CN102084272B - 微加工部件的制作方法 - Google Patents

微加工部件的制作方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102084272B
CN102084272B CN200980108705.2A CN200980108705A CN102084272B CN 102084272 B CN102084272 B CN 102084272B CN 200980108705 A CN200980108705 A CN 200980108705A CN 102084272 B CN102084272 B CN 102084272B
Authority
CN
China
Prior art keywords
stamper
shape
optical element
resist layer
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN200980108705.2A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
CN102084272A (zh
Inventor
远藤惣铭
林部和弥
清水浩一郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Publication of CN102084272A publication Critical patent/CN102084272A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102084272B publication Critical patent/CN102084272B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/118Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
CN200980108705.2A 2008-12-26 2009-12-17 微加工部件的制作方法 Expired - Fee Related CN102084272B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008-335102 2008-12-26
JP2008335102A JP4596072B2 (ja) 2008-12-26 2008-12-26 微細加工体の製造方法、およびエッチング装置
PCT/JP2009/071520 WO2010074190A1 (ja) 2008-12-26 2009-12-17 微細加工体、およびその製造方法、ならびにエッチング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102084272A CN102084272A (zh) 2011-06-01
CN102084272B true CN102084272B (zh) 2014-06-18

Family

ID=42287795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200980108705.2A Expired - Fee Related CN102084272B (zh) 2008-12-26 2009-12-17 微加工部件的制作方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20110249338A1 (enExample)
JP (1) JP4596072B2 (enExample)
KR (1) KR20110109809A (enExample)
CN (1) CN102084272B (enExample)
RU (1) RU2457518C2 (enExample)
TW (1) TWI425507B (enExample)
WO (1) WO2010074190A1 (enExample)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5723274B2 (ja) * 2009-07-03 2015-05-27 Hoya株式会社 機能傾斜型無機レジスト、機能傾斜型無機レジスト付き基板、機能傾斜型無機レジスト付き円筒基材、機能傾斜型無機レジストの形成方法及び微細パターン形成方法
JP2011002853A (ja) * 2010-09-21 2011-01-06 Sony Corp 微細加工体の製造方法、およびエッチング装置
CN103155725B (zh) * 2010-10-22 2016-07-06 索尼公司 图案基板、图案基板的制造方法、信息输入装置和显示装置
TWI577523B (zh) 2011-06-17 2017-04-11 三菱麗陽股份有限公司 表面具有凹凸結構的模具、光學物品、其製造方法、面發光體用透明基材及面發光體
US20150192702A1 (en) 2012-11-16 2015-07-09 Nalux Co., Ltd. Mold, optical element and method for manufacturing the same
JP6107131B2 (ja) * 2012-12-27 2017-04-05 デクセリアルズ株式会社 ナノ構造体及びその作製方法
JP5633617B1 (ja) * 2013-09-27 2014-12-03 大日本印刷株式会社 反射防止物品、画像表示装置、反射防止物品の製造用金型、反射防止物品の製造方法及び反射防止物品の製造用金型の製造方法
JP5848320B2 (ja) 2013-12-20 2016-01-27 デクセリアルズ株式会社 円筒基材、原盤、及び原盤の製造方法
JP6074560B2 (ja) * 2014-03-21 2017-02-08 ナルックス株式会社 光学素子の製造方法及び光学素子用成型型の製造方法
JP2015197560A (ja) * 2014-03-31 2015-11-09 ソニー株式会社 光学素子、原盤およびその製造方法、ならびに撮像装置
JP6818479B2 (ja) 2016-09-16 2021-01-20 デクセリアルズ株式会社 原盤の製造方法
JP7261685B2 (ja) * 2019-07-30 2023-04-20 住友化学株式会社 構造体の製造方法
JP7091438B2 (ja) * 2020-12-25 2022-06-27 デクセリアルズ株式会社 原盤、および転写物

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004268331A (ja) * 2003-03-06 2004-09-30 Minolta Co Ltd 光学素子用金型およびその金型製造方法
CN1573366A (zh) * 2003-06-04 2005-02-02 阿尔卑斯电气株式会社 曲面微细结构的形成方法
CN1956829A (zh) * 2004-03-25 2007-05-02 三洋电机株式会社 曲面模具的制造方法及使用该模具的光学元件的制造方法
CN101048676A (zh) * 2004-10-27 2007-10-03 株式会社尼康 光学元件制造方法、光学元件、尼普科夫盘、共焦光学系统以及三维测量装置
CN101320104A (zh) * 2007-06-06 2008-12-10 索尼株式会社 光学元件及制造方法、形成光学元件的复制基板及制造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11121901A (ja) * 1997-08-11 1999-04-30 Mitsui Chem Inc 回路基板の製造方法
JP2000121802A (ja) * 1998-10-21 2000-04-28 Alps Electric Co Ltd 反射防止フィルムおよびその製造方法ならびに画像表示装置
JP2001023972A (ja) * 1999-07-10 2001-01-26 Nihon Ceratec Co Ltd プラズマ処理装置
EP1679532A1 (en) * 2003-10-29 2006-07-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical element having antireflection structure, and method for producing optical element having antireflection structure
KR100898470B1 (ko) * 2004-12-03 2009-05-21 샤프 가부시키가이샤 반사 방지재, 광학 소자, 및 표시 장치 및 스탬퍼의 제조 방법 및 스탬퍼를 이용한 반사 방지재의 제조 방법
JP4539657B2 (ja) * 2007-01-18 2010-09-08 ソニー株式会社 反射防止用光学素子
JP2008226340A (ja) * 2007-03-12 2008-09-25 Victor Co Of Japan Ltd 光ディスク用原盤の製造方法及び光ディスク
JP2008256838A (ja) * 2007-04-03 2008-10-23 Canon Inc レチクル及びレチクルの製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004268331A (ja) * 2003-03-06 2004-09-30 Minolta Co Ltd 光学素子用金型およびその金型製造方法
CN1573366A (zh) * 2003-06-04 2005-02-02 阿尔卑斯电气株式会社 曲面微细结构的形成方法
CN1956829A (zh) * 2004-03-25 2007-05-02 三洋电机株式会社 曲面模具的制造方法及使用该模具的光学元件的制造方法
CN101048676A (zh) * 2004-10-27 2007-10-03 株式会社尼康 光学元件制造方法、光学元件、尼普科夫盘、共焦光学系统以及三维测量装置
CN101320104A (zh) * 2007-06-06 2008-12-10 索尼株式会社 光学元件及制造方法、形成光学元件的复制基板及制造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP特開2001-23972A 2001.01.26
JP特開2004-268331A 2004.09.30

Also Published As

Publication number Publication date
RU2457518C2 (ru) 2012-07-27
WO2010074190A1 (ja) 2010-07-01
US20110249338A1 (en) 2011-10-13
RU2010135583A (ru) 2012-02-27
CN102084272A (zh) 2011-06-01
TW201040959A (en) 2010-11-16
TWI425507B (zh) 2014-02-01
JP2010156843A (ja) 2010-07-15
JP4596072B2 (ja) 2010-12-08
KR20110109809A (ko) 2011-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102084272B (zh) 微加工部件的制作方法
JP5257066B2 (ja) 光学素子、表示装置、反射防止機能付き光学部品、および原盤
RU2523764C2 (ru) Антиотражающее оптическое устройство и способ изготовления эталонной формы
JP5439783B2 (ja) 光学素子、反射防止機能付き光学部品、および原盤
TWI387782B (zh) 光學元件及其製造方法,形成光學元件之複製基板及其製造方法
CN102004272B (zh) 光学器件及其制造方法和母板的制造方法
JP2011002853A (ja) 微細加工体の製造方法、およびエッチング装置
JP2016105203A (ja) 光学素子およびその製造方法、ならびに原盤の製造方法
JP2015004993A (ja) 光学素子およびその製造方法、ならびに原盤の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20140618

Termination date: 20151217

EXPY Termination of patent right or utility model