CN102138199A - 狭缝阀门的控制 - Google Patents

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Abstract

在此所揭露的实施例一般涉及利用一狭缝阀门以密封一处理腔室的方法。门一开始由针对处理腔室的开口下方的一位置上升至一升高位置。门接着扩大直到门上的O形环刚好与密封表面接触为止。接着，门再次扩大以使O形环压抵密封表面。门的扩大是通过将一气体流入门的内部容积而达成。通过控制门内所建立的压力，则门的扩大速度受到控制，以确保门温和地与密封表面接触，并接着压抵密封表面。因此，可防止门以过大的力量接触密封表面，而过大力量的接触会使处理腔室摇动，并产生可能会污染工艺的不期望微粒。

Description

狭缝阀门的控制
技术领域
本发明的实施例一般涉及狭缝阀门，以及利用狭缝阀门以密封一腔室的方法。
背景技术
在半导体、平板显示器、光伏/太阳能板以及其它基板处理系统中，通常将真空腔室(即，加载锁定、传送腔室、处理腔室)排置为群集式、直列式(in-line)或群集式/直列式的组合，以处理基板。这些系统可以采单一基板或批式基板的方式来处理基板。在处理过程中，基板会于腔室之间传送，而该些腔室内必须维持或建立真空。为了允许进入腔室内部，并能够进行真空操作，通常在腔室壁穿设有一形状为狭缝的开口，而用以容纳待处理的基板。
在二真空腔室之间的各界面，可存在有一狭缝阀组件。狭缝阀门为可移动地致动，以开启或关闭狭缝阀通道。当开启狭缝阀通道时，允许一或多个基板透过该狭缝而传送于二真空腔室之间。当狭缝阀门将狭缝阀通道关闭时，基板无法通过狭缝阀通道而于二真空腔室之间传送，且二真空腔室为彼此隔离。举例来说，真空腔室的一者为处理腔室，而其需与另一腔室(例如其它处理腔室或传送腔室)隔离。
随着用于制造平板显示器的基板尺寸增大，则该些基板的制造设备也会变大。因此，隔离真空腔室(或加载锁定腔室)与另一真空腔室的门或闸门也变得较大，或者更特定说变得较长，因为二腔室之间的狭缝开口必须变得较长，以容纳通过该狭缝开口的基板的大宽度。
因此，需要一种能够对用于处理大面积基板的腔室进行密封的狭缝阀门。
发明内容
在此所揭露的实施例一般涉及利用一狭缝阀门以密封一处理腔室的方法。门一开始由针对处理腔室的开口下方的一位置上升至一升高位置。门接着以约12mm/sec～约18mm/sec的第一速度而扩大(expand)，直到门上的密封构件刚好与密封表面接触为止。接着，门再次以约0.5mm/sec～约0.7mm/sec的第二速度扩大，以使密封构件压抵密封表面。门的扩大是通过将一气体流入门的内部容积而达成。通过控制门内所建立的压力，则门的扩大速度受到控制，以确保门温和地与密封表面接触，并接着快速压抵密封表面。因此，可防止门以过大的力量接触密封表面，而过大力量的接触会使处理腔室摇动，并产生可能会污染工艺的不期望微粒。
在一实施例中，揭露一种密封一腔室的方法，该腔室耦接至一狭缝阀组件。腔室具有一开口，且开口的尺寸允许一基板通过其间。该方法包括：将一狭缝阀组件主体内的一狭缝阀门由一第一位置朝一第一方向而垂直致动至一第二位置；将狭缝阀门的至少一第一部分朝一方向(实质垂直于上述垂直致动的方向)以一第一时间周期(period of time)、一第一距离以及一第一速度而线性致动；以及接着将狭缝阀门的该第一部分以一第二时间周期、一第二距离以及一第二速度而线性致动。狭缝阀门具有与其耦接的一或多个密封构件。狭缝阀组件主体具有由壁所界定出的一内部容积，以及延伸穿过该狭缝阀组件主体的一开口，而该开口与腔室的开口对准。第二距离小于该第一距离，第二速度小于第一速度，且第二时间周期约为第一时间周期的四分之一。
在另一实施例中，揭露一种密封一腔室的方法，该腔室具有一开口，且开口的尺寸允许一基板通过其间。该方法包括：将一气体流入一狭缝阀门的一内部，以使狭缝阀门的内部加压至一第一压力，狭缝阀门设置在一狭缝阀组件主体中，且该狭缝阀组件主体与腔室耦接，而狭缝阀组件主体具有穿设其中之一开口，且该开口与腔室的开口对准，该狭缝阀门具有围住一内部容积的壁。该方法更包括：使狭缝阀门扩大，直到耦接至狭缝阀门的一或多个密封构件接触该些壁的一内侧表面，且狭缝阀门与该些壁的该内侧表面相隔一第一距离为止。该方法亦包括：将该气体流入狭缝阀门的内部，以使狭缝阀门的内部加压至一第二压力，该第二压力大于第一压力。该方法又包括：使一或多个密封构件压缩于狭缝阀门与该些壁的该内侧表面之间，藉此，狭缝阀门与该些壁的该内侧表面相隔一第二距离，且第二距离小于第一距离。
在另一实施例中，揭露一种狭缝阀门组件。该组件包括：一狭缝阀腔室主体，具有至少一开口，且该至少一开口的尺寸允许一基板通过其间，该狭缝阀腔室主体具有由壁所界定出的一第一内部容积。该组件亦包括：一狭缝阀门，设置在狭缝阀腔室主体内，而狭缝阀门为可扩大的(expandable)，并具有一第二容积。该组件亦包括：一或多个密封构件，与狭缝阀门耦接；一或多个弹簧，设置在第二内部容积中；以及一或多个支撑轴杆，与狭缝阀门耦接。致动器与一或多个轴杆耦接，并能够使轴杆以及位于狭缝阀腔室主体内的狭缝阀门上升及下降，该致动器能够使狭缝阀门由一第一位置(位于至少一开口下方)移动至位于第一位置上方的一第二位置。该组件又包括：一控制箱，与致动器、狭缝阀门以及狭缝阀腔室主体耦接。
附图说明
为让本发明的上述特征更明显易懂，可配合参考实施例说明，其部分乃绘示如附图式。须注意的是，虽然所附图式揭露本发明特定实施例，但其并非用以限定本发明的精神与范围，任何熟习此技艺者，当可作各种的更动与润饰而得等效实施例。
图1，绘示耦接至狭缝阀组件的二腔室的概要图式。
图2A，绘示根据本发明的一实施例的狭缝阀组件200的等角图。
图2B，绘示由底部观看图2A的控制箱204的等角图。
图3A，绘示狭缝阀门组件300的概要剖面视图，其中狭缝阀门306是位于下降位置。
图3B，绘示图3A的狭缝阀门组件300的概要剖面视图，其中狭缝阀门306是位于升高位置。
图3C，绘示图3A的狭缝阀门组件300的概要剖面视图，其中狭缝阀门306是位于关闭位置。
图4A，绘示根据另一实施例的狭缝阀门组件400，其中狭缝阀门402是处于扩大之前的升高位置。
图4B，显示图4A的狭缝阀门组件400，其中狭缝阀门402是扩大至一关闭位置。
图5，绘示根据另一实施例的狭缝阀组件500的概要剖面视图。
图6，绘示关闭狭缝阀门的顺序的图表。
为便于了解，图式中相同的组件符号表示相同的组件。某一实施例采用的组件当不需特别详述而可应用到其它实施例。
具体实施方式
在此所揭露的实施例一般涉及利用一狭缝阀门以密封一处理腔室的方法。门一开始由针对处理腔室的开口下方的一位置上升至一升高位置。门接着以约12mm/sec～约18mm/sec的第一速度而扩大(expand)，直到门上的密封构件刚好与密封表面接触为止。接着，门再次以约0.5mm/sec～约0.7mm/sec的第二速度扩大，以使密封构件压抵密封表面。门的扩大是通过将一气体流入门的内部容积而达成。通过控制门内所建立的压力，则门的扩大速度受到控制，以确保门温和地与密封表面接触，并接着快速压抵密封表面。因此，可防止门以过大的力量接触密封表面，而过大力量的接触会使处理腔室摇动，并产生可能会污染工艺的不期望微粒。
本发明的下方描述有关于购自加州圣克拉拉的应用材料公司(Applied Materials，Inc.)的子公司美商业凯科技公司(AKT America，Inc.)的狭缝阀组件以及腔室。应了解本发明亦可使用其它狭缝阀组件及其它腔室，包括由其它制造商所贩卖者。
图1为耦接至狭缝阀组件的二腔室的概要图式。如图1所示，二腔室102、104的各者具有穿设其中的开口108、110，而该些开口108、110是允许基板进入及离开腔室102、104。该些腔室102、104可以通过狭缝阀组件106而耦接在一起，而狭缝阀组件106密封该些腔室102、104，以使腔室102、104彼此为环境隔离(environmentally isolate)。狭缝阀组件106具有一或多个门112、114，而该些门112、114密封该些开口108、110。
图2A为根据本发明的一实施例的狭缝阀组件200的等角视图。组件200包括一上方主体，该上方主体具有与腔室接合的密封面212。可设置O形环210以确保良好的真空密封。O形环210围绕主体202中的开口214，而开口214的尺寸允许基板通过其中。
组件200由控制箱204所控制。图2B为由图2A的底部所视的控制箱204的等角视图。控制箱204具有多个连接器206、208、218、220，以允许控制箱204耦接至其它部件。
如下将讨论者，狭缝阀门由一下降位置(lowered position)上升，并接着扩大以压抵组件的密封面214的内侧表面。为了使狭缝阀门上升，将垂直汽缸耦接至狭缝阀门及控制箱204。垂直汽缸可以位于壳盖(cover)216内部。壳盖216将主体202与控制箱204分隔开。在处理过程中，主体202可达到超过150℃的温度，而此种温度会使得控制箱204的电气部件失效。因此，壳盖216提供控制箱204的隔热。为了提供额外的隔热，控制箱204可通过一或多个间隔件222而与壳盖216隔开。在一实施例中，间隔件222可包括陶瓷。
连接器206允许氮气气源耦接至组件200。通过将氮气流入狭缝阀门的内部而使狭缝阀门扩大。连接器218耦接至一阀，当狭缝阀门开启时，该阀允许氮气由狭缝阀门逸散，而氮气被允许离开狭缝阀门，使得狭缝阀门达到大气压力。真空泵可耦接至连接器208，以抽空狭缝阀门的内部，并使扩大的狭缝阀门缩回。洁净干燥空气(clean dry air)可以透过连接器220而提供至致动器。洁净干燥空气供应至使垂直汽缸移动的致动器。
图3A为狭缝阀门组件300的概要剖面视图，其中狭缝阀门306位于一下降位置。图3B为图3A的狭缝阀门组件300的概要剖面视图，其中狭缝阀门306位于一升高位置。图3C为图3A的狭缝阀门组件300的概要剖面视图，其中狭缝阀门306位于一关闭位置。狭缝阀门306设置在组件主体302中。主体302具有穿设其中的二开口304A、304B，该些开口304A、304B允许将基板由一腔室传递至另一腔室。
应了解到图中所示及所描述的狭缝阀门306由一下降位置移动至一升高位置，然可预期该狭缝阀门可用于狭缝阀门由狭缝阀开口上方的升高位置而致动至狭缝阀开口前方的下降位置。
狭缝阀门306通过垂直轴杆308而由一下降位置上升至一升高位置。垂直轴杆308由控制箱310所控制，而垂直轴杆308设置在壳盖312内。当垂直轴杆308往上移动时，狭缝阀门306跟着往上移动。另外，当垂直轴杆308往上移动时，壳盖312则压缩。
一旦位于升高位置，气体则可导入狭缝阀门306的内部容积332内。在一实施例中，气体包括氮气。可将足够的气体导入狭缝阀门306的内部容积332中，以使狭缝阀门306扩大，藉此，O形环314、316刚好与主体302的内侧表面318、320接触。狭缝阀门306扩大以允许狭缝阀门306的第一侧328朝向主体302的内侧表面318移动。狭缝阀门306的扩大亦使得狭缝阀门306的第二侧330朝向主体302的内侧表面320(内侧表面318的相对侧)移动。
当狭缝阀门306的第二侧330移动时，控制箱310与垂直轴杆308亦随着第二侧330而横向移动。然而，壳盖312则在连接点322A-D枢转。在一实施例中，于横向移动的过程中，垂直轴杆308与控制箱310可横向移位，而并未发生垂直移位，或是仅稍微垂直移位。
可设置有一或多个侦测器324以侦测O形环314、316最初接触内侧表面318、320的时间。侦测器324可将讯号传送至控制箱310，而控制箱310不但可控制轴杆308的垂直移动，亦可控制进入狭缝阀门306内的气体的流动。可以基于来自侦测器324的反馈而控制气体的流动。之后，可以改变进入狭缝阀门306内部的气体的流动速率，以使O形环314、316压抵内侧表面318、320，并提供真空密封。
因此，为了关闭狭缝阀门306，会进行两个步骤的过程。在第一步骤中，气体以第一流动速率而导引进入狭缝阀门306的内部容积332中，以允许狭缝阀门306扩大一第一距离，藉此，狭缝阀门306的O形环314、316首先与狭缝阀门主体302的内侧表面318、320接触。接着，气体以第二流动速率而导引进入狭缝阀门306的内部容积332中，以使狭缝阀门306内的压力升高，因而使O形环314、316压抵主体302的内侧表面318、320，藉以提供一有效密封。上述的压抵作动包括使狭缝阀门306扩大第二距离，而第二距离小于第一距离。
通过扩大狭缝阀门306直到O形环314、316刚好接触主体302的内侧表面318、320为止，则可防止狭缝阀门306以过大的力量接触主体302的内侧表面318、320。若狭缝阀门306以过大的力量扩大并接触主体302的内侧表面318、320，则狭缝阀组件300以及与其耦接的任何腔室可能会摇动，并可能产生微粒而污染腔室中的基板，或是所产生的微粒会通过狭缝阀组件300。
在一实施例中，第一步骤进行约1秒～约2秒，并且使狭缝阀门306扩大约15mm～约20mm。在另一实施例中，第二步骤进行约1秒～约2秒，并且使狭缝阀门306扩大约1mm～约1.25mm。
为了开启狭缝阀门306，狭缝阀门306的内部容积332则通气(vent)至大气。然而，狭缝阀门306并未完全缩回。因此，可通过耦接至狭缝阀门306的真空泵而对狭缝阀门306的内部容积332进行抽空(evacuate)。通过在狭缝阀门306的内部容积332中抽吸真空，则狭缝阀门306可缩回至其原始位置。一旦完全缩回，狭缝阀门306可接着下降。
在一实施例中，于狭缝阀门306已上升之后，狭缝阀门306、垂直轴杆308及控制箱310可以横向移位。横向移位仅会伴随有狭缝阀门306些微或无扩大，藉此，O形环314刚好接触主体302的内侧表面320。之后，可通过将气体导入狭缝阀门306的内部容积332而使狭缝阀门306扩大，藉此，O形环316刚好接触主体302的内侧表面318。接着，将更多气体导入狭缝阀门306的内部容积332中，以使O形环314、316压抵主体302的内侧表面318、320。为了开启狭缝阀门，则内部容积332通气至大气并接着抽空。之后，狭缝阀门306下降。
在另一实施例中，狭缝阀门306在上升之前处于真空。当狭缝阀门306处于下降位置时，狭缝阀门306可具有抽空的内部容积322。接着，当狭缝阀门上升，狭缝阀门306的内部容积332可通气至大气一段时间，而该时间足以允许O形环314、316接触狭缝阀组件主体302的内侧表面318、320。接着，狭缝阀门306的内部容积332可通气至大气，以允许O形环314、316压抵狭缝阀门组件300的内侧，因而提供真空密封。狭缝阀门306可基于压缩构件(例如弹簧)而扩大，而该压缩构件是允许由一压缩位置扩大至一扩大位置，藉以将狭缝阀门306推出或扩大。为了开启狭缝阀门306，狭缝阀门306的内部容积332可被抽空及/或压缩构件可被压缩。
图4A显示根据本发明的另一实施例的狭缝阀门组件400，而狭缝阀门402处于扩大之前的升高位置。图4B显示图4A的狭缝阀门组件400，其中狭缝阀门402是扩大至一关闭位置。为了协助狭缝阀门402的扩大，可在狭缝阀门402内的一容积406中放置一或多个弹簧404。可将气体导入容积406中以压缩弹簧404，并使O形环压抵狭缝阀门主体内侧的密封表面。容积406耦接至真空泵，以对容积406进行抽空，并允许弹簧404扩大回至其正常位置。应了解图中示出弹簧404并描述，但亦可以使用能够抵抗压缩的其它物件。
应了解到图中所示及所描述的狭缝阀门402由一下降位置移动至一升高位置，然可预期该狭缝阀门可用于狭缝阀门由狭缝阀开口上方的升高位置而致动至狭缝阀开口前方的下降位置。
图5为根据本发明的另一实施例的狭缝阀门500的概要剖面视图。狭缝阀门500包括二门表面502、504，以及二O形环506、508，而当狭缝阀门500扩大时，O形环506、508将会关闭狭缝阀门500中的开口并密封腔室。狭缝阀门500的内部容积510可填充有处理气体以使狭缝阀门500扩大。可设置风箱518以密封该容积510，并允许容积510中的压力增加。容积可以透过数个阀512、514、516(视需要而开启或关闭)而耦接至大气、气体源以及真空。
另可设置一额外风箱520。风箱520可耦接至狭缝阀门500的一侧或两侧。在一实施例中，风箱520耦接至接触件(contact)522。风箱520与接触件522在狭缝阀门收缩时作为一减震器(shock absorber)，以防止狭缝阀门500摇动并产生可能污染基板的微粒。在狭缝阀门500收缩的过程中，接触件522温和地接触狭缝阀门的内侧表面，接着，风箱520随着狭缝阀门500的压缩而温和地压缩。应了解到上方描述针对风箱520，但亦可使用其它抗压缩组件，例如弹簧。
当关闭狭缝阀门500时，可将气体导入内部容积510中以增加容积510内的压力。气体可采一顺序导入，以确保狭缝阀门500在关闭时不会产生微粒。图6为显示根据本发明的实施例而关闭狭缝阀门的顺序的图表。在狭缝阀门500关闭的过程中，阀512、516开启至大气，且关闭真空。在第一时间周期(time period)，狭缝阀门500上升。在图6中，以1秒为例而作为狭缝阀门500上升的时间周期。接着，狭缝阀门500扩大，而在扩大的第一步骤中，狭缝阀门500可扩大直到O形环506、508接触狭缝阀门主体的壁。
在图6中，第一扩大显示为线A，其使狭缝阀门500扩大约18mm。第一扩大通过开启阀524而允许气体以高速(利用控制器以控制气流)进入内部容积510。在实例1中，扩大是进行约0.1秒，在实例2中，扩大进行约0.5秒。之后，O形环506、508压抵(压缩抵靠)狭缝阀门主体。上述的压缩作动通过关闭阀524并开启阀526而使内部容积510中的压力增加。气体接着流入内部容积以缓慢加压内部容积510至较高压力。在实例1中，O形环506、508的压缩进行约1.9秒。在实例2中，O形环的压缩进行约1.5秒。在实例1或2中，压缩步骤的时间长于初始扩大步骤的时间。另外，压缩步骤的持续时间长于狭缝阀门500上升的时间。应了解在实例1及2中所使用的时间周期仅作为范例，而非用于限制本发明。亦可使用技术人员所判定的其它时间周期。举例来说，时间周期可以为较长，但是基板的生产量必须做一折衷。压缩时间与初始扩大时间的比率可以为约3∶1～约19∶1。
通过两个步骤的过程来扩大狭缝阀门，则可降低狭缝阀组件或与其耦接的腔室的摇动。两个步骤的过程可允许腔室的密封不会产生微粒，因而污染处理中的基板或是稍后进行处理的基板。
虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟习此技艺者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视权利要求所界定者为准。

Claims (15)

1.一种密封腔室的方法，该腔室耦接至狭缝阀组件，且该腔室具有开口，该开口的尺寸是允许基板通过其间，该方法包括：
将狭缝阀组件主体内的狭缝阀门由第一位置朝第一方向而致动至第二位置，该狭缝阀门具有与其耦接的一或多个O形环，该狭缝阀组件主体具有由壁所界定出的内部容积，该狭缝阀组件主体具有延伸穿过该狭缝阀组件主体的开口，且该开口是与该腔室的该开口对准；
将该狭缝阀门的至少一第一部分朝第二方向以第一时间周期(period of time)、第一距离以及介于约12mm/sec～约18mm/sec的第一速度致动，其中该第二方向实质垂直于该第一方向；
侦测该一或多个O形环接触该些壁的内侧表面的时间；以及
响应(in response to)该侦测步骤而将该狭缝阀门的该第一部分朝该第二方向以第二时间周期、第二距离以及第二速度致动，并使该第二距离小于该第一距离，该第二速度为约0.5mm/sec～约0.7mm/sec，且该第二时间周期小于该第一时间周期。
2.如权利要求1所述的方法，更包括在朝该第二方向致动的过程中，增加该狭缝阀门的该内部容积。
3.如权利要求1所述的方法，更包括侦测该O形环最初与该些壁的一内侧表面接触的时间，且其中在该第二时间周期的过程中，该一或多个O形环压抵该些壁的一内侧表面。
4.如权利要求1所述的方法，其中该朝该第二方向致动的步骤更包括使一气体流入该狭缝阀门的一内部中，并使该狭缝阀门扩大(expand)。
5.如权利要求1所述的方法，其中该朝该第二方向致动的步骤更包括使该狭缝阀门的该第一部分朝该第二方向延伸，并同时使该狭缝阀门的一第二部分朝一第三方向移动一实质等于该第一距离的距离，其中该第三方向与该第二方向为反向。
6.如权利要求5所述的方法，其中该狭缝阀门耦接至一支撑轴杆以及一控制面板(control panel)，其中随着该第二部分朝该第三方向移动，该支撑轴杆以及该控制面板一同朝该第三方向移动。
7.如权利要求5所述的方法，更包括：
以该第二部分接触该些壁的一内侧表面，其中该第二部分是耦接至一或多个第二O形环，并且该方法更包括侦测该一或多个第二O形环接触该内侧表面的时间；以及
在朝该第二方向致动的过程中，使该一或多个第二O形环压抵该内侧表面。
8.如权利要求1所述的方法，更包括：
在朝该第二方向致动的同时，压缩该狭缝阀门内的一或多个弹簧；以及
使一气体流入该狭缝阀门的一内部容积中。
9.一种密封腔室的方法，该腔室具有开口，且该开口的尺寸是允许基板通过其间，该方法包括：
将气体流入狭缝阀门的内部，以使该狭缝阀门的该内部加压至第一压力，该狭缝阀门设置在狭缝阀组件主体中，且该狭缝阀组件主体是与该腔室耦接，该狭缝阀组件主体具有穿设其中的开口，且该开口是与该腔室的该开口对准，该狭缝阀门具有围住内部容积的壁；
使该狭缝阀门扩大，直到耦接至该狭缝阀门的一或多个O形环接触该些壁的内侧表面，且该狭缝阀门与该些壁的该内侧表面相隔第一距离为止；
将该气体流入该狭缝阀门的该内部，以使该狭缝阀门的该内部加压至第二压力；以及
使该一或多个O形环压缩于该狭缝阀门与该些壁的该内侧表面之间，藉此，该狭缝阀门与该些壁的该内侧表面相隔第二距离，且该第二距离小于该第一距离。
10.如权利要求9所述的方法，更包括：
侦测该一或多个O形环接触该些壁的该内侧表面的时间；以及
响应该侦测步骤，而控制进入该狭缝阀门的该内部的气体流动。
11.如权利要求9所述的方法，更包括使该狭缝阀门由位于该开口下方的位置上升。
12.如权利要求9所述的方法，更包括在将该气体流入该狭缝阀门的该内部的同时，压缩该狭缝阀门内的一或多个弹簧。
13.如权利要求9所述的方法，更包括在将该气体流入该狭缝阀门的该内部的同时，压缩一或多个弹簧，且该一或多个弹簧设置在该狭缝阀门内。
14.一种狭缝阀门组件，包括：
狭缝阀腔室主体，具有至少一开口，且该至少一开口的尺寸允许基板通过其间，该狭缝阀腔室主体具有由壁所界定出的第一内部容积；
狭缝阀门，设置在该狭缝阀腔室主体内，而该狭缝阀门为可扩大的(expandable)，并具有第二容积；
一或多个O形环，与该狭缝阀门耦接；
一或多个弹簧，设置在该第二内部容积中；
一或多个支撑轴杆，与该狭缝阀门耦接；
致动器，与该一或多个支撑轴杆耦接，并能够使该支撑轴杆以及位于该狭缝阀腔室主体内的该狭缝阀门上升及下降，该致动器能够使该狭缝阀门由第一位置移动至位于该第一位置上方的第二位置；以及
控制箱，与该致动器、该狭缝阀门以及该狭缝阀腔室主体耦接。
15.如权利要求14所述的组件，更包括侦测器，该侦测器能够侦测该一或多个O形环接触该些壁的内侧表面的时间。
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