品;为了方便整形后的电容电阻带出,所述转盘5的边缘均匀分布这大小相同的槽口。
工作时,将电容电阻原料倒入振动料仓9内,然后开动控制机箱1上的控制按钮,使振动料仓9振动,电容电阻原料顺着设置在振动料仓9内壁上的螺旋槽向传送轨道8上移动,然后通过传送轨道8输送到整形轨道7上,通过设置在整形轨道7下方的整形刀3对电容电阻进行整形,最后通过设置在驱动器6上的转盘5将整形后的电容电阻带到设置在控制机箱1上的收纳盒4内,完成加工。
需要强调的是:以上仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (5)

1.一种电容电阻整形机,其特征在于:具有控制机箱(1)和设置在控制机箱(1)侧面的振动料仓(9),所述控制机箱(1)上设置有相互连接的整形轨道(7)和传送轨道(8),并且传动轨道(8)与振动料仓(9)连接,所述整形轨道(7)的末端设置有整形刀(3),整形刀(3)的下方设置有安装在驱动器(6)上的转盘(5)。
2.根据权利要求1所述的电容电阻整形机,其特征在于:所述转盘(5)的边缘均匀分布这大小相同的槽口。
3.根据权利要求1所述的电容电阻整形机,其特征在于:所述转盘(5)下方的控制机箱(1)面上设置有收纳盒(4)。
4.根据权利要求1所述的电容电阻整形机,其特征在于:所述控制机箱(1)上设置有控制按钮(2)。
5.根据权利要求1所述的电容电阻整形机,其特征在于:所述振动料仓(9)内壁上设置有螺旋槽。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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