CN102426936A - 一种电容整形机 - Google Patents

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陈小明
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Abstract

本发明公开了一种电容整形机，包括设置在控制箱侧面的整形机，所述整形机一端与振动料仓连接，另一端端口下方设置有成品容器；所述整形机和振动料仓上设置有导向槽；所述控制箱与整形机之间设置有调节杆；所述控制箱上设置有控制按钮；所述整形机与振动料仓接触的下方设置有整形刀；所述振动料仓内部沿内壁设置有螺旋槽。本发明的优点是，这种电容整形机可以降低劳动力的生产成本，整形效率高，结构简单，方便控制，适于大批量电容整形。

Description

一种电容整形机
技术领域
 本发明涉及一种整形机，尤其是涉及一种电容整形机。
背景技术
随着信息技术的不断发达，电路板在各个领域都被广泛的应用，电容作为电路板上的重要组成部件也得到一定的改善和发展。由于电路板中，电容的应用数量比较多，因此，对电容的产量达到了新的要求。一般，电容在出产时焊接脚比较长，所以在焊接电容之前要求对电容进行一下处理，而现在大多数电容的处理方式都是通过人工手动整形，这种整形方式比较缓慢，而且耗费人力，从而加大了生产成本。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种快捷整形的一种电容整形机。
为了解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：
这种电容整形机，包括设置在控制箱侧面的整形机，所述整形机一端与振动料仓连接，另一端端口下方设置有成品容器。
为方便振动料仓内的电容原料被输出加工，进一步地，所述整形机和振动料仓上设置有导向槽。
为了可以控制整形机，进一步地，所述控制箱与整形机之间设置有调节杆。
为了能够控制整个整形机的运动，再进一步地，所述控制箱上设置有控制按钮。
为了能够对来料进行加工，再进一步地，所述整形机与振动料仓接触的下方设置有整形刀。
为了能够使振动料仓内的电容原料不间断的输出，更进一步地，所述振动料仓内部沿内壁设置有螺旋槽。
与现有技术相比，本发明的有益之处是：这种电容整形机可以降低劳动力的生产成本，整形效率高，结构简单，方便控制，适于大批量电容整形。
附图说明：
下面结合附图对本发明进一步说明。
图1是本发明一种电容整形机结构示意图。
图中：1、控制箱； 2、控制按钮；3、成品容器； 4、导向槽； 
5、调节杆； 6、整形机； 7、振动料仓； 8、整形刀。
具体实施方式：
下面结合附图及具体实施方式对本发明进行详细描述：
图1所示一种电容整形机，包括设置在控制箱1侧面的整形机6，所述整形机6一端与振动料仓7连接，另一端端口下方设置有成品容器3；为方便振动料仓内的电容原料被输出加工，所述整形机6和振动料仓7上设置有导向槽4；为了可以控制整形机，所述控制箱1与整形机6之间设置有调节杆5；为了能够控制整个整形机的运动，所述控制箱1上设置有控制按钮2；为了能够对来料进行加工，所述整形机6与振动料仓7接触的下方设置有整形刀8；为了保证来料输送不间断，所述振动料仓7内部沿内壁设置有螺旋槽。
工作时，将电容原料倒入振动料仓7内，打开振动料仓7，使振动料仓7整振动，电容原料在振动料仓7的震动下沿振动料仓7内壁螺旋槽进入振动料仓7顶部的导向槽4内，接着再通过振动的方式将电容原料输送到整形机6上，通过整形机6下方的整形刀8将电容原料长脚进行整形，最后沿整形机6上的导向槽4落入整形机6下方的成品容器3内，完成加工。
需要强调的是：以上仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (6)

1.一种电容整形机，其特征在于：包括设置在控制箱（1）侧面的整形机（6），所述整形机（6）一端与振动料仓（7）连接，另一端端口下方设置有成品容器（3）。
2.根据权利要求1所述的电容整形机，其特征在于：所述整形机（6）和振动料仓（7）上设置有导向槽（4）。
3.根据权利要求1所述的电容整形机，其特征在于：所述控制箱（1）与整形机（6）之间设置有调节杆（5）。
4.根据权利要求1所述的电容整形机，其特征在于：所述控制箱（1）上设置有控制按钮（2）。
5.根据权利要求1所述的电容整形机，其特征在于：所述整形机（6）与振动料仓（7）接触的下方设置有整形刀（8）。
6.根据权利要求1所述的电容整形机，其特征在于：所述振动料仓（7）内部沿内壁设置有螺旋槽。
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CN201207338Y (zh) * 2008-05-16 2009-03-11 罗圣林 电容器自动加工设备
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CN201904225U (zh) * 2010-12-21 2011-07-20 东莞市上川自动化设备有限公司 多功能电容整形机
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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