CN102171267B - 基于自显影聚合物的体全息记录用介质 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用于通过曝光引入体全息图的新型自显影胶片、其的制备方法和其用途。

Description

基于自显影聚合物的体全息记录用介质
本发明涉及用于通过曝光引入体全息图的新型自显影胶片(Folie)、其的制备方法和其用途。
通过造成相同波长的两个光波，也称为物体光束和参考光束干涉并且使全息记录介质，通常是照相胶片曝光(belichten)成相应的干涉图案－通常是强度图案而产生体全息图(Volumenhologramm)。全息曝光过程和全息图的复制是技术复杂的光学方法，其需要与应用相关的特殊知识。用于制备全息图的方法和理论全面地描述于文献[Howard M. Smith, "Principles of Holography", Wiley (1969)] [Fred Unterseher,等人"Holography Handbook: Making Holograms the Easy Way", Ross Books (1982)] [Graham Saxby, "Practical Holography", Inst. of Physics Pub. (2004)]中。
具有不同的性能组合和应用领域的已知记录材料是：卤化银乳液、固化的重铬酸盐凝胶、铁电晶体、光致变色和二向色性材料以及光聚合物[Howard M. Smith, "Principles of Holography", Wiley (1969).]。对于大件数的应用，仅有的重要材料是曝光前作为稳定胶片存在并且因此可以毫无问题地集成到用于全息图制备和复制的系统中，并且允许容易的全息曝光和显影的那些。由于它们的干化学性质、容易处理和它们的良好储存寿命，因此光聚合物被认为特别优选。大多数公知的光聚合物来自DuPont，例如Omnidex HRF 600 [S. M. Schultz,等人"Volume grating preferential-order focusing waveguide coupler," Opt. Lett., 第24卷, 第1708–1710页, 1999年12月]。Omnidex材料属于由基于自由基聚合和单体扩散的自显影光聚合物胶片组成的类型[EP 0324480]。
Omnidex光聚合物在近年间进一步发展，主要目的是增加折射率对比度和实现胶片中的高衍射效率[US 4942112] [DE 69032682]。然而，与应用技术相关的显著超过2/3的衍射效率通过高比例的热塑性粘合剂和因此高比例的溶剂实现，这导致强烈的、通常不能控制的胶片生产中胶片厚度的降低。此外，为了实现最大折射率对比度，曝光和UV固定的光聚合物的热后处理(“退火”)是必需的[DE 68905610]。退火是额外的工序，其使得全息图制备复杂并且使得其更昂贵，并且此外将载体材料的选择限于非温度敏感的那些。
用于体全息术的其它光聚合物材料由Polaroid [US 5759721]、Fuji Photo Film [EP 1510862]、Konica Minolta Medical & Graphic [US 2005058911]、Dai Nippon Printing [EP 1231511]、Nippon Paint [EP 211615]、Nissan Chemical Industries [US 20050068594]、Xetos [WO 2003036389A]和InPhase Technologies [US 2002142227]开发。现有技术存在它们的全息性能或它们的加工不同于Omnidex的光聚合物。技术进步由降低的氧敏感性、曝光期间降低的材料收缩、适合的光谱敏感性（敏感度）、无溶剂的膜制备、较高的衍射效率而不需要退火和/或较好的热稳定性和储存寿命的文件证明。
根据现有技术，光聚合物胶片（其以耐晒的方式并且随着时间稳定地储存体全息图）必须热后处理和/或表现出由吸收、散射、收缩或差的表面质量造成的全息损失，这降低了全息图的强度或者改变了其的颜色。
具有高效率和足够稳定性的真正的自显影光聚合物胶片仍然是深入研究的主题。
现已惊奇地发现，当使用载体材料与基于表现出聚合物网络的基质和溶于其中的至少一种可光聚合单体的光聚合物组合物的特殊组合，可以准确地获得具有高效率和足够稳定性的自显影光聚合物胶片(Photopolymerfilme)。
本发明因此涉及适用于记录全息图的介质，其包含：
I) 作为载体的对可见光谱范围内的光透明(在400－780nm波长范围内透射率大于85%)并且能够任选地在一侧或两侧被涂覆的透明材料或材料复合物的层，和
II) 施加到载体I)上并且基于聚氨酯组合物的至少一个任选多层的光聚合物层，该组合物包含：
A) 多异氰酸酯组分，
B) 异氰酸酯反应性组分，
C) 具有在光化辐照作用下伴随着聚合与烯属不饱和化合物反应的基团(辐照固化基团)并且本身不含NCO基团的化合物，
D) 光引发剂
E) 自由基稳定剂
F) 任选的催化剂
G) 任选的助剂和添加剂。
III) 光聚合物层II)上的任选的至少一个覆盖层。
为了测量透明度，使用借助于例如得自Varian的UV/VIS分光光度计，分光光度计型号Cary 4G透射。通过在相对于空气的透射中在垂直入射中测量材料样品进行测量。在本发明上下文中，被认为是透明的材料或材料复合物是透射率优选至少90%，特别优选至少95%的那些。
光化辐照被理解为是指电磁，电离辐照，特别是电子束，UV辐照和可见光(Roche Lexikon Medizin, 第4版; Urban & Fischer Verlag, 慕尼黑，1999)。
优选的载体层I)的材料或材料复合物基于聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚乙烯、聚丙烯、乙酸纤维素、水合纤维素、硝酸纤维素、环烯烃聚合物、聚苯乙烯、聚环氧化物、聚砜、三乙酸纤维素(CTA)、聚酰胺、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚乙烯缩丁醛或聚二环戊二烯或其的混合物。特别优选地，它们基于PC、PET和CTA。
材料复合物可以是膜层压物或共挤出物。优选的材料复合物是根据下面方案A/B、A/B/A或A/B/C之一组成的双重和三重膜。特别优选PC/PET、PET/PC/PET和PC/TPU (TPU =热塑性聚氨酯)。
作为上述塑料载体的替代，也可以使用平面玻璃板，其特别用于大面积精确成像曝光，例如用于全息光刻[Ng, Willie W.; Hong, Chi-Shain; Yariv, Amnon. Holographic interference lithography for integrated optics。IEEE Transactions on Electron Devices (1978), ED-25(10), 1193-1200。ISSN:0018-9383]。
优选光学透明，即不混浊的透明载体I)。浊度(Trübung)可通过浊度值测量，浊度值小于3.5%，优选小于1%，特别优选小于0.3%。
浊度值描述了在正向被照射的样品散射的透射光的比例。因此，其是透明材料的不透明度或浊度的量度，并且将材料或者通过所述材料影响清晰视角的表面中的材料缺陷、颗粒、不均匀性或结晶相界量化。测量浊度的方法描述于标准ASTM D 1003中。
载体I)优选具有不高的双折射率，即通常小于1000 nm，优选小于700 nm，特别优选小于300 nm的平均光学延迟。
延迟率R是双折射率Δn和载体厚度d的数学乘积。延迟率的自动和客观测量使用例如得自ilis GmbH的成像偏振器，型号StainMatic® M3/M进行。
延迟率在垂直入射中测量。所述载体I)的延迟率值是侧面平均值。
载体I)（包括一侧或两侧上可能的涂层）通常具有5－2000 µm，优选8－200 µm，特别优选10－175 µm，并且特别为30－50 µm的厚度。
载体I)的材料或材料复合物可以在一侧或两侧上整理，以使得其防粘结、抗静电、疏水或亲水。在面向层II)的一侧上，所述改性用于使光聚合物层II)能够从载体I)上分离而没有破坏。面向远离光聚合物层的载体侧的改性用于确保根据本发明的介质符合例如辊层压机中，特别在辊对辊方法中加工中必要的特殊机械要求。
载体I)同样可以具有相应的人们所说的抗反射层，特别地用于抑制全息曝光期间不希望的界面反射。
在特别地预期用于保持透射全息图的特殊实施方案中，载体I)包括反射层。
在另一个实施方案中，载体I)在背面包括吸收层，该层可以取下而没有残渣并且没有破坏。这特别具有这样的作用：在全息曝光期间抑制从背面不希望的反射并且可以在全息曝光末尾取下，使得载体I)重新获得其的透明度。该层可以涂层的形式或者以稳定的层压膜的形式存在。对于层压膜，优选使用类似于载体层中使用的材料的膜材料。
在另一个实施方案中，载体I)在一侧包括耐刮擦或耐磨层。这包括膜背面的层压，对于其而言，优选使用类似于载体层中使用的材料的膜材料。
基于施加于层II)的所有光聚合物层，光聚合物层II)优选具有不超过200 µm，特别优选3－200 µm，非常特别优选5－120 µm并且特别为10－30 µm的总层厚。
光聚合物层II)的聚氨酯组合物优选具有小于载体I)（包括可能的涂层）的总表面张力。总表面张力使用极性和非极性测量液通过接触角测量进行，测量液的表面张力(极性和非极性份额)是已知的。根据Owens和Wendt (D.K. Owens和R.C. Wendt, J. Appl. Polym. Sci. 13 (1969), 第1741–1747页)，可由其计算待测量的固体表面张力的非极性和极性份额。
由于较低的表面张力，因此可以实现特别在上述厚度范围内并且具有良好表面质量的光聚合物层II)的层。
此外，这得到可用于全部可见光谱范围(波长400－800nm)并且在近UV范围(300-400nm)部分中透明以及在本发明的上下文中可用作用于显示高对比度全息图的光聚合物的胶片。
聚氨酯组合物的表面张力特别优选比载体I)的表面张力小约至少1 mN/m，非常特别优选约至少10 mN/m，特别约至少20 mN/m。
光聚合物层的异氰酸酯组分A)优选包括多异氰酸酯。使用的多异氰酸酯可以是本领域技术人员本身公知的每分子具有平均两个或更多个NCO官能团的所有化合物或其的混合物。这些可以具有芳族、芳脂族、脂族或脂环族基础。单异氰酸酯和/或包含不饱和基团的多异氰酸酯可以次要的量同时使用。
例如，亚丁基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、1,8-二异氰酸根合-4-(异氰酸根合甲基)辛烷、2,2,4-和/或2,4,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、异构的双(4,4’-异氰酸根合环己基)甲烷和其的具有任何希望的异构体含量的混合物、异氰酸根合甲基-1,8-辛烷二异氰酸酯、1,4-亚环己基二异氰酸酯、异构的环己烷二亚甲基二异氰酸酯、1,4-亚苯基二异氰酸酯、2,4-和/或2,6-甲苯二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、2,4'-或4,4'-二苯基甲烷二异氰酸酯和/或三苯基甲烷-4,4',4"-三异氰酸酯是合适的。
也可以使用具有尿烷、脲、碳二亚胺、酰基脲、异氰脲酸酯、脲基甲酸酯、缩二脲、 二嗪三酮、异氰酸酯二聚体和/或亚氨基二嗪二酮结构的单体、二或三异氰酸酯的衍生物。
优选使用基于脂族和/或脂环族二或三异氰酸酯的多异氰酸酯。
组分A)的多异氰酸酯特别优选是二聚或低聚的脂族和/或脂环族二或三异氰酸酯。
非常特别优选基于HDI、1,8-二异氰酸根合-4-(异氰酸根合甲基)辛烷或其的混合物的异氰脲酸酯、异氰酸酯二聚体和/或亚氨基二嗪二酮。
每分子具有平均至少1.5个异氰酸酯反应性基团的所有多官能异氰酸酯反应性化合物本身可以用作组分B)。
在本发明上下文中，异氰酸酯反应性基团优选为羟基、氨基或硫基，特别优选羟基化合物。
合适的多官能异氰酸酯反应性化合物是例如聚酯多元醇、聚醚多元醇、聚碳酸酯多元醇、聚(甲基)丙烯酸酯多元醇和/或聚氨酯多元醇。
合适的聚酯多元醇是例如以已知方式由脂族、脂环族或芳族二或多羧酸或者它们的酐与具有> 2的OH官能度的多元醇得到的线型聚酯二醇或支化聚酯多元醇。
该二或多羧酸或酐的例子是丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、壬烷二羧酸、癸烷二羧酸、对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、四氢邻苯二甲酸、六氢邻苯二甲酸或苯偏三酸和酸酐，例如邻苯二甲酸酐、苯偏三酸酐或琥珀酸酐，或者其彼此的任何所希望的混合物。
该合适的醇的例子是乙二醇，二、三和四甘醇，1,2-丙二醇，二、三和四丙二醇，1,3-丙二醇，1,4-丁二醇，1,3-丁二醇，2,3-丁二醇，1,5-戊二醇，1,6-己二醇，2,2-二甲基-1,3-丙二醇，1,4-二羟基环己烷，1,4-二羟甲基环己烷，1,8-辛二醇，1,10-癸二醇，1,12-十二烷二醇，三羟甲基丙烷，甘油，或者其彼此的任何所希望的混合物。
聚酯多元醇也可以基于天然原料，例如蓖麻油。聚酯多元醇也可以基于内酯的均或共聚物，正如可以优选通过内酯或内酯混合物，例如丁内酯、ε-己内酯和/或甲基-ε-己内酯与羟基官能化合物例如上述类型的具有> 2的OH官能度的多元醇加成反应得到。
该聚酯多元醇优选具有400－8000 g/mol，特别优选500－4000 g/mol的数均摩尔质量。它们的OH官能度优选为1.5－3.5，特别优选1.8－3.0。
合适的聚碳酸酯多元醇可以本身已知的方式通过有机碳酸酯或光气与二醇或二醇混合物反应获得。
合适的有机碳酸酯是碳酸二甲酯、碳酸二乙酯和碳酸二苯酯。
合适的二醇或混合物包括本身与聚酯链段相关提及的并且具有> 2的OH官能度的多元醇，优选1,4-丁二醇、1,6-己二醇和/或3-甲基戊二醇，或者聚酯多元醇可以转化成聚碳酸酯多元醇。
该聚碳酸酯多元醇优选具有400－4000 g/mol，特别优选500－2000 g/mol的数均摩尔质量。这些多元醇的OH官能度优选为1.8－3.2，特别优选1.9－3.0。
合适的聚醚多元醇是环状醚与OH-或NH-官能引发剂分子的加聚物，该加聚物任选地具有嵌段结构。
合适的环状醚是例如氧化苯乙烯、环氧乙烷、环氧丙烷、四氢呋喃、氧化丁烷、表氯醇和其的任何希望的混合物。
可以使用与聚酯多元醇相关提及的并且具有> 2的OH官能度的多元醇和伯或仲胺以及氨基醇作为引发剂。
该聚醚多元醇优选具有250－10 000 g/mol，特别优选500－8500 g/mol并且非常特别优选600－4500 g/mol的数均摩尔质量。OH官能度优选为1.5－4.0，特别优选1.8－3.0。
另外，具有低分子量即具有小于500g/mol分子量并且具有短链，即含有2－20个碳原子的脂族、芳脂族、脂环族二、三或多官能醇也合适作为组分B)的成分，作为多官能异氰酸酯反应性化合物。
这些可以是例如乙二醇、二甘醇、三甘醇、四甘醇、二丙二醇、三丙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、2-乙基-2-丁基丙二醇、三甲基戊二醇、位置异构的二乙基辛烷二醇、1,3-丁二醇、环己二醇、1,4-环己烷二甲醇、1,6-己二醇、1,2-和1,4-环己二醇、氢化双酚A(2,2-双(4-羟基环己基丙烷)、2,2-二甲基-3-羟基丙酸(2,2-二甲基-3-羟基丙基)酯。合适的三醇的例子是三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷或甘油。合适的更高官能醇是二-三羟甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇或山梨醇。
优选的组分B)是具有1.5－6的OH官能度和200－18000g/mol数均摩尔质量，特别优选具有1.8－4.0的OH官能度和600－8000g/mol数均摩尔质量，并且非常特别优选具有1.9－3.1的OH官能度和650－4500g/mol数均摩尔质量的无规或嵌段共聚物形式的聚(环氧丙烷)、聚(环氧乙烷)和其的组合，和另外包含四氢呋喃、环氧丁烷或ε-己内酯作为单体单元的环氧丙烷和/或环氧乙烷的嵌段共聚物，和其的混合物。
在组分C)中，有化合物例如α,β-不饱和羧酸衍生物，例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、马来酸酯、富马酸酯、马来酰亚胺、丙烯酰胺，和此外乙烯基醚、丙烯基醚、烯丙基醚，和包含二环戊二烯基单元的化合物以及烯属不饱和化合物，例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、烯烃例如1-辛烯和/或1-癸烯、乙烯基酯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酰胺、甲基丙烯酸、丙烯酸。优选丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。
一般而言，丙烯酸或甲基丙烯酸的酯被称为丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。可使用的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的例子是丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸乙氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基乙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸己酯、甲基丙烯酸己酯、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸丁氧基乙酯、甲基丙烯酸丁氧基乙酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸月桂酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸对-氯苯酯、甲基丙烯酸对-氯苯酯、丙烯酸对-溴苯酯、甲基丙烯酸对-溴苯酯、2,4,6-三氯苯基丙烯酸酯、2,4,6-三氯苯基甲基丙烯酸酯、2,4,6-三溴苯基丙烯酸酯、2,4,6-三溴苯基甲基丙烯酸酯、五氯苯基丙烯酸酯、五氯苯基甲基丙烯酸酯、五溴苯基丙烯酸酯、五溴苯基甲基丙烯酸酯、五溴苄基丙烯酸酯、五溴苄基甲基丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基乙酯、甲基丙烯酸苯氧基乙酯、苯氧基乙氧基乙基丙烯酸酯、苯氧基乙氧基乙基甲基丙烯酸酯、丙烯酸-2-萘酯、甲基丙烯酸-2-萘酯、丙烯酸-1,4-双(2-硫萘基)-2-丁酯、甲基丙烯酸-1,4-双(2-硫萘基)-2-丁酯、丙烷-2,2-二基双[(2,6-二溴-4,1-亚苯基)氧基(2-{[3,3,3-三(4-氯苯基)丙酰基]氧基}丙烷-3,1-二基)氧基乙烷-2,1-二基]二丙烯酸酯、双酚A二丙烯酸酯、双酚A二甲基丙烯酸酯、四溴双酚A二丙烯酸酯、四溴双酚A二甲基丙烯酸酯和其的乙氧基化类似化合物、N-咔唑基丙烯酸酯，提及但可以选择使用丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。
当然，尿烷丙烯酸酯也可用作组分C)。尿烷丙烯酸酯被理解为是指具有至少一个丙烯酸酯基团，另外具有至少一个尿烷键的化合物。已知该化合物可以通过羟基官能丙烯酸酯与异氰酸酯官能化合物反应获得。
可用于此目的的异氰酸酯的例子是芳族、芳脂族、脂族和脂环族二、三或多异氰酸酯。也可以使用该二、三或多异氰酸酯的混合物。合适的二、三或多异氰酸酯的例子是亚丁基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)、1,8-二异氰酸根合-4-(异氰酸根合甲基)辛烷、2,2,4-和/或2,4,4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、异构的双(4,4'-异氰酸根合环己基)­甲烷和其的具有任何希望的异构体含量的混合物、异氰酸根合甲基-1,8-辛烷二异氰酸酯、1,4-亚环己基二异氰酸酯、异构的环己烷二亚甲基二异氰酸酯、1,4-亚苯基二异氰酸酯、2,4-和/或2,6-甲苯二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、2,4'-或4,4'-二苯基甲烷二异氰酸酯、1,5-亚萘基二异氰酸酯、三苯基甲烷-4,4',4"-三异氰酸酯和三(对-异氰酸根合苯基)硫代磷酸酯或者其的具有尿烷、脲、碳二亚胺、酰基脲、异氰脲酸酯、脲基甲酸酯、缩二脲、二嗪三酮、异氰酸酯二聚体或亚氨基二嗪二酮结构的衍生物，和其的混合物。优选芳族或芳脂族二、三或多异氰酸酯。
用于制备尿烷丙烯酸酯的合适的羟基官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯是例如这些化合物，例如2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯、聚环氧乙烷单(甲基)丙烯酸酯、聚环氧丙烷单(甲基)丙烯酸酯、聚环氧烷烃单(甲基)丙烯酸酯、聚(ε-己内酯)单(甲基)丙烯酸酯例如Tone® M100 (Dow, Schwalbach, 德国)、2-羟丙基(甲基)丙烯酸酯、4-羟丁基(甲基)丙烯酸酯、3-羟基-2,2-二甲基丙基(甲基)丙烯酸酯、羟丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羟基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯，多元醇例如三羟甲基丙烷、甘油、季戊四醇、二季戊四醇，乙氧基化、丙氧基化或烷氧基化的三羟甲基丙烷、甘油、季戊四醇、二季戊四醇或其的工业混合物的羟基官能的单、二或四丙烯酸酯。优选丙烯酸-2-羟乙酯、丙烯酸羟丙酯、丙烯酸-4-羟丁酯和聚(ε-己内酯)单(甲基)丙烯酸酯。另外，包含丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯基团的异氰酸酯反应性的低聚或聚合不饱和化合物单独或者与上述单体化合物组合是合适的。也可以使用本身已知的包含羟基并且具有20－300 mg KOH/g的OH含量的环氧(甲基)丙烯酸酯或者包含羟基并且具有20－300 mg KOH/g的OH含量的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯或者具有20－300 mg KOH/g的OH含量的丙烯酸酯化聚丙烯酸酯，和其彼此的混合物，和与包含羟基的不饱和聚酯的混合物，和与聚酯(甲基)丙烯酸酯的混合物，或者包含羟基的不饱和聚酯与聚酯(甲基)丙烯酸酯的混合物。优选包含羟基并且具有一定的羟基官能度的环氧丙烯酸酯。包含羟基的环氧(甲基)丙烯酸酯特别基于丙烯酸和/或甲基丙烯酸与环氧化物(缩水甘油基化合物)，与单体、低聚或聚合的双酚A、双酚F、己二醇和/或丁二醇或者其的乙氧基化和/或丙氧基化衍生物的反应产物。此外，优选可由已知的丙烯酸和/或甲基丙烯酸和缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯的反应得到的具有一定官能度的环氧丙烯酸酯。
具有乙烯基醚、丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基团，特别优选丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯基团的化合物优选用于组分C)。
具有大于1.55，特别优选1.58的折射率的上述类型的化合物优选用于C)。
在本发明的特别优选实施方案中，书面的单体组分C)包括一种或多种式(I)－(III)的化合物：
式(I)
式(II)
式(III)
其中
R 在每一情形下彼此独立地是可辐照固化基团，和
X 在每一情形下彼此独立地是R与C=O之间的单键，或者线型、支化或环状的任选含有杂原子的烃基，和/或任选被官能团取代的烃基。
R优选为乙烯基醚、丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯基团，特别优选丙烯酸酯基团。
原则上，基团R的单个碳键接的氢原子或者多个碳键接的氢原子也可被C1-C5-烷基代替，然而这并不优选。
基团X优选具有2－40个碳原子和一个或多个以醚键形式存在的氧原子。X可以是线型或支化或环状的或者被官能团取代。特别优选地，基团X在每一情形中是线型或支化的氧亚烷基或聚氧亚烷基。
优选的聚氧亚烷基具有至多10，优选至多8个相应氧亚烷基重复单元。
原则上，X可以具有相同或不同的氧亚烷基作为重复单元，一个该重复单元优选具有2－6，特别优选2－4个碳原子。特别优选的氧亚烷基单元是氧亚乙基并且在每一情形中是异构的氧亚丙基或氧亚丁基。
各自基团X中的重复单元可以全部或部分嵌段式或无规分布存在。
在本发明的优选实施方案中，X在每一情形中彼此独立地是选自以下的氧亚烷基单元：-CH2-CH2-O-、-CH2-CHCH3-O-、-CHCH3-CH2-O-、-(CH2-CH2-O)n-、-O(CH2-CHCH3-O)n-，其中n为2－7的整数，和-O-CH2-CH2-(O-(CH2)5-CO)m-，其中m为1－5的整数。
一种或多种光引发剂用作组分D)。这些通常是可通过光化辐照活化并且引发相应的可聚合基团聚合的引发剂。光引发剂是本身已知的商业出售的化合物，其中在单分子(类型I)和双分子(类型II)引发剂之间存在区别。此外，取决于化学性质，这些引发剂用于上述聚合的自由基、阴离子(或)阳离子(或混合)形式。
用于自由基光聚合的(类型I)体系是例如芳族酮化合物例如二苯甲酮与叔胺的组合、烷基二苯甲酮、4,4'-双(二甲基氨基)二苯甲酮(米蚩酮)、蒽酮和卤代二苯甲酮，或者所述类型的混合物。此外，合适的是(类型II) 引发剂例如安息香和其的衍生物，联苯酰缩酮，酰基氧化膦例如2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦，双酰基氧化膦，苯基乙醛酸酯，樟脑醌，α-氨基烷基苯酮，α,α-二烷氧基苯乙酮，1-[4-(苯基硫基)苯基]辛烷-1,2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)和α-羟基烷基苯酮。也可以使用描述于EP-A 0223587并且由烷基硼酸铵和一种或多种染料的混合物组成的光引发剂体系作为光引发剂。例如，三苯基己基硼酸四丁铵、三(3-氟苯基)己基硼酸四丁铵和三(3-氯-4-甲基苯基)己基硼酸四丁铵适合作为芳基硼酸铵。合适的染料是例如新亚甲基蓝、硫堇、碱性黄、Pinacynol Chlorid、若丹明6G、倍花青、乙基紫、Victoria Blue R、天青石蓝、喹哪啶红、结晶紫、亮绿、碱性橙G、达罗红(Darrow red)、焦宁Y、碱性红29、Pyrillium I、群青和亚甲基蓝、天蓝A (Cunningham等人, RadTech'98 North America UV/EB Conference Proceedings, Chicago, Apr. 19-22, 1998)。
用于阴离子聚合的光引发剂通常是(类型I)体系并且得自于第一行的过渡金属络合物。这里，铬盐例如反式-Cr(NH3)2(NCS)4 - (Kutal等人, Macromolecules 1991, 24, 6872)或二茂铁基化合物(Yamaguchi等人Macromolecules 2000, 33, 1152)是已知的。阴离子聚合的另一个可能在于使用染料例如结晶紫隐色腈(Kristallviolett Leukonitril)或孔雀石绿隐色腈，其可以通过光解分解来聚合氰基丙烯酸酯(Neckers等人Macromolecules 2000, 33, 7761)。然而，将生色团引入聚合物使得所得聚合物彻底着色。
用于阳离子聚合的光引发剂基本由三类组成：芳基重氮盐、盐(这里具体是：碘、锍和硒盐)和有机金属化合物。在氢给体存在和不存在下照射，苯基重氮盐可以产生引发聚合的阳离子。总体系的效率由用于重氮化合物的抗衡离子的性质决定。这里优选活性稍弱但相当昂贵的SbF6 -、AsF6 -或PF6 -。对于用于涂覆薄膜，这些化合物通常不十分合适，因为表面质量被曝光后放出的氮降低(针孔) (Li等人, Polymeric Materials Science and Engineering, 2001, 84, 139)。非常广泛使用并且还能以多种形式商购获得的是盐，尤其是锍和碘盐。这些化合物的光化学性质被长期研究。碘盐最初在激发后均裂分解并且由此产生自由基和自由基阳离子以通过脱氢稳定、释放质子并且然后引发阳离子聚合(Dektar等人，J. Org. Chem. 1990, 55, 639; J. Org. Chem., 1991, 56, 1838)。该机理也允许使用碘盐用于自由基光聚合。这里抗衡离子的选择非常重要；同样优选相当昂贵的SbF6 -、AsF6 -或PF6 -。另外，在该结构类型中，芳族物质的取代的选择十分自由并且基本由用于合成的合适起始结构嵌段的可获得性决定。锍盐是根据Norrish(II) (Crivello等人, Macromolecules, 2000, 33, 825)分解的化合物。在锍盐的情形中，抗衡离子的选择也具有关键的重要性，这本身在聚合物的固化速率中显著表现出来。最好的结果通常用SbF6 -盐获得。由于碘和锍盐的自吸收在<300nm，因此为了用近UV或短波可见光光聚合，这些化合物必须适宜地敏化。这通过使用更高度吸收的芳族化合物，例如蒽和衍生物(Gu等人, Am. Chem. Soc. Polymer Preprints, 2000, 41 (2), 1266)或吩噻嗪或其的衍生物(Hua等人, Macromolecules 2001, 34, 2488-2494)实现。
也可以有利地使用这些化合物的混合物。取决于用于固化的辐照源，光引发剂的类型和浓度必须以本领域技术人员已知的方式适配。与光聚合相关的上述配置对于本领域技术人员而言在下面提及的数量范围的组分和在每一情形下可用于选择的合成组分，特别是优选的合成组分内以常规实验的形式是简单易行的。
优选的光引发剂D)是四己基硼酸四丁铵、三苯基己基硼酸四丁铵、三(3-氟苯基)己基硼酸四丁铵和三(3-氯-4-甲基苯基)己基硼酸四丁铵与染料例如碱性橙G、亚甲基蓝、新亚甲基蓝、天蓝A、Pyrillium I、碱性藏红O、群青、倍花青、亮绿、结晶紫、乙基紫和硫堇的混合物。
另外，除了组分A)－C)之外，根据本发明的配制剂还可以使用自由基稳定剂、催化剂和另外的添加剂。
合适的自由基稳定剂E)是如"Methoden der organischen Chemie” (Houben-Weyl), 第4版, 卷XIV/1, 从第433页起, Georg Thieme Verlag, Stuttgart 1961中所述的引发剂和抗氧化剂。合适的物质类型是例如酚，例如2,6-二叔丁基-4-甲酚、甲酚、氢醌，苄醇例如二苯基甲醇，任选地还有醌，例如2,5-二叔丁基醌，任选地还有芳胺例如二异丙胺或吩噻嗪。优选的自由基稳定剂是2,6-二叔丁基-4-甲酚、吩噻嗪和二苯基甲醇。
此外，可以使用一种或多种催化剂F)。这些优选催化氨基甲酸酯形成。胺和金属锡、锌、铁、铋、钼、钴、钙、镁和锆的金属化合物优选适用于该目的。特别优选辛酸锡、辛酸锌、二月桂酸二丁基锡、二羧酸二甲基锡、乙酰丙酮化铁(III)、氯化铁(II)、氯化锌、氢氧化四烷基铵、碱金属氢氧化物、碱金属醇盐、具有10－20个碳原子和任选的OH侧基的长链脂肪酸的碱金属盐、辛酸铅或叔胺，例如三乙胺、三丁胺、二甲基苄胺、二环己基甲胺、二甲基环己胺、N,N,N',N'-四甲基二氨基二乙醚、双(二甲基氨基丙基)脲、N-甲基-或N-乙基吗啉、N,N'-二吗啉基二乙基醚(DMDEE)、N-环己基吗啉、N,N,N',N'-四甲基亚乙基二胺、N,N,N',N'-四甲基丁二胺、N,N,N',N'-四甲基己-1,6-二胺、五甲基二亚乙基三胺、二甲基哌嗪、N-二甲基氨基乙基哌啶、1,2-二甲基咪唑、N-羟丙基咪唑、1-氮杂双环[2.2.0]辛烷、1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷(DABCO)或烷醇胺化合物，例如三乙醇胺、三异丙醇胺、N-甲基-和N-乙基二乙醇胺、二甲基氨基乙醇、2-(N,N-二甲基氨基乙氧基)­乙醇或N-三(二烷基氨基烷基)六氢三嗪，例如N,N',N-三(二甲基氨基丙基)-s-六氢三嗪、1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷、二氮杂双环壬烷、二氮杂双环十一烷、1,1,3,3-四甲基胍、1,3,4,6,7,8-六氢-1-甲基-2H-嘧啶并(1,2-a)嘧啶。
特别优选的催化剂是二月桂酸二丁基锡、二羧酸二甲基锡、乙酰丙酮化铁(III)、1,4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷、二氮杂双环壬烷、二氮杂双环十一烷、1,1,3,3-四甲基胍、1,3,4,6,7,8-六氢-1-甲基-2H-嘧啶并(1,2-a)嘧啶。
例如，溶剂、增塑剂、流平剂(Verlaufsmittel)、润湿剂、消泡剂或粘合促进剂，以及聚氨酯、热塑性聚合物、低聚物，具有另外官能团例如缩醛、环氧化物、氧杂环丁烷、唑啉、二氧戊环和/或亲水基团例如盐和/或聚环氧乙烷的化合物可以存在作为另外的助剂和添加剂G)。
优选使用与本发明必需的配制剂具有良好相容性的容易挥发的溶剂，例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮作为溶剂。
优选使用具有良好溶解性能、低挥发性和高沸点的液体作为增塑剂。
同时还可以有利地使用一类的多种添加剂。当然，也可以有利地使用多种类型的多种添加剂。
除了组分I)和II)，根据本发明的介质可以在光聚合物层II)上具有一个或多个覆盖层III)，以保护它们免于污物和环境影响。塑料膜或膜复合体系，以及清漆或平面玻璃板可用于该目的。
与载体层中使用的材料类似的膜材料优选用作覆盖层III)，这些的厚度通常为5－200 µm，优选8－125 µm，特别优选10－50 µm。
优选具有尽可能光滑的表面的覆盖层III)。根据DIN EN ISO 4288 “Geometrische Produktspezifikation (GPS) – Oberflächenbeschaffenheit…”"Geometrical Product Specification (GPS) – Surface Texture…(几何产品规格(GPS)-表面质地…)",试验条件R3z前后测量的粗糙度被认为是量度。优选的粗糙度为小于或等于2 µm，优选小于或等于0.5 µm。
如果覆盖层III)对用于全息曝光过程的光源光学透明，即表现出通常大于80%的高透射率，则即使在全息曝光前也可以将它们施加于根据本发明的介质，并且即使在全息曝光期间也可以留在介质中。如果它们不透明，则通常不必使用覆盖层III)来进行全息曝光。然后在全息曝光后，根据本发明的介质装有非透明的覆盖层。
用于测量透明度的方法在上面描述。
根据本发明的介质的优选实施方案是其中光聚合物层(II)特别地以工业生产方法，例如使用层压、粘合或另外接合技术的辊对辊方法迁移到其它表面。
所述实施方案特征在于伴随着施加极少的力，可以在整个表面上将由塑料膜或膜复合体系组成的覆盖层III)从光聚合物层II)取下。载体膜I)与（一个或多个）光聚合物层II)之间的粘合粘结稍微强于（一个或多个）光聚合物层II)与覆盖层III)之间，使得当所述覆盖层III)取下时（一个或多个）光聚合物层II)完全并且没有破坏地保留在载体膜I)上。
光聚合物层的迁移以单个步骤如下进行：首先，将覆盖层III)从介质上取下。此后，可以将具有开放的光聚合物层的该复合物迁移到任何其它表面。特别地，该膜复合物首先特点在于光聚合物与载体膜I)之间尽可能高的粘合性以确保稳定的膜复合物，但其次在于尽可能低的粘合性以使得该载体膜可以在层压或粘合工艺后取下并且光聚合物没有破坏地留在新表面上。
本发明另外涉及制备适用于记录全息图的根据本发明的介质的方法，其中将一个或多个具有上述组成的光聚合物层II)放在载体I)上，施加并且固化。
组分A)和B)以彼此通常为0.5－2.0，优选0.95－1.50，特别优选0.97－1.33的OH/NCO比例使用。
根据本发明的方法优选以这样的方式进行：使得本发明必需的聚氨酯组合物的合成组分，除了组分A)，彼此均匀混合并且在施加于基材或模具中之前立即将组分A)混合。
本领域技术人员从混合技术本身已知的所有方法和设备例如搅拌釜或者动态和静态混合机可用于混合。然而，优选没有死区或仅有小的死区的设备。此外，优选其中在非常短时间内进行混合并且待混合的两种组分非常彻底混合的方法。特别地，动态混合机，尤其是其中组分在混合机中才彼此接触的那些适用于该目的。
该过程期间的温度为0－100℃，优选10－80℃，特别优选20－60℃，非常特别优选20－40℃。
如果必要，各个组分或者全部混合物也可以在例如1毫巴的降低压力进行脱气。优选特别地在加入组分A)后脱气，以防止在得到的介质中通过剩余气体形成泡沫。
在组分A)混合前，任选地，混合物可以作为储存稳定的中间体存储经历几个月。
混入组分A)后得到清澈的液体制剂，取决于组成，其在室温下在几秒直至几小时内固化。
优选调节合成组分的比例和类型以及反应活性，使得在组分A)混合后在室温下在几分钟至1小时内进行固化。在优选实施方案中，在混合后通过将配制剂加热至30－180℃，优选40－120℃，特别优选50－100℃的温度加快固化。
与固化性能相关的上述配置对于本领域技术人员而言在下面提及的数量范围的组分和在每一情形下可用于选择的合成组分，特别是优选的合成组分内以常规实验的形式是简单易行的。
在所有组分完全混合后即刻，本发明必需的聚氨酯组合物在25℃具有通常10－100 000 mPas，优选100－20 000 mPas，特别优选200－15 000 mPas，尤其优选500－10 000 mPas的粘度，使得它们即使以无溶剂形式也具有非常好的加工性能。在与合适溶剂的溶液中，可以设置在25℃低于10 000 mPas，优选低于2000 mPas，特别优选低于500 mPas的粘度。
数量为15g并且具有0.004重量%催化剂含量的上述类型聚氨酯组合物在25℃在少于4小时内固化，或者在0.02%的催化剂含量情形下在25℃在少于10分钟内固化证明是有利的。
本领域技术人员已知的所有相应常规方法，例如特别是刀涂、流延、印刷、丝网印刷、喷射或喷墨印刷适合施加到载体I)上。
在整个可见范围，包括近UV范围(总波长范围300-800nm)中用于光学应用的全息图可以在根据本发明的介质上通过相应的曝光方法制备。可见的全息图包括可以通过本领域技术人员已知的方法记录的所有全息图，这些方法尤其包括在线(Gabor)全息图、离轴全息图、全孔径迁移全息图、白光透射全息图(“彩虹全息图”)、Denisyuk全息图、离轴反射全息图、边缘照明全息图和全息立体图；优选反射全息图、Denisyuk全息图和透射全息图。
这些全息图适用于个人化数据，例如安全文件中的肖像、生物统计和其它机器可读的信息以及数字数据，或者通常用于呈现用于广告的图像或图像结构、安全标签、商标保护、商标牌号、标签、设计要素、装饰、插图、多旅程票(Sammelkart)、图像等和可以呈现数字数据，尤其还与上述产品组合的图像。全息图像可以给予三维图像的印象但它们也可以呈现图像序列、短胶片或许多不同的物体，这取决于角度和其被照明的光源(包括移动光源)等。由于这些变化的设计可能性，因此全息图，特别是体全息图是用于上述应用的有吸引力的技术解决方案。
制造光学元件，例如眼镜、镜子、平面转向镜、过滤器、扩散屏、衍射元件(例如全息光学元件)、光导、大灯转向装置(例如全息衍射光栅)、投影屏和/或光掩模/板同样也是可能的。通常，取决于全息图如何照明和全息图的尺寸，这些光学元件表现出频率选择性。
实施例 :
提及以下实施例用于解释根据本发明的光聚合物，但不意在理解为限制。除非另外说明，所有所述的百分比基于重量百分比。
起始材料 :
尿烷丙烯酸酯 ( 组分 C) 的制备
最初将0.1 g 2,6-二叔丁基-4-甲酚、0.05 g二月桂酸二丁基锡(Desmorapid Z, Bayer MaterialScience AG, Leverkusen, 德国)、和213.07 g 三(对-异氰酸根合苯基)硫代磷酸酯于乙酸乙酯中的27%浓度溶液(Desmodur® RFE, Bayer MaterialScience AG, Leverkusen, 德国的产品)引入500ml圆底烧瓶并且加热至60℃。随后，滴加42.37g丙烯酸2-羟乙酯并且将混合物进一步保持在60℃直到异氰酸酯含量降到低于0.1%。此后，进行冷却并且在真空中将乙酸乙酯全部除去。得到作为半结晶固体的产品。
多元醇组分 1 的制备 :
最初将0.18 g 辛酸锡、374.81 g ε-己内酯和374.81 g二官能聚四氢呋喃聚醚多元醇(当量500 g/mol OH)引入1升烧瓶并且加热至120℃，并且保持在该温度直到固含量(非挥发性组分的比例)为99.5重量%或更高。此后，进行冷却并且得到作为蜡状固体的产品。
多元醇组分 2 的制备 :
最初将0.25 g 辛酸锡、374.51 g ε-己内酯和141.51 g Baysilon OFOH 502 6% (羟基烷基官能的(α,ω-甲醇)聚二甲基硅氧烷)引入1升烧瓶并且加热至150℃，并且保持在该温度直到固含量(非挥发性组分的比例)为99.5重量%或更高。此后，进行冷却并且得到作为蜡状固体的产品。
测量全息配制剂的 DE 和Δn的方法 :
借助于根据图1的测量配置测试制得的介质的全息性能DE和Δn，如下：
图 1: 用于书写反射全息图的在λ= 633 nm (He-Ne激光)下全息介质测试仪的几何结构：M = 镜面，S = 快门，SF = 空间过滤器，CL = 准直仪镜片，λ/2 = λ/2板，PBS = 极化敏感光束分离器(Strahlteiler)，D = 检测器，I = 可变光圈，α = 21.8°和β = 41.8°是用于相干光束的入射角，其在样品(介质)外面测量。
借助于空间过滤器(SF)与准直仪镜片(CL)一起将He-Ne激光上的光束(发射波长633nm)转化成平行的均匀光束。通过可变光圈(I)确立信号和参考光束的最终横截面。可变光圈开口的直径为0.4cm。极化相关的光束分离器(PSB)将激光束分离成两个相干的等极化光束。通过λ/2板，将参考光束的功率调节为0.5mW并且将信号光束的功率调节为0.65mW。取出样品，使用半导体检测器(D)测量功率。参考光束的入射角(α)为21.8°，并且信号光束的入射角(β)为41.8°。在样品(介质)的位置，两个交叠光束的干涉场产生亮带和暗带光栅，其与入射在样品上的两个光束(反射全息图)的角度二等分线垂直。介质中的带间距Λ，也已知为光栅周期为~ 225 nm (介质的折射率假设为~ 1.504)。
以下列方式将全息图写入介质：
· 将两个快门(S)打开曝光时间t。
· 此后关闭快门(S)，允许介质5分钟时间用于扩散仍然未聚合的书写单体。
现在以下列方式阅读书写的全息图。将信号光束的快门保持关闭。打开参考光束的快门。参考光束的可变光圈关闭至<1mm的直径。由此实现对于介质的所有旋转角度(Ω)，光束总是完全处于先前书写的全息图中。在计算机控制下，转盘覆盖Ω = 0°至Ω = 20°的角度，角度步幅为0.05°。在达到的每一角度Ω，借助于相应的检测器D测量在零阶透射的光束功率，并且借助于检测器D测量在一阶衍射的光束功率。在达到的每一角度Ω获得作为以下的商数的衍射效率η:
η =
PD是衍射光束在检测器中的功率，和PT是透射光束在检测器中的功率。
借助于上述方法，测量布拉格(Bragg)曲线(其描述了作为书写的全息图的旋转角度Ω的函数的衍射效率η)并且将其储存在计算机中。另外，还相对于旋转角度Ω绘制在零阶透射的强度并且储存在计算机中。
测量全息图的最大衍射效率(DE = ηmax)，即其的峰值。为了该目的，可能必须改变衍射光束的检测器的位置以测量其的最大值。
现在借助于耦合波理论(参见H. Kogelnik, The Bell System Technical Journal, 卷48, 1969年11月, 第9期, 第2909页 – 第2947页)由测量的布拉格曲线和作为角度函数的透射强度变化确定光聚合物层的折射率对比度Δn和厚度d。方法在下面描述：
根据Kogelnik，以下对于反射全息图的布拉格曲线η(Ω)满足：
其中:
Φ是光栅厚度，χ是失调参数和ψ是书写的折射率光栅的倾斜角。α’和β’对应于在全息图书写期间，但在介质中测量的角度α和β。Δθ是在介质中测量的角度失调，即与角度α’的偏差。ΔΩ是在介质外测量的角度失调，即与角度α的偏差。n是光聚合物的平均折射率并且设置为1.504。λ是真空中激光的波长。
然后对于χ = 0，即ΔΩ= 0，给出最大衍射效率(DE =η max):
图2中示出了相对于旋转圆心角Ω-α迁移绘制的衍射效率的测量数据、理论布拉格曲线和透射强度。由于光聚合期间的几何形状收缩和平均折射率变化，因此在其下测量DE的角度不同于α，x轴以该迁移为中心。迁移通常为0°－2°。
由于DE已知，因此仅由光聚合物的厚度d确定根据Kogelnik的理论布拉格曲线的形状。对于一定的厚度d，随后通过DE校正Δn以使得DE的测量值和理论总是一致。现在修正d直到理论布拉格曲线的第一次级最小值的角度位置符合透射强度的第一次级最大值的角度位置，并且另外理论布拉格曲线的半高全宽(FWHM)和透射强度一致。
由于当重建时借助于Ω扫描的其中反射全息图相伴旋转的方向，但用于衍射光的检测器只能检测有限的角度范围，因此宽全息图(小d)的布拉格曲线在Ω扫描中不能全部检测，只能用合适的检测器定位检测中心区域。与布拉格曲线互补的透射强度的形状因此另外用于修正层厚d。
图 2: 根据Kogelnik的布拉格曲线η(虚线)、测量的衍射效率(实心圆)和透射功率(黑实线)相对于角度失调ΔΩ的图。由于光聚合期间的几何形状收缩和平均折射率变化，因此在其下测量DE的角度不同于α，x轴以该迁移为中心。迁移通常为0°－2°。
为了配制，可能在不同介质上重复该过程几次不同的曝光时间t，以测量在全息图书写期间DE达到饱和值的入射激光束的平均能量剂量。如下由以角度α和β为座标的两个部分光束的功率(Pα = 0.50 mW和Pβ= 0.67 mW)、曝光时间t和可变光圈的直径(0.4 cm)获得平均能量剂量E:
修正部分光束的功率以使得在使用的角度α和β下在介质中实现相同的功率密度。
测量接触角和总表面张力的方法 :
用其的表面张力(极性和非极性份额)已知的极性和非极性测量液进行接触角测量。根据Owens和Wendt (D.K. Owens和R.C. Wendt, J. Appl. Polym. Sci. 13 (1969), 第1741-1747页)，可由其计算待测量的固态表面张力的非极性和极性份额。
实施例 1 :
例举的异氰酸酯反应性组分 ( 根据本发明的部分 B 和 C) 的制备 :
在50℃将9.05g如上所述制备的多元醇组分I与3.75g得自实施例1的尿烷丙烯酸酯和0.525g N-乙基吡咯烷酮混合，使得获得清澈溶液。
例举的异氰酸酯反应性组分 ( 部分 B 和 C) （包括催化剂 (F) ）的制备 :
在50℃将9.05g如上所述制备的多元醇组分2与3.75g得自实施例1的尿烷丙烯酸酯、0.003 g Fomrez UL 28 (氨基甲酸酯化催化剂，得自Momentive Performance Chemicals, Wilton, CT, USA的商购产品)和0.525g N-乙基吡咯烷酮混合，使得获得清澈溶液。
得自接触角测量的结果:
。
在上述实验中，对于异氰酸酯反应性组分(部分B和C)和包括催化剂(F)的异氰酸酯反应性组分(部分B和C)得到的总表面张力值小于4个选择的基材载体(全息记录介质的部分I)各自的表面张力。因此，符合良好涂层表面质量的先决条件。这得到在上面描述的上下文中可用于整个可见范围并且可用作用于呈现高对比度全息图的光聚合物的透明膜。
实施例 2
制备用于测量性能参数DE和Δn的基于具有光引发剂的光聚合物配制剂的全息介质:
用于光聚合物的起始材料:
聚合物基质：组分A: Desmodur® XP 2599，Bayer MaterialScience AG, Leverkusen, DE的实验产品，己烷二异氰酸酯在具有2000 g/mol数均摩尔质量的二官能聚环氧丙烷上的完全脲基甲酸酯，NCO 含量: 5.6 – 6.4%。组分B: 具有4000 g/mol数均摩尔质量的二官能环氧丙烷，Bayer MaterialScience AG, Leverkusen, 德国的商业产品。
书写单体(组分C): 25重量%份额。
光引发剂(组分D): 两者均溶于N-乙基吡咯烷酮中的新亚甲基蓝0.10%与CGI 909 (Ciba Inc., Basel, 瑞士的实验产品) 1%，N-乙基吡咯烷酮份额3.5%
使用的催化剂(组分F): Fomrez® UL28 0.05%，氨基甲酸酯化催化剂，二甲基双[(1-氧代新癸基)氧基]锡烷，得自Momentive Performance Chemicals, Wilton, CT, USA的商购产品(作为于N-乙基吡咯烷酮中的10%浓度溶液使用)
流平剂: Byk® 310 (得自BYK-Chemie GmbH, Wesel的硅酮基表面添加剂，于二甲苯中25%浓度溶液) 0.3%
基材: 用PE CHX 173背面层压(Bischoff & Klein, 德国)的Makrofol DE 1-1 CC 175 µm (Bayer MaterialScience AG, Leverkusen, 德国)
顶部层压膜: PE 40 µm光滑(Bischoff & Klein, 德国)
为了制备全息介质，任选地在60℃在黑暗中将组分B)、组分C)(其可以已经预先溶于组分B))和任选的添加剂溶于异氰酸酯反应性组分B)。此后，加入异氰酸酯组分A)并且在Speedmixer中再次进行混合1分钟。随后，加入组分C)的溶液并且在Speedmixer中再次进行混合1分钟。在涂覆工具(刮刀)中将得到的混合物施加于Makrofol基材。刀涂方法特征在于：刮刀间隙60µm，带速度0.7m/min。在干燥机中在80－100℃进行PU配制剂的固化10－15min。
通过测量组合物的接触角，测得23.7 mN/m的总表面张力。
对于在实施例2中得到的全息介质，对于平均能量剂量E = 18 mJ/cm2获得0.012的Δn。衍射效率为98%并且层厚d为55 µm。

Claims (12)

1.适用于记录全息图的介质，包含：
I) 作为载体的对可见光谱范围内的光透明并且能够任选地在一侧或两侧被涂覆的透明的材料或材料复合物的层，其中“对可见光谱范围内的光透明”意指在400－780nm波长范围内透射率大于85%，和
II) 施加到载体I)上并且基于聚氨酯组合物的至少一个任选多层的光聚合物层，该聚氨酯组合物包含：
A) 多异氰酸酯组分，
B) 异氰酸酯反应性组分，
C) 具有在光化辐照作用下伴随着聚合与烯属不饱和化合物反应的基团并且本身不含NCO基团的化合物，
D) 光引发剂
E) 自由基稳定剂
F) 任选的催化剂
G) 任选的助剂和添加剂，
特征在于组分C)中的聚氨酯组合物包含一种或多种式(I)－(III)的化合物：
式(I)
式(II)
式(III)
其中
R 在每一情形下彼此独立地是可辐照固化基团，和
X 在每一情形下彼此独立地是R与C=O之间的单键，或者任选含有杂原子和/或任选被官能团取代的线型、支化或环状烃基。
2.根据权利要求1的介质，特征在于载体I)作为材料基于聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和/或三乙酸纤维素或玻璃。
3.根据权利要求1或2的介质，特征在于载体I)作为材料或材料复合物基于双重或三重膜。
4.根据权利要求1－3任一项的介质，特征在于通过平均光学延迟表示，载体I)具有小于1000 nm的双折射。
5.根据权利要求1－4任一项的介质，特征在于载体I)在一侧或两侧经整理，使得其防粘、抗静电、疏水、亲水、耐刮擦、反射或抗反射。
6.根据权利要求1－5任一项的介质，特征在于基于施加于层II)的所有光聚合物层，光聚合物层II)具有不超过200 µm的总层厚。
7.根据权利要求1－5任一项的介质，特征在于基于施加于层II)的所有光聚合物层，光聚合物层II)具有5-120 µm的总层厚。
8.根据权利要求1－6任一项的介质，特征在于光聚合物层II)的聚氨酯组合物具有小于载体I)，包括可能的涂层，的总表面张力。
9.根据权利要求1－8任一项的介质，特征在于它们在光聚合物层II)上包含一个或多个覆盖层III)。
10.制备根据权利要求1－9任一项的适用于记录全息图的介质的方法，其中将一个或多个任选多层的光聚合物层II)施加到载体I)上并且固化。
11.根据权利要求1－9任一项的介质用作光学元件、图像或者用于图像显示或投影的用途。
12.用于记录全息图的方法，其中借助于激光束使根据权利要求1－9任一项的介质曝光。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IL200722A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Photopolymer compositions for optical elements and visual displays
CA2738835A1 (en) * 2008-10-01 2010-04-08 Bayer Materialscience Ag Prepolymer-based polyurethane formulations for producing holographic media
EP2218743A1 (de) * 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Prepolymerbasierte Polyurethanformulierungen zur Herstellung holographischer Filme
EP2218744A1 (de) 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Methode zur Herstellung von holografischen Photopolymeren auf Polymerfolien
EP2218742A1 (de) * 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Photopolymerzusammensetzungen als verdruckbare Formulierungen
US8808946B2 (en) * 2009-11-03 2014-08-19 Bayer Materialscience Ag Urethane acrylate having a high refractive index and reduced double bond density
WO2011054791A1 (de) * 2009-11-03 2011-05-12 Bayer Materialscience Ag Verfahren zur herstellung eines holographischen films
ATE548730T1 (de) * 2009-11-03 2012-03-15 Bayer Materialscience Ag Photopolymerformulierungen mit einstellbarem mechanischem modul guv
KR101782182B1 (ko) * 2009-11-03 2017-09-26 코베스트로 도이칠란드 아게 상이한 기록 공단량체를 갖는 광중합체 제제
JP5861383B2 (ja) * 2010-10-28 2016-02-16 三菱化学株式会社 ホログラム記録媒体用組成物
JP6497850B2 (ja) 2013-05-08 2019-04-10 コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ Ａｇ ハロー防止層を有するホログラフィック記録媒体およびその製造
US9703194B2 (en) 2013-10-30 2017-07-11 Covestro Deutschland Ag Composite comprising a substrate and a photopolymer film
TW201906882A (zh) * 2017-05-09 2019-02-16 德商科思創德意志股份有限公司 含有用於全像照射的光聚合物層及高度耐性漆層之薄膜結構
TW201908135A (zh) * 2017-05-09 2019-03-01 德商科思創德意志股份有限公司 含有全像照射之光聚合物層與高抗性漆層之全像介質
KR101979784B1 (ko) * 2017-07-05 2019-05-20 전남대학교산학협력단 Uv 경화용 코팅제 및 그 제조방법
CN107599661B (zh) * 2017-08-30 2019-04-12 华中科技大学 一种可直接印刷的图像记录材料、制备方法
CN108047456B (zh) * 2017-09-01 2021-01-15 深圳市深大极光科技有限公司 Bn纳米片的制备方法、光致聚合物涂料及薄膜材料和制备方法
KR102309427B1 (ko) 2018-09-27 2021-10-05 주식회사 엘지화학 홀로그램 매체
US11718580B2 (en) 2019-05-08 2023-08-08 Meta Platforms Technologies, Llc Fluorene derivatized monomers and polymers for volume Bragg gratings
EP3772671A1 (de) 2019-08-06 2021-02-10 Covestro Deutschland AG Schichtaufbau für die belichtung von hologrammen
US11780819B2 (en) 2019-11-27 2023-10-10 Meta Platforms Technologies, Llc Aromatic substituted alkane-core monomers and polymers thereof for volume Bragg gratings
US11879024B1 (en) 2020-07-14 2024-01-23 Meta Platforms Technologies, Llc Soft mold formulations for surface relief grating fabrication with imprinting lithography

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1564834A (zh) * 2001-08-07 2005-01-12 英法塞技术公司 用于快速大规模生产全息记录制品的方法和组合物

Family Cites Families (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4942112A (en) * 1988-01-15 1990-07-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable compositions and elements for refractive index imaging
US4963471A (en) * 1989-07-14 1990-10-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Holographic photopolymer compositions and elements for refractive index imaging
JPH06138807A (ja) * 1992-10-30 1994-05-20 Dainippon Printing Co Ltd ホログラムの複製方法および複製装置
JPH06214117A (ja) * 1992-08-04 1994-08-05 Nippondenso Co Ltd ホログラム及びその貼着方法
JP3604700B2 (ja) * 1995-10-06 2004-12-22 ポラロイド コーポレイション ホログラフィ媒体およびプロセス
US5932045A (en) * 1997-06-02 1999-08-03 Lucent Technologies Inc. Method for fabricating a multilayer optical article
US6482551B1 (en) * 1998-03-24 2002-11-19 Inphase Technologies Optical article and process for forming article
US7393623B2 (en) * 2001-06-06 2008-07-01 Spectra Systems Corporation Incorporation of markings in optical media
US20030044690A1 (en) * 2001-06-27 2003-03-06 Imation Corp. Holographic photopolymer data recording media, method of manufacture and method of holographically reading, recording and storing data
US7112359B2 (en) * 2001-08-22 2006-09-26 Inphase Technologies, Inc. Method and apparatus for multilayer optical articles
JP2005527867A (ja) * 2002-05-29 2005-09-15 インフェイズ テクノロジーズ インコーポレイテッド アルミニウム塩化合物と不斉アクリレート化合物を含むホログラフィックデータ記録媒体
US20050058911A1 (en) * 2003-09-17 2005-03-17 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Holographic recording medium, holographic recording method and holographic information medium
JP3978729B2 (ja) * 2003-09-26 2007-09-19 康生 富田 ホログラム記録材料組成物及びホログラム記録媒体
JP2005189256A (ja) * 2003-12-24 2005-07-14 Mitsui Chemicals Inc 体積ホログラム記録用感光性樹脂組成物及びこれを用いた体積ホログラム
US20070172742A1 (en) * 2004-02-13 2007-07-26 Kentarou Yachi Volume hologram recording material and volume hologram recording medium
EP1746469A1 (en) * 2004-05-10 2007-01-24 Konica Minolta Medical & Graphic Inc. Holographic recording medium, holographic recording method, and holographic information medium
DE102004030019A1 (de) * 2004-06-22 2006-01-19 Xetos Ag Photopolymerisierbare Zusammensetzung
JP2006235386A (ja) * 2005-02-25 2006-09-07 Fuji Photo Film Co Ltd ホログラム記録材料およびこれを用いた光記録媒体
JP4675197B2 (ja) * 2005-09-20 2011-04-20 富士フイルム株式会社 溶媒非含有の光記録用組成物及びその製造方法、並びに光記録媒体
US7173744B1 (en) * 2005-12-02 2007-02-06 Inphase Technologies, Inc. Article comprising holographic medium between substrates having environmental barrier seal and process for preparing same
US20070206250A1 (en) * 2006-02-27 2007-09-06 Fujifilm Corporation Holographic memory medium, recorder for the same, and recording method for the same
JP2007257802A (ja) * 2006-03-24 2007-10-04 Fujifilm Corp 光記録方法、光記録装置及び光記録媒体
JP4917400B2 (ja) * 2006-03-29 2012-04-18 富士フイルム株式会社 ホログラフィック記録用組成物及び光記録媒体、並びに光記録方法
US20100039685A1 (en) * 2006-09-05 2010-02-18 Mitsubishi Chemical Corporation Volume hologram optical recording medium, composition for forming volume hologram recording layer, volume hologram recording material, and volume hologram optical recording method
US8815472B2 (en) * 2006-10-25 2014-08-26 Mitsubishi Chemical Corporation Volume hologram optical recording medium, composition for volume hologram recording layer formation, and volume hologram recording material
JP5141043B2 (ja) 2007-02-27 2013-02-13 株式会社日立製作所 画像表示装置および画像表示方法
GB2475177B (en) * 2007-02-28 2011-07-20 Dainippon Printing Co Ltd Method of producing volume hologram laminate
WO2008125199A1 (en) * 2007-04-11 2008-10-23 Bayer Materialscience Ag Aromatic urethane acrylates having a high refractive index
WO2008125201A1 (en) * 2007-04-11 2008-10-23 Bayer Materialscience Ag Radiation-crosslinking and thermally crosslinking pu systems comprising iminooxadiazinedione
CN101657483A (zh) * 2007-04-11 2010-02-24 拜尔材料科学股份公司 基于聚(ε-己内酯)聚酯多元醇的辐射交联和热交联PU系统
US8454974B2 (en) * 2007-04-13 2013-06-04 Hvidovre Hospital Adaptive mutations allow establishment of JFH1-based cell culture systems for hepatitis C virus genotype 4A
JP2009295233A (ja) * 2008-06-05 2009-12-17 Tdk Corp 光記録媒体及び光記録媒体の製造方法
US8034455B2 (en) * 2008-06-06 2011-10-11 Novasolar Holdings Limited Coating composition, substrates coated therewith and methods of making and using same
IL200997A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Special polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media
IL200995A0 (en) * 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media
CA2738835A1 (en) * 2008-10-01 2010-04-08 Bayer Materialscience Ag Prepolymer-based polyurethane formulations for producing holographic media
EP2218743A1 (de) * 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Prepolymerbasierte Polyurethanformulierungen zur Herstellung holographischer Filme
EP2218744A1 (de) * 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Methode zur Herstellung von holografischen Photopolymeren auf Polymerfolien
EP2218742A1 (de) * 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Photopolymerzusammensetzungen als verdruckbare Formulierungen
KR101782182B1 (ko) * 2009-11-03 2017-09-26 코베스트로 도이칠란드 아게 상이한 기록 공단량체를 갖는 광중합체 제제
US8808946B2 (en) * 2009-11-03 2014-08-19 Bayer Materialscience Ag Urethane acrylate having a high refractive index and reduced double bond density
ES2511215T3 (es) * 2012-01-05 2014-10-22 Bayer Intellectual Property Gmbh Estructura en capas con una capa protectora y una capa de fotopolímero expuesta a radiación

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1564834A (zh) * 2001-08-07 2005-01-12 英法塞技术公司 用于快速大规模生产全息记录制品的方法和组合物

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