CN102426936A - 一种电容整形机 - Google Patents

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陈小明
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Suzhou Tianhao Auto Parts Co ltd
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Suzhou Tianhao Auto Parts Co ltd
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Abstract

本发明公开了一种电容整形机,包括设置在控制箱侧面的整形机,所述整形机一端与振动料仓连接,另一端端口下方设置有成品容器;所述整形机和振动料仓上设置有导向槽;所述控制箱与整形机之间设置有调节杆;所述控制箱上设置有控制按钮;所述整形机与振动料仓接触的下方设置有整形刀;所述振动料仓内部沿内壁设置有螺旋槽。本发明的优点是,这种电容整形机可以降低劳动力的生产成本,整形效率高,结构简单,方便控制,适于大批量电容整形。

Description

一种电容整形机
技术领域
 本发明涉及一种整形机,尤其是涉及一种电容整形机。
背景技术
随着信息技术的不断发达,电路板在各个领域都被广泛的应用,电容作为电路板上的重要组成部件也得到一定的改善和发展。由于电路板中,电容的应用数量比较多,因此,对电容的产量达到了新的要求。一般,电容在出产时焊接脚比较长,所以在焊接电容之前要求对电容进行一下处理,而现在大多数电容的处理方式都是通过人工手动整形,这种整形方式比较缓慢,而且耗费人力,从而加大了生产成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种快捷整形的一种电容整形机。
为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:
这种电容整形机,包括设置在控制箱侧面的整形机,所述整形机一端与振动料仓连接,另一端端口下方设置有成品容器。
为方便振动料仓内的电容原料被输出加工,进一步地,所述整形机和振动料仓上设置有导向槽。
为了可以控制整形机,进一步地,所述控制箱与整形机之间设置有调节杆。
为了能够控制整个整形机的运动,再进一步地,所述控制箱上设置有控制按钮。
为了能够对来料进行加工,再进一步地,所述整形机与振动料仓接触的下方设置有整形刀。
为了能够使振动料仓内的电容原料不间断的输出,更进一步地,所述振动料仓内部沿内壁设置有螺旋槽。
与现有技术相比,本发明的有益之处是:这种电容整形机可以降低劳动力的生产成本,整形效率高,结构简单,方便控制,适于大批量电容整形。
附图说明:
下面结合附图对本发明进一步说明。
图1是本发明一种电容整形机结构示意图。
图中:1、控制箱; 2、控制按钮;3、成品容器; 4、导向槽; 
5、调节杆; 6、整形机; 7、振动料仓; 8、整形刀。
具体实施方式:
下面结合附图及具体实施方式对本发明进行详细描述:
图1所示一种电容整形机,包括设置在控制箱1侧面的整形机6,所述整形机6一端与振动料仓7连接,另一端端口下方设置有成品容器3;为方便振动料仓内的电容原料被输出加工,所述整形机6和振动料仓7上设置有导向槽4;为了可以控制整形机,所述控制箱1与整形机6之间设置有调节杆5;为了能够控制整个整形机的运动,所述控制箱1上设置有控制按钮2;为了能够对来料进行加工,所述整形机6与振动料仓7接触的下方设置有整形刀8;为了保证来料输送不间断,所述振动料仓7内部沿内壁设置有螺旋槽。
工作时,将电容原料倒入振动料仓7内,打开振动料仓7,使振动料仓7整振动,电容原料在振动料仓7的震动下沿振动料仓7内壁螺旋槽进入振动料仓7顶部的导向槽4内,接着再通过振动的方式将电容原料输送到整形机6上,通过整形机6下方的整形刀8将电容原料长脚进行整形,最后沿整形机6上的导向槽4落入整形机6下方的成品容器3内,完成加工。
需要强调的是:以上仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (6)

1.一种电容整形机,其特征在于:包括设置在控制箱(1)侧面的整形机(6),所述整形机(6)一端与振动料仓(7)连接,另一端端口下方设置有成品容器(3)。
2.根据权利要求1所述的电容整形机,其特征在于:所述整形机(6)和振动料仓(7)上设置有导向槽(4)。
3.根据权利要求1所述的电容整形机,其特征在于:所述控制箱(1)与整形机(6)之间设置有调节杆(5)。
4.根据权利要求1所述的电容整形机,其特征在于:所述控制箱(1)上设置有控制按钮(2)。
5.根据权利要求1所述的电容整形机,其特征在于:所述整形机(6)与振动料仓(7)接触的下方设置有整形刀(8)。
6.根据权利要求1所述的电容整形机,其特征在于:所述振动料仓(7)内部沿内壁设置有螺旋槽。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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