CN102081265A - 液晶基板间隔物的涂布方法以及液晶基板的制作方法 - Google Patents
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Abstract
一种液晶基板间隔物的涂布方法以及液晶基板的制作方法,所述液晶基板间隔物的涂布方法包括:提供一玻璃基板,所述玻璃基板的表面具有一导电覆盖层,所述玻璃基板包括一显示区域和一可滴下区域;清洁所述导电覆盖层的表面;使间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面。本发明的优点在于,在涂布配向膜之前,先将间隔物液滴直接涂布在已清洁过的导电覆盖层表面,能够因涂布表面的洁净度,从而保证间隔物液滴展开并抑制其滑动。
Description
技术领域
本发明涉及液晶显示器制造领域,尤其涉及液晶基板间隔物的涂布方法以及液晶基板的制作方法。
背景技术
现有技术中,制作液晶显示器面板需要依次实施涂布配向膜,涂布间隔物,上框胶,上下封组,切割裂片,磨边导角以及液晶注入封口等工艺。涂布间隔物(Spacer)是于涂布配向膜(聚酰亚胺PI)工艺实施完毕之后进行,因配向膜液体已涂布于基板上,无法再以常压等离子体(Atmospheric Pressure Plasma)和准分子紫外光(Excimer-UV)的方法进行表面改质以清洁基板的表面。由于表面不够清洁,因此间隔物的液滴不容易由球形摊开成扁平状,而球形的间隔物液滴比较容易滑动,若间隔物液滴滑动到可滴下的区域外,则会造成基板重工与报废的问题。
附图1所示为现有技术的涂布方法在配向膜表面形成间隔物之后的结构示意图,包括液晶基板10、导电覆盖层11、配向膜12以及间隔物13,所述液晶基板10进一步包括显示区域101和可滴下区域102,其中显示区域101是三种色阻(红R、绿G、蓝B),用来实现液晶显示器的显示功能;而可滴下区域102则是黑区(Black Matrix),不具有显示作用。通过在导电覆盖层11表面涂布配向膜12,再在配向膜12表面滴下间隔物13,可以获得上述结构。在配向膜12涂布的过程中,容易在涂布完毕的表面上形成沾污,而由于配向膜12的质地柔软,因此不适合再进行常压等离子体和准分子紫外光等方法的清洗。然而,如果配向膜12的表面不够清洁,则间隔物12不容易在配向膜12的表面由球形液滴摊开成扁平状,而是基本保持滴下时的近似球状,如附图1所示。结果,容易造成球状的间隔物13容易在配向膜12的表面滑动。更详细来说,为了不影响到显示区域101的正常显示效果,此滴下工艺中要求间隔物13必须要滴落至可滴下区域102,然而可滴下区域102通常只有31um左右的宽度,一旦间隔物13在配向膜12的表面滑动,将很容易造成间隔物13滑动至显示区域101,从而影响到最终产品的显示效果。
发明内容
为解决以上反映的诸多技术问题,本发明提供一种液晶基板间隔物的涂布方法以及液晶基板的制作方法,能够使间隔物液滴在滴下的位置充分展开而抑制其滑动。
为了解决上述问题,本发明提供了一种液晶基板间隔物的涂布方法,包括:提供一玻璃基板,所述玻璃基板的表面具有一导电覆盖层,所述玻璃基板包括一显示区域和一可滴下区域;清洁所述导电覆盖层的表面;以及使所述间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面。
作为可选的技术方案,在使所述间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面之后,进一步包括如下步骤:静置分布有所述间隔物液滴的所述玻璃基板,使所述间隔物液滴在所述导电覆盖层表面摊开成扁平状。
作为可选的技术方案,在所述间隔物液滴摊开成扁平状之后,进一步包括如下步骤:检测所述显示区域的所述导电覆盖层表面是否覆盖有所述间隔物液滴;以及如果有所述间隔物液滴,则清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴。
作为可选的技术方案,在清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴之后,进一步包括如下步骤:重新实施清洁所述导电覆盖层表面以及覆盖所述间隔物液滴的步骤。
作为可选的技术方案,所述清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴,包括:采用毛刷清洗工艺清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴。
本发明进一步提供了一种液晶基板的制作方法,包括:提供一玻璃基板,所述玻璃基板的表面具有一导电覆盖层,所述玻璃基板包括一显示区域和一可滴下区域;清洁所述导电覆盖层的表面;使所述间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面;以及在分布有所述间隔物液滴的所述导电覆盖层的表面涂布配向膜,所述配向膜填充至所述间隔物之间的间隙。
作为可选的技术方案,在使所述间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面之后,并且在分布有所述间隔物液滴的所述导电覆盖层的表面涂布配向膜之前,进一步包括如下步骤:静置分布有所述间隔物液滴的所述玻璃基板,使所述间隔物液滴在所述导电覆盖层表面摊开成扁平状。
作为可选的技术方案,在涂布所述配向膜的步骤之后,进一步实施如下步骤:烘烤玻璃基板,以固化配向膜,并使所述间隔物液滴的位置进一步得到固定。
作为可选的技术方案,在所述间隔物液滴摊开成扁平状之后,进一步包括如下步骤:检测所述显示区域的所述导电覆盖层表面是否覆盖有所述间隔物液滴;以及如果有所述间隔物液滴,则清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴。
作为可选的技术方案,在清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴之后,进一步包括如下步骤:重新实施清洁所述导电覆盖层表面以及覆盖所述间隔物液滴的步骤。
本发明的优点在于,将间隔物液滴直接涂布在导电覆盖层表面,能够保证涂布表面的洁净度,从而利于间隔物液滴展开而抑制其滑动。
进一步地,由于导电覆盖层的物理和化学性质稳定,因此在发现间隔物液滴的涂布位置发生偏移的情况下,能够很容易地将间隔物液滴去除并返工,只要选择适当的清洁工艺,能够保证不划伤导电覆盖层。
进一步地,在涂布配向膜之后实施烘烤,能够使间隔物液滴被进一步固定在玻璃基板的可滴下区域,避免发生移动。
附图说明
附图1为现有技术的涂布方法在配向膜表面形成间隔物之后的结构示意图。
附图2所示是本发明所述液晶基板的制作方法具体实施方式的实施步骤示意图。
附图3A至附图3D是附图2所示方法具体实施方式的工艺示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明提供的液晶基板间隔物的涂布方法以及液晶基板的制作方法的具体实施方式做详细说明。
为了让本发明的目的、特征及优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合说明书所附图式,做详细的说明。本发明说明书提供不同的实施例来说明本发明不同实施方式的技术特征。其中,实施例中的各组件的配置是为清楚说明本发明揭示的内容,并非用以限制本发明。且不同实施例中图式标号的部分重复,是为了简化说明,并非意指不同实施例之间的关联性。
附图2所示是本发明所述液晶基板的制作方法具体实施方式的实施步骤示意图,包括:步骤S200,提供一玻璃基板,所述玻璃基板的表面具有一导电覆盖层,所述玻璃基板包括一显示区域和一可滴下区域;步骤S210,清洁所述导电覆盖层的表面;步骤S211,使间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面;步骤S220,静置分布有所述间隔物液滴的所述玻璃基板,使间隔物液滴在所述导电覆盖层表面摊开成扁平状;步骤S230,在分布有所述间隔物液滴的所述导电覆盖层的表面涂布配向膜,所述配向膜填充至间隔物液滴之间的间隙;步骤S240,烘烤玻璃基板,以固化配向膜,并使间隔物的位置进一步得到固定。
附图3A至附图3D是本具体实施方式的工艺示意图。
附图3A所示,参考图2中的步骤S200,提供一玻璃基板30,所述玻璃基板30的表面具有导电覆盖层31,所述玻璃基板包括显示区域301和可滴下区域302。本实施方式中,导电覆盖层31的材料是铟锡氧化物(ITO)。显示区域301是三种色阻(红R、绿G、蓝B),用来实现液晶显示器的显示功能;而可滴下区域302则是黑区(Black Matrix),不具有显示作用,可以用来涂布间隔物等物质。
参考图2中的步骤S210,清洁导电覆盖层31的表面。导电覆盖层31的物理和化学性质较稳定,可以实施常规的清洗动作,包括常压等离子体清洗和准分子紫外光清洗工艺等。
附图3B所示,参考图2中的步骤S211,使间隔物液滴32分布至玻璃基板30的可滴下区域302的导电覆盖层31的表面。此步骤中,间隔物液滴32是直接形成于导电覆盖层31表面的。由于导电覆盖层31的物理和化学性质较配向膜稳定,故在实施此步骤S211之前,能够首先实施步骤S210以保证导电覆盖层31的表面是清洁的。清洁的表面能够使间隔物液滴32更容易地由球形液滴摊开成扁平状。可以采用喷出(Ink-jet)工艺将间隔物液滴32喷涂在导电覆盖层31的表面,以获得更加均匀和细密分布的间隔物液滴32。
附图3C所示,参考图2中的步骤S220,可选地,在步骤S211之后,进一步静置分布有间隔物液滴32的玻璃基板30,使间隔物液滴32在导电覆盖层31表面摊开成扁平状。由于导电覆盖层31的表面是清洁的,因此间隔物液滴32在静置一段时间后即可以摊开成扁平状。此步骤持续的时间需要根据具体实施的情况来确定,此时间可能会受到导电覆盖层31的材料和表面平整度、间隔物液滴32的粘稠度以及实施环境的温度和湿度等条件的影响。扁平状的间隔物液滴32更容易保持在可滴下区域302,而不容易在导电覆盖层31的表面发生滚动而偏离至显示区域301。间隔物液滴32偏离至显示区域301,将会影响到液晶显示器显示效果,导致此液晶显示器面板成为废品。
以上步骤实质上叙述了一种在液晶基板表面涂布间隔物的方法。间隔物液滴32直接涂布在导电覆盖层31表面,而不是先涂布配向膜,然后将间隔物液滴32涂布在配向膜的表面。以上将间隔物液滴32直接涂布在导电覆盖层31表面的优点在于能够保证涂布表面的洁净度,从而利于间隔物液滴展开而抑制其滑动。并且由于导电覆盖层31的物理和化学性质稳定,因此在发现间隔物液滴32的涂布位置发生偏移的情况下,能够很容易地将间隔物液滴32去除并返工,只要选择适当的清洁工艺,能够保证不划伤导电覆盖层31。
具体地说,当实施完毕上述步骤S220时,可以进一步实施一检测步骤,来检测间隔物液滴32的分布状态。当检测到显示区域301的导电覆盖层31表面覆盖有间隔物液滴32时,则实施清除导电覆盖层31表面的间隔物液滴32的步骤,清洁完毕后重新实施步骤S210、步骤S211以及步骤S220。清除间隔物液滴32可以采用毛刷清洗(Brush)工艺。
附图3D所示,参考图2中的步骤S230,在分布有间隔物液滴32的导电覆盖层31的表面涂布配向膜33,配向膜33填充至间隔物液滴32之间的间隙。涂布配向膜33也可以采用喷出工艺。配向膜33是以液态涂布到导电覆盖层31表面的,而间隔物液滴是粘稠的液滴,因此配向膜33能够容易地填满间隔物液滴32的间隙。
参考图2中的步骤S240,可选地,在步骤S230之后,进一步烘烤玻璃基板30,以固化配向膜33,并使间隔物液滴32的位置进一步得到固定。烘烤可以在专门的烘烤炉中进行,温度控制以能够固化配向膜33并不使配向膜33和间隔物液滴32的化学成分发生分解为宜。合适的温度应当根据配向膜33以及间隔物液滴32的成分来通过实验具体确定。烘烤过后,间隔物液滴32被进一步固定在玻璃基板30的可滴下区域302,避免发生移动。
以上仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种液晶基板间隔物的涂布方法,其特征在于,包括:
提供一玻璃基板,所述玻璃基板的表面具有一导电覆盖层,所述玻璃基板包括一显示区域和一可滴下区域;
清洁所述导电覆盖层的表面;以及
使所述间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面。
2.根据权利要求1所述的液晶基板间隔物的涂布方法,其特征在于,在使所述间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面之后,进一步包括如下步骤:
静置分布有所述间隔物液滴的所述玻璃基板,使所述间隔物液滴在所述导电覆盖层表面摊开成扁平状。
3.根据权利要求2所述的液晶基板间隔物的涂布方法,其特征在于,在所述间隔物液滴摊开成扁平状之后,进一步包括如下步骤:
检测所述显示区域的所述导电覆盖层表面是否覆盖有所述间隔物液滴;以及
如果有所述间隔物液滴,则清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴。
4.根据权利要求3所述的液晶基板间隔物的涂布方法,其特征在于,在清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴之后,进一步包括如下步骤:重新实施清洁所述导电覆盖层表面以及覆盖所述间隔物液滴的步骤。
5.根据权利要求3所述的液晶基板间隔物的涂布方法,其特征在于:所述清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴,包括:采用毛刷清洗工艺清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴。
6.一种液晶基板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一玻璃基板,所述玻璃基板的表面具有一导电覆盖层,所述玻璃基板包括一显示区域和一可滴下区域;
清洁所述导电覆盖层的表面;
使所述间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面;以及
在分布有所述间隔物液滴的所述导电覆盖层的表面涂布配向膜,所述配向膜填充至所述间隔物之间的间隙。
7.根据权利要求6所述的液晶基板的制作方法,其特征在于,在使所述间隔物液滴分布至所述玻璃基板的所述可滴下区域的所述导电覆盖层表面之后,且在分布有所述间隔物液滴的所述导电覆盖层的表面涂布配向膜之前,进一步包括如下步骤:
静置分布有所述间隔物液滴的所述玻璃基板,使所述间隔物液滴在所述导电覆盖层表面摊开成扁平状。
8.根据权利要求6所述的液晶基板的制作方法,其特征在于,在涂布所述配向膜的步骤之后,进一步实施如下步骤:烘烤玻璃基板,以固化配向膜,并使所述间隔物液滴的位置进一步得到固定。
9.根据权利要求7所述的液晶基板的制作方法,其特征在于,在所述间隔物液滴摊开成扁平状之后,进一步包括如下步骤:
检测所述显示区域的所述导电覆盖层表面是否覆盖有所述间隔物液滴;以及
如果有所述间隔物液滴,则清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴。
10.根据权利要求9所述的液晶基板的制作方法,其特征在于,在清除所述导电覆盖层表面的所述间隔物液滴之后,进一步包括如下步骤:
重新实施清洁所述导电覆盖层表面以及覆盖所述间隔物液滴的步骤。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20110601 |