CN102242333A - 使用旋转陶瓷靶制造镀膜玻璃的工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种旋转陶瓷靶的镀膜玻璃生产工艺，该工艺的步骤如下：将等离子喷涂设备通电，把电流设定为700A，电压设定为70V，对设备进行预热，预热时间为15分钟左右；待温度升至80℃时，把电流设定为600A，电压设定为65V；然后分别通入氩气、氮气、氢气；最后将气流调节为80m3/s；喷枪与靶材的距离调节为20厘米左右，使用等离子喷涂设备进行喷镀，喷涂密度为5g/m3。其中使用的陶瓷靶被制成圆筒状，该圆筒状陶瓷靶套在旋转轴上，在使用等离子喷涂设备进行喷涂时，旋转轴保持每10分钟转一圈的速度匀速旋转。使用旋转陶瓷靶的好处在于：旋转式陶瓷靶材利用率高，节省靶材，成本低；生产的镀膜玻璃膜层均匀，平整度、光泽度好，稳定性优异。
Description
技术领域
本发明涉及一种镀膜玻璃制造工艺，特别地涉及一种使用旋转陶瓷靶制造镀膜玻璃的工艺。
背景技术
目前镀膜玻璃的生产多采用磁控溅射技术，而其中所使用的靶一般分金属靶、非金属靶以及陶瓷靶。不管是哪种靶，目前的生产技术中的靶都是固定的。以陶瓷靶为例，在生产时将喷涂陶瓷靶固定于支架上进行喷涂。这种固定式的喷涂方式存在以下缺点：固定式陶瓷靶材利用率低，浪费靶材，成本高。固定式陶瓷靶材生产的镀膜玻璃膜层不均，色差较大，平整度、光泽度不够，稳定性差。固定式陶瓷靶材喷涂技术科技含量低，工艺相对简单，性能相对较差。
发明内容
针对背景技术中存在的缺点，本发明提供了一种旋转陶瓷靶的镀膜玻璃生产工艺，来克服上述缺点。
该工艺的步骤如下：
将等离子喷涂设备通电，把电流设定为700A，电压设定为70V，对设备进行预热，预热时间为15分钟左右；待温度升至80℃时，把电流设定为600A，电压设定为65V；然后分别通入氩气、氮气、氢气；最后将气流调节为80m3/s；喷枪与靶材的距离调节为20厘米左右，使用等离子喷涂设备进行喷镀，喷涂密度为5g/m3。其中使用的陶瓷靶被制成圆筒状，该圆筒状陶瓷靶套在旋转轴上，在使用等离子喷涂设备进行喷涂时，旋转轴保持每10分钟转一圈的速度匀速旋转。
使用旋转陶瓷靶的好处在于：旋转式陶瓷靶材利用率高，节省靶材，成本低；生产的镀膜玻璃膜层均匀，平整度、光泽度好，稳定性优异。
具体实施方式
将等离子喷涂设备通电，把电流设定为700A，电压设定为70V，对设备进行预热，预热时间15分钟；待温度升至80℃时，把电流设定为600A，电压设定为65V；然后分别通入氩气、氮气、氢气，将气流调节为80m3/s。将陶瓷靶制成圆筒状，套在旋转轴上，使用等离子喷涂设备进行喷涂。喷涂时，旋转轴保持每10分钟转一圈的速度匀速旋转。喷枪与靶材的距离调节为20厘米，以将喷涂密度控制在5g/m3。
本领域技术人员可以根据本发明公开的内容和所掌握的本领域技术对本发明内容作出替换或变型，但是这些替换或变型都不应视为脱离本发明构思的，这些替换或变型均在本发明要求保护的权利范围内。
Claims (1)
1.一种使用旋转陶瓷靶制造镀膜玻璃的工艺，其包括以下步骤：将等离子喷涂设备通电，把电流设定为700A，电压设定为70V，对设备进行预热，预热时间为15分钟左右；待温度升至80℃时，把电流设定为600A，电压设定为65V；然后分别通入氩气、氮气、氢气；最后将气流调节为80m3/s；喷枪与靶材的距离调节为20厘米左右，使用等离子喷涂设备进行喷镀，喷涂密度为5g/m3；其特征在于使用制成圆筒状的陶瓷靶，所述圆筒状陶瓷靶套在旋转轴上，使用等离子喷涂设备进行喷涂时，旋转轴保持每10分钟转一圈的速度匀速旋转。
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Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1452668A (zh) * | 2000-09-08 | 2003-10-29 | 旭硝子株式会社 | 圆筒状靶及其制造方法 |
| CN101016614A (zh) * | 2007-02-08 | 2007-08-15 | 陈锦松 | 一种在环氧树脂基碳纤维复合材料制品表面喷涂陶瓷的工艺 |
| CN101078117A (zh) * | 2007-07-03 | 2007-11-28 | 北京航空航天大学 | 带有柱状晶结构陶瓷层的热障涂层制备方法 |
| CN101109062A (zh) * | 2007-08-22 | 2008-01-23 | 北京航空航天大学 | 制备高温封严涂层的大气等离子喷涂方法 |
| CN101126144A (zh) * | 2007-09-24 | 2008-02-20 | 北京航空航天大学 | 采用低压等离子喷涂制备Al-Si-Cr涂层的方法 |
| CN101158018A (zh) * | 2007-11-19 | 2008-04-09 | 北京矿冶研究总院 | AgCu涂层材料及涂层的制备方法 |
| CN101158017A (zh) * | 2007-11-19 | 2008-04-09 | 北京矿冶研究总院 | CuNiIn涂层材料及涂层的制备方法 |
| CN201670870U (zh) * | 2010-04-21 | 2010-12-15 | 光洋应用材料科技股份有限公司 | 旋转靶块体以及旋转靶总成 |
| US20100326823A1 (en) * | 2007-07-02 | 2010-12-30 | Tosoh Corporation | Cylindrical sputtering target |
-
2011
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Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1452668A (zh) * | 2000-09-08 | 2003-10-29 | 旭硝子株式会社 | 圆筒状靶及其制造方法 |
| CN101016614A (zh) * | 2007-02-08 | 2007-08-15 | 陈锦松 | 一种在环氧树脂基碳纤维复合材料制品表面喷涂陶瓷的工艺 |
| US20100326823A1 (en) * | 2007-07-02 | 2010-12-30 | Tosoh Corporation | Cylindrical sputtering target |
| CN101078117A (zh) * | 2007-07-03 | 2007-11-28 | 北京航空航天大学 | 带有柱状晶结构陶瓷层的热障涂层制备方法 |
| CN101109062A (zh) * | 2007-08-22 | 2008-01-23 | 北京航空航天大学 | 制备高温封严涂层的大气等离子喷涂方法 |
| CN101126144A (zh) * | 2007-09-24 | 2008-02-20 | 北京航空航天大学 | 采用低压等离子喷涂制备Al-Si-Cr涂层的方法 |
| CN101158018A (zh) * | 2007-11-19 | 2008-04-09 | 北京矿冶研究总院 | AgCu涂层材料及涂层的制备方法 |
| CN101158017A (zh) * | 2007-11-19 | 2008-04-09 | 北京矿冶研究总院 | CuNiIn涂层材料及涂层的制备方法 |
| CN201670870U (zh) * | 2010-04-21 | 2010-12-15 | 光洋应用材料科技股份有限公司 | 旋转靶块体以及旋转靶总成 |
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