CN102054286A - 绘图控制装置、激光发射系统和绘图方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及绘图控制装置、激光发射系统和绘图方法。绘图控制装置包括:填充笔划生成单元,生成包括填充绘图区域的多个笔划的填充笔划;形状笔划生成单元,生成作为要被形成在绘图区域上的形状的笔划的形状笔划;第一检测单元,检测填充笔划和形状笔划彼此重叠的重叠部分;修改单元,从填充笔划移除重叠部分以修改填充笔划来获得绘图笔划;绘图指令生成单元,生成用于绘制绘图笔划中的每个笔划的绘图指令;以及绘图控制单元,通过使用绘图指令来使得绘图装置在物体上绘制绘图笔划来控制绘图装置。
Description
相关申请的交叉参考
本申请主张2009年10月27日在日本申请的日本专利申请No.2009-246720和2010年8月17日在日本申请的日本专利申请No.2010-182371的优先权,其全部内容结合于此作为参考。
技术领域
本发明涉及绘图控制装置、激光发射系统和绘图方法。
背景技术
本领域公知的激光打标机通过使用激光照射物体来在例如热可重写介质或金属的物体上写下例如字符或符号的形状。这样的激光打标机广泛地用于各种领域。在实体分配系统中,激光打标机用于在附着于容器等的热可重写介质上打印货物的名称的货物的目的地。
为了使得物体上的形状更容易看到,通常要求以亮度反转的形式在物体上写下形状,或者等效地,使得形状部分的亮度反转并且背景部分的亮度反转。例如,日本专利申请公开No.2005-310048公开了如下的技术:将二维代码的代码符号的亮度反转以生成亮度反转的代码符号,进一步将亮度反转的代码符号转换成标记数据,例如点数据或扫描数据,并且然后通过使用标记数据利用激光在工件上标记亮度反转的代码符号。
然而,上述现有技术需要光栅化以转换成标记数据,例如点数据或扫描数据。此外,因为使用例如点数据或扫描数据的标记数据用于绘图,所以必须使用光栅扫描方法来绘制亮度反转的形状。由此,现有技术需要大量处理来绘制亮度反转的形状,这带来了绘图时间消耗。
根据以上描述,本发明的目的在于提供一种能够以减少的绘图时间绘制亮度反转的形状的绘图控制装置、激光发射系统和绘图方法。
发明内容
本发明的目的在于至少部分地解决现有技术中的问题。
根据本发明的一个方面,提供一种绘图控制装置,包括:填充笔划生成单元,生成包括填充绘图区域的多个笔划的填充笔划;形状笔划生成单元,生成作为要被形成在绘图区域上的形状的笔划的形状笔划;第一检测单元,检测填充笔划和形状笔划彼此重叠的重叠部分;修改单元,从填充笔划移除重叠部分以修改填充笔划来获得绘图笔划;绘图指令生成单元,生成用于绘制绘图笔划中的每个笔划的绘图指令;以及绘图控制单元,通过使用绘图指令来使得绘图装置在物体上绘制绘图笔划来控制所述绘图装置,所述绘图装置是用于通过将能量转移到物体上来在物体上绘制可视信息的装置。
根据本发明的另一个方面,提供一种绘图方法,包括:通过填充笔划生成单元生成包括填充绘图区域的多个笔划的填充笔划;通过形状笔划生成单元生成作为要被形成在绘图区域上的形状的笔划的形状笔划;通过第一检测单元检测填充笔划和形状笔划彼此重叠的重叠部分;通过修改单元从填充笔划移除重叠部分以修改填充笔划来获得绘图笔划;通过绘图指令生成单元生成用于绘制绘图笔划中的每个笔划的绘图指令;以及通过绘图控制单元通过使用绘图指令来使得绘图装置在物体上绘制绘图笔划来控制所述绘图装置,所述绘图装置是用于通过将能量转移到物体上来在物体上绘制可视信息的装置。
当参考附图读取本发明的优选实施例时,本发明的上述和其他目的、特征、优点和技术及工业意义将得到更好地理解。
附图说明
图1是说明根据本发明第一实施例的激光发射系统的示例配置的示意图;
图2是说明根据本发明第一实施例的激光发射控制装置的示例功能配置的框图;
图3是说明绘图位置的实例的图表;
图4是说明绘图区域的实例的图表;
图5A是说明填充笔划的实例的图表;
图5B是说明填充笔划数据的实例的图表;
图6A是说明笔划字体数据的实例的图表;
图6B是说明曲线部分的直线近似的说明图;
图6C是说明由直线段近似的笔划字体数据的实例的图表;
图6D是说明形状笔划的实例的图表;
图6E是说明形状笔划数据的实例的图表;
图7A是说明彼此交叉的两条线段的实例的图表;
图7B是说明两条线段彼此并不相互交叉而是在两条线段之间设置垂直线的实例的图表;
图7C是说明两条线段彼此并不相互交叉并且在两条线段之间不能设置垂直线的实例的图表;
图8A是说明以重叠方式在绘图区域中布置的填充笔划和形状笔划的实例的图表;
图8B是说明填充笔划的修改处理的图表;
图8C是说明填充笔划的修改处理的图表;
图8D是说明填充笔划的修改处理的图表;
图8E是说明填充笔划的修改处理的图表;
图8F是说明绘图笔划的实例的图表;
图9A是说明绘图笔划实例的图表;
图9B是说明绘图指令的实例的图表;
图10是说明在热可重写介质上要被绘制的中空字符串的图表;
图11是由根据第一实施例的激光发射系统执行的实例处理的流程图;
图12是由根据第一实施例的激光发射系统执行的用于重叠笔划移除的实例处理的流程图;
图13是说明根据本发明第二实施例的激光发射控制装置的实例功能配置的框图;
图14是说明已经检测到未连接部分的绘图笔划的实例的图表;
图15A是说明绘图笔划的实例的图表;
图15B是说明已经检测到非接触部分中的笔划,在该非接触部分中该笔划没有与其他笔划相接触;
图16A是说明绘图笔划的实例的图表;
图16B是说明绘图指令的实例的图表;
图17是由根据第二实施例的激光发射系统执行的实例处理的流程图;
图18是用于由根据第二实施例的激光发射系统执行的非接触部分检测的实例处理的流程图;
图19是说明根据本发明第三实施例的激光发射控制装置的实例功能配置的框图;
图20A是说明形状笔划的实例的图表;
图20B是说明轮廓笔划的实例的图表;
图20C是说明粗笔划的实例的图表;
图20D是说明轮廓笔划的另一个实例的图表;
图21A是说明以重叠方式在绘图区域中布置的绘图笔划和轮廓笔划的图表;
图21B是说明绘图指令的实例的图表;
图22是说明要以重叠方式在而可重写介质上绘制的绘图笔划和轮廓笔划的实例的图表;
图23是说明绘图笔划的实例的图表;
图24是由根据第三实施例的激光发射系统执行的实例处理的流程图;以及
图25是说明根据第一到第三实施例的激光发射控制装置的实例硬件配置的框图。
具体实施方式
下面将参考附图描述本发明的实例实施例。
第一实施例
将描述本发明的第一实施例。在第一实施例中,首先,生成用于绘制在绘图笔划中的每个笔划的绘图指令。绘图笔划是亮度反转形状的笔划。然后,根据生成的绘图指令通过使用激光照射物体来在物体上绘制亮度反转的形状。
下面将描述根据第一实施例的激光发射系统100的配置。
图1是示意性说明根据第一实施例的激光发射系统100的配置图。如图1所示,激光发射系统100包括激光发射控制装置110和激光发射装置150。
激光发射控制装置110(其是绘图控制装置的例子)生成绘图指令,用于控制激光发射装置150(其是绘图装置的例子),并且通过使用生成的绘图指令来控制激光发射装置150。下面将详细描述激光发射控制装置110。
激光发射装置150在激光发射控制装置的控制下通过将激光发射到热可重写介质170上来加热热可重写介质170(其是物体的例子),从而在热可重写介质170上写入例如字符或符号的形状,或者亮度反转的形状。激光发射装置150包括激光振荡器152、光学透镜154、方向控制镜156、方向控制马达158以及聚光透镜160。
激光振荡器152是根据激光发射控制装置110生成的绘图指令来振荡激光的装置。激光振荡器152的例子包括半导体激光二极管(LD),气体激光器、固态激光器、液体激光器。
光学透镜154放大由激光振荡器152振荡的激光的斑直径。激光从光学透镜154进入方向控制镜156。
方向控制镜156具有反射表面(未显示),其斑直径被光学透镜154放大的激光通过该反射表面被反射以改变激光的照射方向。
方向控制马达158根据激光发射控制装置110生成的绘图指令驱动方向控制镜156,以双轴向地控制方向控制镜156上的反射表面的方向,由此调节热可重写介质170上的激光的照射位置。伺服马达等可以用作方向控制马达158。在激光发射装置150中,方向控制镜156和方向控制马达158构成检流计镜。
聚光透镜162使得来自方向控制镜156的激光会聚在热可重写介质170的表面。
热可重写介质170是热敏介质,其通过被加热到颜色显影温度区而显影颜色,并且然后快速冷却,并且通过将颜色显影部分加热到比颜色显影温度区更低的颜色擦除温度区而擦除颜色。在这个例子中,热可重写介质170是热敏介质,其被加热时从白色变成黑色。更详细地,在热可重写介质170上将形状绘制为实形的白色背景下的黑线段,同时在热可重写介质170上将亮度反转的形状绘制为中空形的黑色背景下的白线段。
在第一实施例中,将以热可重写介质170作为物体的例子,其上要写上例如字符或符号的形状。然而,物体不局限于这个例子。例如,诸如热纸张、塑料介质或金属介质的不可重写的介质也可以被用作物体。如果塑料介质或金属介质被用作物体,当使用激光照射物体时,在物体上刻画例如字符或符号的形状,即,形状部分被刻画,同时通过刻画形状的外围来在物体上形成亮度反转的形状,即,形状部分被凸起。
常规的热可重写介质和热敏纸不吸收近红外激光。由此,如果发射近红外波长光的激光发射装置(例如半导体激光器或YAG激光器作为固态激光器)被用作激光振荡器152,必须对热可重写介质或热敏纸加上吸收激光的材料或层。
图2是说明根据第一实施例的激光发射控制装置110的实例功能配置的框图。如图2所示,激光发射控制装置110包括存储单元120和控制单元130。
存储单元120存储要由激光发射控制装置110执行的各种程序代码以及由激光发射控制装置110执行的各种处理中使用的数据。存储装置120由能够磁、光或电存储数据的现有存储装置实现,例如硬盘驱动器(HDD)、固态驱动器(SSD)、存储器卡、光盘、只读存储器(ROM)或随机访问存储器(RAM)。存储单元120包括形状数据存储单元122。
形状数据存储单元122存储指示要被绘制的形状的形状数据。例如,形状数据存储单元122存储笔划字体数据,其通过中心线(更详细地,中心线的端点的坐标值)的校准来定义字符、符号等。在这个例子中,假设由标准化的字体尺寸的坐标值来限定笔划字体数据。笔划字体数据可以包括绘图的顺序。
控制单元130执行各种处理以控制激光发射装置150。可以使用中央控制单元(CPU)、专用集成电路(ASIC)等作为控制单元130。控制单元130包括绘图位置确定单元132、绘图区域确定单元134、填充笔划生成单元136、形状笔划生成单元138、第一检测单元140、修改单元142、绘图指令生成单元144以及绘图控制单元146。
绘图位置确定单元132确定形状要被绘制的位置(下文中称为“绘图位置”)。更详细地,绘图位置确定单元132基于绘图位置确定数据(例如绘图基准点、要被绘制的形状以及形状的尺寸)来确定要被绘制的形状的绘图位置。绘图位置确定数据可以预先存储在存储单元120中,或者从输入单元(未显示)输入。可选地,绘图位置确定数据的一部分可以预先存储在存储单元120中,并且绘图位置确定数据的剩余部分可以从输入单元输入。可选地,绘图位置确定单元132可以参考存储在形状数据存储单元122中的形状数据来确定要被绘制的形状的绘图位置。
图3是说明绘图位置的实例的图表。在图3中,由黑框指示要被绘制的字符串201中的字符的每个绘图位置。在图3所述的实例中,绘图位置确定单元132参考绘图基准点(x0,y0),基于字符串201和它的尺寸来确定字符的绘图位置。
更详细地,首先,绘图位置确定单元132确定绘图开始位置,使得第一线上的第一字符(图3中示出的实例中的字符202)的左上角是绘图基准点(x0,y0)。此后,绘图位置确定单元132确定第一字符(在图3所示的实例中的字符202)的字符宽度w,间隙sh(其为字符之间所留的间隙)以及字符高度h。例如,字符宽度w可以是字符缩放因子r和字体字符宽度f的乘积,其中字符缩放因子f由用户使用输入单元来指定,字体字符宽度f由字体尺寸来定义。在这种情况下,可以由下面的等式来表示字符宽度w:w=f×r。字符之间的间隙sh可以是例如由用户预先使用输入单元来指定。字符高度h可以是例如缩放因子r和由字体尺寸定义的字体字符高度g的积。在这种情况下,可以由下面的等式来表示字符高度h:h=g×r。由此,绘图位置确定单元132将第一字符(图3所示的实例中的字符202)的绘图结束位置设置为(x0+w,y0+g×r),并且将下一个字符(图3所示的实例中的字符203)的绘图开始位置(x1,y1)设置为(x0+w+sh,y0)。此后,绘图位置确定单元132基于计算的绘图开始位置重复字符的绘图结束位置和随后的字符的字符开始位置的确定,由此确定在同一线中的所有字符的绘图开始位置和绘图结束位置。
随后,绘图位置确定单元132将在下一条线中的第一字符(图1所示的例子中的字符204)的绘图开始位置(x0’,y0’)设置为(x0,y0+g×r)。此后,如同在第一线中的那样,绘图位置确定单元132基于获得的绘图开始位置重复字符的绘图结束位置和随后的字符的字符开始位置的确定,由此确定在同一线中的所有字符的绘图开始位置和绘图结束位置
参考图2,绘图区域确定单元134确定绘图区域。图4是说明绘图区域的图表。在图4所述的例子中,绘图区域确定单元134将围绕由绘图位置确定单元132确定所有绘图区域的区域指定为绘图区域211。
更详细地,绘图区域确定单元134获得由绘图位置确定单元132确定的字符的绘图开始位置的最小值以及绘图结束位置的最大值,并且分别将最小值和最大值设置为(x0,y0)和(xe,ye)。例如,用户可以通过输入单元预先指定绘图位置周围要被留下的边缘P。注意边缘P应该等于或宽于笔划的线宽,因为激光发射装置150不能恰当地表示宽度比线宽小的区域,这将在后面描述。由此,绘图区域确定单元134将绘图区域(图4所示的例子中的绘图区域211)设置为区域(x0-P,y0-p)到(xe+p,ye+p)。
参考图2,填充笔划生成单元136生成填充笔划,填充笔划包括填充绘图区域的多个笔划。更详细地,填充笔划生成单元将指示属于填充笔划的所有笔划的起点和终点的填充笔划数据生成为填充笔划。在这个例子中,笔划的起点和终点是笔划的中心线的起点和终点。
图5A是说明填充笔划的实例的图表。在图5A所示的例子中,笔划被定位为X方向上的线段。填充笔划生成单元136在Y方向上顺序地从一个线段到下一个线段转移线段的量而生成填充笔划。线宽表示线段的宽度。更详细地,线宽表示当激光发射装置150在热可重写介质170上绘制笔划时,在热可重写介质170上显影颜色的颜色显影区域的宽度。由此,在Y方向上从一个线段到下一个线段的偏移量依赖于颜色显影区域的宽度。可以通过调节光学透镜154和聚光透镜160中至少一个的透镜位置或焦距以及与热可重写介质170的距离,可以改变热可重写介质170上的颜色显影区域的宽度。
在图5A所示的实例中,首先,填充笔划生成单元136生成线段221的中心线223的起点(100,100)和终点(500,100)。随后,通过在Y方向上从一个线段到下一个线段顺序地移动40(其为线宽的尺寸),填充笔划生成单元136生成线段225的中心线227的起点(100,140)和终点(500,140),和线段229的中心线231的起点(100,180)和终点(500,180),由此生成图5B所示的填充笔划数据。
如上所述,在第一实施例中,通过在Y方向上从处于X方向的第一线段向下一个线段顺序地移动线宽的量,从而生成填充笔划。可以应用生成填充笔划的各种方法。例如,通过在X方向上从Y方向上的一个线段向下一个线段顺序地移动线段的量,从而生成填充笔划。
参考图2,形状笔划生成单元138生成形状笔划,形状笔划是要被形成在绘图区域上的形状的笔划。更详细地,形状笔划生成单元138从形状数据存储单元122中获得指示要被绘制的形状的形状数据,并且基于该形状数据生成形状笔划。例如,形状笔划生成单元138从形状数据存储单元122获得字符串中的每个字符的笔划字体数据,并且基于获得的笔划字体数据为每个字符生成形状笔划。更详细地,形状笔划生成单元138将指示形状笔划中的所有笔划的起点和终点的形状笔划数据生成为形状笔划。在这个例子中,笔划的起点和终点是笔划的中心线的起点和终点。注意形状笔划可以包括单个笔划或多个笔划。
下面将参考图6A到6E详细描述生成形状笔划的方法。
图6A是说明笔划字体数据241的图表。在图6A所示的实例中的笔划字体数据241具有曲线部分。在第一实施例中,笔划被定义为线段。由此,形状笔划生成单元138使用直线段近似笔划字体数据241中的曲线部分。因为由于曲线的存在线段之间的距离计算是复杂的,所以执行近似。具有曲线部分的笔划字体数据包含用于控制曲线的数据,这允许形状笔划生成单元138根据用于控制曲线的数据的存在或缺乏来确定笔划字体数据是否具有曲线部分。
图6B是说明使用直线段来近似曲线部分的方法的说明图。在图6B所示的例子中,通过以预定距离s的距离间隔检测曲线部分242的坐标,形状笔划生成单元138获得从起点(A,B)到终点(C,D)延伸的曲线部分242上的五个点(x1,y1)到(x5,y5)的坐标。形状笔划生成单元138由此使用线段243到248来近似曲线部分242。
图6C是说明通过使用直线段来近似笔划字体数据241而获得的笔划字体数据251的实例的图表。在图6C所示的例子中,笔划字体数据251包括与笔划字体数据241的直线部分对应的线段253,以及通过使用直线段近似笔划字体数据241的曲线部分而得到的线段255、257和259。形状笔划生成单元138改变笔划字体数据251的放大率以调整到期望的绘图位置和字体尺寸,从而获得形状笔划。
图6D是说明通过改变笔划字体数据251的放大率而获得的形状笔划261的实例的图表。在图6D所示的例子中,形状笔划生成单元138改变形状笔划数据251的放大率来获得形状笔划261,从而获得通过改变线段253的放大率而获得的线段263的中心线264的起点(100,50)和终点(100,500),通过改变线段255的放大率而获得的线段265的中心线266的起点(100,220)和终点(230,50),通过改变线段257的放大率而获得的线段267的中心线268的起点(230,50)和终点(300,50),以及通过改变线段259的放大率而获得的线段269的中心线270的起点(300,50)和终点(400,100)。形状笔划生成单元138由此生成图6E所示的形状笔划数据。
在第一实施例中,通过使用直线段来进行笔划字体数据并由此改变放大率来生成形状笔划。可以使用各种方法来生成形状笔划。例如,可以通过改变笔划字体数据的放大率并且此后通过直线段来执行近似,或者仅使用直线段来执行进行,从而生成形状笔划。
参考图2,第一检测单元140检测彼此重叠的填充笔划和形状笔划的重叠部分。更详细地,第一检测单元140将填充笔划数据中描述的一个笔划的中心线和形状笔划数据中描述的一个笔划的中心线之间的距离等于或小于线宽(颜色显影区域的宽度)的部分检测为重叠部分。
下面将详细描述第一检测单元140如何检测重叠部分。第一检测单元140基于填充笔划数据和形状笔划数据,检测由于线段的位置和宽度而彼此重叠的线段。例如,第一检测单元140基于图5B的填充笔划数据中描述的填充笔划的坐标和图6E的形状笔划数据中描述的形状笔划的坐标,确定是否发生重叠。
更详细地,第一检测单元140根据下面的规则基于线段的坐标来计算线段之间的距离:
如果线段彼此交叉,线段之间的距离是零;以及
如果线段彼此不交叉,其间的距离为从一条线段的一端到另一条线段下降的垂直线(如果可以设置垂直线)的长度,或者是一条线段的端点和另一条线段的端点之间的距离。
第一检测单元140通过线性等式表示两条线段中的每一条,并且求解该等式。当交叉点处于线段上时,第一检测单元140确定线段彼此交叉并且由此其间的距离是零。例如,假设通过等式(1)和(2)给出两条线段并且线段之间的交叉点的坐标被给定为(xp,yp),由等式(3)给出交叉点:
y=a1x+b1 (1)
y=a2x+b2 (2)
(xp,yp)=((b2-b1)/(a2-a1),a1xp+b1) (3)
随后,如果线段彼此不交叉,第一检测单元140从一条线段的一端到另一条线段下降垂直线,并且计算垂直线和另一条线段之间的交叉点。如果交叉点处于另一条线段上,第一检测单元140计算垂直线的长度(从一条线段的一端到另一条线段上的交叉点的距离)。例如,由等式(4)给出垂直线:
Y=cx+d (4)
此外,如果线段彼此不交叉,第一检测单元140计算一条线段的端点和另一条线段的端点之间的四个距离。可选地,仅当不能获得从一条线段到另一条线段下降的垂直线的长度时,第一检测单元140可以计算四个距离。
图7A是说明彼此交叉的两条线段的实例的图表。图7B是说明彼此不交叉但是从一条线段到另一条线段可以下降垂直线的两条线段的实例图表。图7C是说明彼此不交叉但是从一条线段到另一条线段不能下降垂直线的两条线段的实例图表。在图7A所示的例子中,第一检测单元140确定彼此交叉的线段,并且由此根据等式(3)的解由于交叉点处于线段上,所以距离是零。在图7B所述的例子中,第一检测单元140确定线段彼此不交叉,因为根据等式(3)的解交叉点不处于线段上。由此,第一检测单元140从一条线段向另一条线段下降垂直线,并且因为垂直线与另一条线段交叉,所以计算垂直线的长度。第一检测单元140还计算一条线段的端点和另一条线段的端点之间的距离。在图7C所示的例子中,两条线段彼此平行。由此,第一检测单元140确定线段不能彼此交叉,因为不能从等式(3)获得交叉点。在这种情况下,尽管第一检测单元140从一条线段的一端向另一条线段下降垂直线,垂直线和另一条线段之间的交叉点不处于另一条线段上。第一检测单元140由此计算一条线段的端点和另一条线段的端点之间的距离。
第一检测单元140将获得距离等于或小于线宽(颜色显影区域的宽度)的部分检测为重叠部分,并且提取重叠区域中的一对线段。第一检测单元140检测(线宽(颜色显影区域的宽度))-(距离)作为重叠量。
修改单元142从填充笔划中移除重叠部分以修改填充笔划,从而获得绘图笔划。更详细地,修改单元142从填充笔划数据中移除与重复部分相关的数据,由此将填充笔划数据修改成绘图笔划数据。
图8A是说明以重叠方式在绘图区域中布置的填充笔划和形状笔划的图表。在图8A所示的例子中,第一检测单元140以笔划的附图标记的顺序以逐笔划为基础检测属于形状笔划296的笔划298与属于填充笔划281的笔划283到294重叠处的重叠部分。在这个例子中,首先,第一检测单元140检测笔划298与笔划284重叠的重叠部分。由此,修改单元142从笔划284中移除重叠部分以将笔划284修改为笔划284a和笔划284b,并且确定笔划284a和笔划284b的坐标。因此,如图8B所示已经修改了填充笔划281。随后,第一检测单元140检测笔划298和笔划285重叠的重叠部分。由此,修改单元142从笔划285移除重叠部分,由此将笔划285修改为笔划285a和笔划285b,并且确定笔划285a和笔划285b的坐标。由此,如图8C所述修改了填充笔划281。
在完成笔划298和笔划283到294的重叠检测的时候,第一检测单元140以笔划的附图标记的顺序以逐笔划为基础检测属于形状笔划296的笔划299与笔划283到294重叠处的重叠部分。在这个例子中,首先,第一检测单元140检测笔划299与笔划286重叠的重叠部分。由此,修改单元142从笔划286中移除出重叠部分以将笔划286修改为笔划286a和笔划286b,并且确定笔划286a和笔划264b的坐标。因此,如图8D所示已经修改了填充笔划281。随后,由第一检测单元140重复地执行重叠部分的检测和移除,由此修改笔划287以获得笔划287a和笔划287b,修改笔划288以获得笔划288a和笔划288b,修改笔划289以获得笔划289a和289b,修改笔划290以获得笔划290a和笔划290b,修改笔划291以获得笔划291a和笔划291b,修改笔划292以获得笔划292a和笔划292b,以及修改笔划293以获得笔划293a和笔划293b。最终,如图8E所示修改填充笔划281。
修改单元142从图8E所示的修改后的填充笔划281中移除形状笔划296,由此如图8F所示获得绘图笔划321。
参考图2,绘图指令生成单元144生成用于绘制绘图笔划中的每个笔划的绘图指令。更详细地,绘图指令生成单元144通过将绘图笔划数据转换为可以由激光发射装置150解释的格式,从而生成绘图指令。例如,绘图指令生成单元144通过将每个笔划的绘图等待时间和每个笔划的线宽(线厚度)加入到绘图笔划数据中来生成绘图指令。
图9A是说明绘图笔划的例子的图表。图9B是说明用于绘制如图9A所示的绘图笔划绘图指令的图表。图9B所示的绘图指令包含指令代码和参数。指令代码“t”是用于将绘图笔划的线宽设置为参数指定的值的指令。指令代码“m”是用于将激光的照射位置移动到参数指定的坐标位置的指令。指令代码“d”是用于发射激光直到照射位置达到参数指定的坐标位置,由此绘制笔划的指令。指令代码“w”是用于等待参数指定的时间周期的指令。
参考图2,绘图控制单元146通过使用绘图指令来使得激光发射装置150在热可重写介质170上绘制绘图笔划,从而控制激光发射装置150。
例如,当绘图控制单元146使用图9B所示的绘图指令控制激光发射装置150在热可重写介质170上绘制图9A所示的绘图笔划时,激光发射装置150将笔划的线宽设置为40。随后,激光发射装置150将激光的照射位置移动到点(100,100),并且从点(100,100)到点(1200,100)绘制笔划。随后,激光发射装置150将激光的照射位置移动到点(100,140),并且在等待对应于“50”的时间周期之后,从点(100,140)到点(180,140)绘制笔划。随后,激光发射装置150将激光的照射位置移动到点(500,140),并且从点(500,140)到点(610,140)绘制笔划。随后,激光发射装置150将激光的照射位置移动到点(680,140),并且从点(680,140)到点(1200,140)绘制笔划。此后,激光发射装置150根据绘图指令继续执行操作,由此在热可重写介质170上绘制(形成)图10所示的中空字符串。
下面将参考根据第一实施例的激光发射系统的操作。
图11是由根据第一实施例的激光发射系统100执行的实例处理的流程图。这里,字符串被作为要被绘制的形状的例子。
绘图位置确定单元132确定在要被绘制的字符串中的字符的绘图位置,要被绘制的字符串对应于要被绘制的形状(步骤S100)。
随后,绘图区域确定单元134将由绘图位置确定单元132确定的围绕所有绘图位置的区域指定为绘图区域(步骤S102)。
随后,填充笔划生成单元136生成填充笔划以填充由绘图区域确定单元134确定的绘图区域(步骤S104)。
随后,形状笔划生成单元138从形状数据存储单元122获得与要被绘制的字符串中的一个字符相关的笔划字体数据,并且基于获得的笔划字体数据生成一个字符的形状笔划(步骤S106)。
随后,第一检测单元140和修改单元142执行重叠笔划移除处理,该处理为由填充笔划生成单元136生成的填充笔划与形状笔划生成单元138生成的一个字符的形状笔划重叠处的重叠部分的检测和移除(步骤S108)。下面将详细描述重叠笔划移除。
重复步骤S106到步骤S110直到完成字符串中的所有字符的形状笔划的重叠笔划移除处理(在步骤S110中为否)。
在完成字符串中的所有字符的形状笔划的重叠笔划移除处理时(在步骤S110为是),生成绘图笔划。通过从填充笔划移除字符串中的形状笔划与填充笔划重叠的重复部分而获得绘图笔划。绘图指令生成单元144生成用于绘制属于生成的绘图笔划的每个笔划的绘图指令(步骤S112)。
随后,绘图控制单元146通过使用由绘图指令生成单元144生成的绘图指令来控制激光发射装置150(步骤S144)。
随后,激光发射装置150在激光发射控制装置110的控制下将激光发射到热可重写介质170上,由此在热可重写介质170上绘制绘图笔划(步骤S116)。
图12是说明在图11所示的流程图中的步骤S108的重叠笔划移除处理的例子的流程图。
首先,第一检测单元140将属于形状笔划的一个笔划指定为检测目标(步骤S130)。
随后,第一检测单元140将属于填充笔划的一个笔划指定为检测目标(步骤S132)。
随后,第一检测单元140确定被指定为检测目标的两个笔划是否相互重叠(步骤S134)。
如果第一检测单元140检测到两个笔划的重叠部分(在步骤S 134中为是),修改单元142从在填充笔划中被指定为检测目标的笔划中移除重叠部分(步骤S136)。如果两个笔划之间不存在重叠部分(步骤S134为否),修改单元142不执行步骤S136的处理。
重复步骤S132到步骤S138直到完成被指定为填充笔划中的所有笔划和形状笔划中的检测目标的笔划的重叠检测处理(在步骤S138中为否)。
在完成被指定为填充笔划中的所有笔划和形状笔划中的检测目标的笔划的重叠检测处理时(在步骤S138中为是),对于形状比划中的全部其他比划重复步骤S130到S140(步骤S140为否)。
在完成对形状笔划中的所有笔划的重叠检测处理时(在步骤S140为是),第一检测单元140和修改单元142执行的重叠笔划移除处理结束。
如上所述,在第一实施例中,激光发射控制装置110生成用于将绘图笔划直接解释为矢量数据的绘图指令,并且通过使用绘图指令使得亮度反转的形状要被绘制。由此,根据第一实施例,可以生成绘图指令而不将绘图笔划转换成光栅数据。这允许以减小的绘图时间来绘制亮度反转的形状。这也有利地允许例如存储器的存储装置的存储容量的减小,因为不需要生成数据尺寸相对大的光栅数据。
第二实施例
第一实施例没有参考在绘制绘图笔划中激光的照射强度(功率)。然而,如果笔划不与另一个笔划相接触,容易发生至周围环境的热损失。这可以使得在亮度反转的形状的边界处颜色不能被充分地显影,使得形状出现模糊。在这种情况下,在本发明的第二实施例中,绘制绘图笔划,使得激光的照射强度(功率)被设置为在不与其他笔划相接触的非接触部分相对高。下面主要描述第二实施例和第一实施例的差异。将给出相同的附图标记和相同的名称,而不对与第一实施例相同的那些配置增加说明。
图13是说明根据第二实施例的激光发射控制装置410的示例功能配置的框图。在第二实施例的激光发射系统400中的激光发射控制装置410与第一实施例的激光发射控制装置110的不同之处在于控制单元430额外地包括第二检测单元443。此外,绘图指令生成单元444执行的处理与绘图指令生成单元144执行的处理不同。将在下面描述这些功能单元。
第二检测单元443对于属于绘图笔划的每个笔划检测非接触部分,该非接触部分是与属于绘图笔划的另一个笔划不接触的部分。更详细地,第二检测单元443对于绘图笔划数据中描述的每个笔划检测非接触部分,在非接触部分中,在距笔划的中心线的笔划的线宽的距离内,没有绘图笔划数据中,描述的另一个笔划的中心线。图14是说明已经被检测的非接触部分处的绘图笔划的实例图表。在图14所示的例子中,第二检测单元443已经将绘图笔划的边界部分检测为非接触部分。
下面将参考图15A和15B更详细地描述用于检测非接触部分的方法。
图15A是说明绘图笔划的例子的图表。这里将参考图15A所示的笔划501中的非接触部分的检测实例。第二检测单元443检测笔划501的中心线和笔划503的中心线之间的距离等于或小于线宽的部分,或简言之,与笔划503接触的接触部分。第二检测单元443临时地记录存储单元120中的接触部分的起点和终点的坐标。第二检测单元443也对笔划505、笔划507和笔划509执行相似的处理。第二检测单元443基于存储单元120中记录的坐标检测笔划501的上部分和下部分中的至少一个与其他笔划不接触的一个或多个非接触部分。第二检测单元443还检测笔划501的纵向结束部分作为非接触部分。
图15B是说明笔划501的实例的图表,其中检测到非接触部分,笔划501的每一个非接触部分不与另一个笔划接触。在图15B所示的例子中,第二检测单元443检测笔划501中的非接触部分511、513、515。
参考图13,绘图指令生成单元444生成用于绘制属于绘图笔划的每个笔划的绘图指令,使得绘制由第二检测单元443检测到的非接触部分的能量大于绘制其他部分的能量。
图16A是说明绘图笔划的实例的图表。图16B是说明用于绘制图16A所示的绘图笔划的绘图指令的图表。在图16B所示的绘图指令中,指令代码“p”是将激光的照射强度改变为由表示为百分比的参数指定的强度。在图16B所示的例子中,绘图指令生成单元444生成绘图指令,使得用于非接触部分的照射强度被设置为105%并且用于其他部分的照射强度被设置为100%。更详细地,绘图指令生成单元444根据非接触部分和接触部分将属于绘图笔划的每个笔划划分成单独的线段,并且生成绘图指令,使得用于非接触部分的线段的照射强度被设置为105%并且用于接触部分的线段的照射强度被设置为100%。
当绘图控制单元146控制激光发射装置150使用图16B所示的绘图指令在热可重写介质170上绘制图16A所示的绘图笔划时,激光发射装置150将笔划的线宽设置为40。随后,激光发射装置150将激光的照射位置移动到点(100,100),设置激光的照射强度为105%,并且从点(100,100)到点(1200,100)绘制笔划。随后,激光发射装置150将激光的照射位置移动到点(100,140),并且在等待了对应于“50”的时间间隔之后,从点(100,140)到点(103,140)绘制笔划。随后,激光发射装置150将激光的照射强度设置为100%,并且从点(103,140)到点(180,140)绘制笔划。此后,激光发射装置150根据绘图指令继续执行操作,由此在热可重写介质170上绘制(形成)清晰画出轮廓的中空字符串。
下面将参考根据第二实施例的激光发射系统的操作。
图17是由根据第二实施例的激光发射系统400执行的实例处理的流程图。这里,字符串被作为要被绘制的形状的例子。
从步骤S200到步骤S210的处理分别类似于图11所示的从步骤S100到步骤S110的处理。
在对字符串中的所有字符的形状笔划完成重叠笔划移除处理时(在步骤S210为是),第二检测单元443执行非接触部分检测处理,其中第二检测单元443对属于绘图笔划的每个笔划检测非接触部分,该非接触部分是与属于绘图笔划的另一个笔划不接触的部分(步骤S211)。下面将详细描述非接触部分检测处理。
随后,绘图指令计算单元444生成用于绘制属于由修改单元142修改的绘图笔划的每个笔划的绘图指令,使得绘制由第二检测单元443检测的非接触部分的能量大于绘制其他部分的能量(步骤S212)。
步骤S214和步骤S216的处理类似于步骤S114和步骤S116的处理。
图18是说明在图17所示的流程图中步骤S211执行的非接触部分检测处理的实例的流程图。
第二检测单元443将绘图笔划中的一个笔划指定为非接触部分检测目标(步骤S230)。
第二检测单元443将绘图笔划中的另一个笔划指定为非接触部分检测目标(步骤S232)。
随后,第二检测单元443确定被指定为非接触部分检测目标的两个笔划是否与彼此接触(步骤S234)。
如果两个笔划被确定为彼此接触(步骤S234为是),第二检测单元443记录一个笔划中的接触部分的坐标(步骤S236)。如果两个笔划被确定笔划不接触(步骤S234中为否),第二检测单元443跳过步骤S236的处理。
重复步骤S232到步骤S238,直到绘图笔划中的一个笔划和绘图笔划中的所有其他笔划之间的接触部分检测处理结束(在步骤S238为否)。
在完成绘图笔划中的一个笔划和绘图笔划中的所有其他笔划之间的接触部分检测处理时(步骤S238为是),第二检测单元443基于一个笔划中的所有接触部分的坐标,确定在绘图笔划中的一个笔划中是否存在任何非接触部分(步骤S240)。
如果在一个笔划中存在非接触部分(步骤S240为是),第二检测单元443记录非接触部分的坐标(步骤S242)。如果在一个笔划中不存在非接触部分(在步骤S240为否),第二检测单元443跳过步骤S242的处理。
重复步骤S230到步骤S244,直到完成对绘图笔划中的所有笔划的非接触部分检测处理(在步骤S244为否)。在对绘图笔划中的所有笔划完成非接触部分检测处理时(在步骤S244为是),由第二检测单元443执行的非接触部分检测处理结束。
如上所述,在第二实施例中,用于绘制绘图笔划中的非接触部分的激光的照射强度(功率)高于用于绘制其他部分的激光的照射强度。这允许清晰地画出亮度反转的形状的轮廓,由此提高质量(图像质量)。
在第二实施例中,将用于非接触部分的照射强度设置为一致的。照射强度可以根据非接触部分的数目而改变。例如,当另一个笔划既不处于一个笔划的上侧,也不处于一个笔划的下侧,与在一个笔划的上侧和下侧中任一侧与另一个笔划相邻的一个笔划相比,热更容易分散到该一个笔划的周围。由此,由于非接触部分数目的增加,照射强度可能更高。
第三实施例
在第一实施例中,描述了仅绘制绘图笔划的例子。如果线宽(颜色显影区域的宽度)相对粗,亮度反转的形状的边界上的锯齿状图案容易变得引人注目。在这种情况下,在本发明的第三实施例中,生成作为画出形状笔划的轮廓的笔划的轮廓笔划,并且除了绘图笔划,还绘制轮廓笔划。下面主要描述第三实施例和第一实施例的不同之处。将给出相同的附图标记和相同名称,而不对与第一实施例相同的那些配置增加说明。
图19是说明根据第三实施例的激光发射控制装置610的实例功能配置的框图。在第三实施例的激光发射系统600中的激光发射控制装置610与第一实施例的激光发射控制装置110的不同之处在于控制装置630额外地包括轮廓笔划生成单元643。此外,绘图指令生成单元644执行的处理与绘图指令生成单元144执行的处理不同。下面将描述这些功能单元。
轮廓笔划生成单元643生成作为画出形状笔划的轮廓的笔划的轮廓笔划。例如,如果形状笔划生成单元138生成图20A所示的形状笔划,如图20B所示,轮廓笔划生成单元643生成与图20A的形状笔划相邻的轮廓笔划。更详细地,轮廓笔划生成单元643通过布置与形状笔划平行并且与形状笔划相邻的多个笔划来生成粗的笔划。轮廓笔划生成单元643然后从粗的笔划中移除除了最外面的笔划之外的所有笔划,由此生成轮廓笔划。例如,如图20C所示,轮廓笔划生成单元643通过布置与图20A所示的形状笔划平行的两个笔划来生成粗的笔划,并且移除除了最外面的笔划之外的所有笔划,换句话说,移除在中心的形状笔划,由此生成图20B所示的轮廓笔划。
如图20D所示,轮廓笔划生成单元643可以通过闭合图20B所示的轮廓笔划的两端来生成具有闭合端点的轮廓笔划。更详细地,轮廓笔划生成单元643可以在不与另一个笔划相连的轮廓笔划的自由端部分(图20B中由虚线的圆指示)生成额外的端笔划,使得端笔划垂直于轮廓笔划。例如,在距轮廓笔划的一个自由端部分的粗的笔划的厚度的距离内,轮廓笔划生成单元643检测轮廓笔划的另一个自由端部分。轮廓笔划生成单元643设置不与每个自由地部分重叠的位置的端笔划的坐标。轮廓笔划生成单元643由此生成在轮廓笔划的一端与轮廓笔划垂直的端笔划。
参考图19,绘图指令生成单元644生成用于以绘图笔划和轮廓笔划的顺序或者以轮廓笔划和绘图笔划的顺序绘制绘图笔划和轮廓笔划的绘图指令。在第三实施例中,绘图指令生成单元644生成定义绘图笔划的绘制和轮廓笔划的绘制之间的等待时间的绘图指令。
图21A是说明以重叠方式在绘图区域中布置绘图笔划和轮廓笔划的图表。图21B是说明用于绘制图21A所示的绘图笔划和轮廓笔划的绘图指令的图表。在图21B所示的例子中,绘图指令生成单元644生成定义绘图笔划的绘制和轮廓笔划的绘制之间的等待时间为“300”的绘图指令。
当绘图控制单元146控制激光发射装置150使用图21B所示的绘图指令在热可重写介质170上绘制图21A所示的绘图笔划和轮廓笔划时,绘图控制单元146将笔划的线宽设置为40。随后,激光发射装置150将激光的照射位置移动到点(100,100),并且从点(100,100)到点(1200,100)绘制笔划。随后,激光发射装置150将激光的照射位置移动到点(100,140),并且在等待了对应于“50”的时间间隔之后,从点(100,140)到点(180,140)绘制笔划。随后,激光发射装置150根据绘图指令继续执行操作,由此在热可重写介质170上绘制(形成)绘图笔划。
此后,激光发射装置150等待对应于“300”的时间周期。随后,激光发射装置150将激光的照射位置移动到点(180,100),并且在等待了对应于“50”的时间周期之后,从点(180,100)到点(520,100)绘制笔划。此外,激光发射装置150根据绘图指令继续执行操作,由此在热可重写介质170上绘制(形成)轮廓笔划。
图22是说明要以重叠方式在热可重写介质170上绘制绘图笔划和轮廓笔划的实例的图表。在图22所示的例子中,以重叠方式绘制图23所示的绘图笔划和图20B所示的轮廓笔划。在图23所示的绘图笔划中,以重叠方式绘制笔划。
下面将参考根据第三实施例的激光发射系统的操作。
图24是根据第三实施例的激光发射系统600执行的实例处理的流程图。这里,将字符串作为要被绘制的形状。
从步骤S300到步骤S308的处理与图11的步骤S100到步骤S108的处理类似。
在步骤S308完成重叠笔划移除处理时,轮廓笔划生成单元643生成轮廓笔划,轮廓笔划为画出由形状笔划生成单元138生成的形状笔划的轮廓的笔划(步骤S309)。
重复步骤S306到步骤S310直到完成对字符串中的所有字符的形状笔划的重叠笔划移除处理(在步骤S310为否)。
在完成对字符串中的所有字符的形状笔划的重叠笔划移除处理时(步骤S310为是),绘图指令生成单元644生成用于以绘图笔划和轮廓笔划的顺序或者以相反的顺序绘制由修改单元142修改的绘图笔划和由轮廓笔划生成单元643生成的轮廓笔划(步骤S312)。
步骤S314和步骤S316的处理分别类似于步骤S114和步骤S116的处理。
如上所述,在第三实施例中,除了绘图笔划,还绘制用于填充绘图笔划的边界的锯齿形图案的轮廓笔划。这使得亮度反转的形状的边界平滑,由此提高质量(图像质量)。
此外,在绘图笔划的绘制和轮廓笔划的绘制之间设置等待时间。这允许在由绘制绘图笔划产生的热充分消散之后绘制轮廓笔划。由此,热可重写介质的温度没有比要求的增加,并且预防了介质的恶化。
硬件配置
下面将描述根据第一、第二和第三实施例的激光发射控制装置的硬件配置。
图25是说明根据第一、第二和第三实施例的激光发射控制装置110、410、610的实例配置的框图。激光发射控制装置110、410、610包括总线700、以及连接至总线的CPU 701、存储器702,例如动态RAM(DRAM)、驱动装置703、通信接口(I/F)704、HDD 705、输入装置706、以及显示控制装置707。连接至总线的单元被配置为能够通过总线700彼此通信。
HDD 705预先存储由CPU 701操作的计算机可读程序代码和各种数据、例如字符和符号的字体数据。HDD 705还存储用于控制激光发射装置150的计算机可读控制程序代码。CPU 701根据从HDD 705读出的程序代码来控制激光发射系统100、400和600,同时使用存储器702作为工作存储器。
可拆卸的存储介质710被装配在驱动装置703中以从存储介质710读取数据。由驱动装置703支持的存储介质710的例子包括磁盘存储介质(例如光盘(CD)和数字多媒体磁盘(DVD))以及可重写非易失性半导体存储器(例如电可擦除可编程ROM(EEPROM))。
例如,可以在存储介质710中记录要被存储在HDD 705中的控制程序代码和字体数据。驱动装置703从存储介质710中读出控制程序代码和字体数据,并且将它们存储在HDD 705中,由此控制程序代码被装配到激光发射控制装置110、410、610中。
通信I/F 704是激光发射控制装置110、410、610和激光发射装置150之间的接口。CPU 701通过通信I/F 704执行与激光振荡器152和方向控制马达158的通信,以控制激光振荡器152和方向控制马达158。例如,通信I/F 704可适用于串行接口,例如电子和电器工程师协会(IEEE)1394和通用串行总线(USB),并且通过串行接口控制激光发射装置150。同时,可适用于通信I/F 704的接口不局限于有线通信,也可以适用于无线通信,例如无线USB和蓝牙(注册商标)。激光发射控制装置110、410、610和激光发射装置150可以被配置为在一个外壳中。在这种情况下,通信I/F 704可以被配置为用于内部通信的接口。
输入装置706根据用户操作对CPU 701输出控制信号。CPU 701基于程序代码,根据来自输入装置706的控制信号控制激光发射系统100、400和600,以根据用户操作操作激光发射系统100、400和600。
显示控制装置707连接至显示器708,显示器708包括和使用液晶显示器(LCD)等作为显示装置。显示控制装置707将CPU 701根据程序代码生成的显示控制信号转换为用于在显示器708上提供视觉表达的信号,并且将该信号发送至显示器708。可以通过使用显示器708上的视觉表达或使用输入装置706来提供在操作激光发射系统100、400和600中使用的图形用户界面(GUI)。例如,GUI允许在显示器708上显示在输入要被绘制到热可重写介质170上的字符或信号中使用的输入域。提示用户根据GUI提供的向导从输入装置706输入字符或信号。
可以在HDD中以列表的形式存储或者可以通过输入装置706输入要被绘制在热可重写介质170上的形状(例如字符和/或符号)的数据。形状由例如Unicode或JIS代码的字符代码指定。激光发射控制装置110、410、610通过从HDD 705读取用于字符代码的字体数据,并且将字体数据转换为绘图指令,来控制激光发射装置150。
可以预先在存储器702中的ROM中存储根据第一、第二和第三实施例的激光发射控制装置110、410和610执行的绘图程序代码。
可选地,根据第一、第二和第三实施例的激光发射控制装置110、410和610执行的绘图程序代码可以以可安装或可执行的格式被记录在计算机可读存储介质中,例如CD-ROM、软盘(FD)、可记录CD(CD-R)、或DVD。
由根据第一、第二和第三实施例的激光发射控制装置110、410和610执行的绘图程序代码可以被存储在连接至例如因特网的网络的计算机中,使得通过网络可以下载程序代码。可选地,可以通过例如因特网的网络提供或分发由根据第一、第二和第三实施例的激光发射控制装置110、410和610执行的绘图程序代码。
由根据第一。第二和第三实施例的激光发射控制装置110、410和610执行的绘图程序代码中的每一个具有模块配置,使得在计算机中实现上述单元。从实际硬件的观点,CPU 701从存储器702中的ROM读取绘图程序代码以执行程序代码,由此可以在计算机上实现上述单元。
根据本发明,可以使用减少的绘图时间来绘制亮度反转的形状。
尽管为了完整和清楚的公开关于特定实施例描述了本发明,所附的权利要求并不由此受限,而是被构造为体现本领域普通技术人员所能进行的所有修改和替换结构,其完全落入本发明的基本教导中。
Claims (7)
1.一种绘图控制装置,包括:
填充笔划生成单元,用于生成包括填充在绘图区域的多个笔划的填充笔划;
形状笔划生成单元,用于生成形状笔划,形状笔划是要被形成在绘图区域上的形状的笔划;
第一检测单元,用于检测填充笔划和形状笔划彼此重叠的重叠部分;
修改单元,用于从填充笔划移除重叠部分以修改填充笔划来获得绘图笔划;
绘图指令生成单元,生成用于绘制绘图笔划中的每个笔划的绘图指令;以及
绘图控制单元,用于通过使用绘图指令来使得绘图装置在物体上绘制绘图笔划从而控制所述绘图装置,所述绘图装置是用于通过将能量转移到物体上来在物体上绘制可视信息的装置。
2.根据权利要求1所述的绘图控制装置,还包括第二检测单元,对于绘图笔划中的每个笔划检测作为与绘图笔划中的另一个笔划不接触的部分的非接触部分,其中
绘图指令生成单元生成绘图指令,使得绘制每个笔划中的非接触部分的能量大于绘制其他部分的能量。
3.根据权利要求1或2所述的绘图控制装置,还包括轮廓笔划生成单元,用于生成轮廓笔划,轮廓笔划是画出形状笔划的轮廓的笔划,其中
绘图指令生成单元生成用于以绘图笔划和轮廓笔划的顺序或相反的顺序绘制绘图笔划和轮廓笔划的绘图指令。
4.根据权利要求3所述的绘图控制单元,其中,
绘图指令生成单元生成限定绘制绘图笔划和绘制轮廓笔划之间的等待时间的绘图指令。
5.根据权利要求1到4中任一项所述的绘图控制装置,其中,绘图区域包括围绕要绘制形状笔划的区域的边缘区域,所述边缘区域等于或宽于形状笔划的线宽。
6.一种激光发射系统,包括:
根据权利要求1到5中任一项所述的绘图控制装置;以及
绘图装置,包括:
激光振荡器,根据绘图指令振荡激光;
方向控制镜,控制激光的照射方向;以及
方向控制马达,根据绘图指令驱动方向控制镜,由此使得物体被使用激光照射。
7.一种绘图方法,包括:
通过填充笔划生成单元生成包括填充在绘图区域的多个笔划的填充笔划;
通过形状笔划生成单元生成作为要被形成在绘图区域上的形状的笔划的形状笔划;
通过第一检测单元检测填充笔划和形状笔划彼此重叠的重叠部分;
通过修改单元从填充笔划移除重叠部分以修改填充笔划来获得绘图笔划;
通过绘图指令生成单元生成用于绘制绘图笔划中的每个笔划的绘图指令;以及
通过绘图控制单元通过使用绘图指令来使得绘图装置在物体上绘制绘图笔划从而控制所述绘图装置,所述绘图装置是用于通过将能量转移到物体上来在物体上绘制可视信息的装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103213404A (zh) * | 2012-01-17 | 2013-07-24 | 株式会社理光 | 信息处理设备、信息处理方法和系统 |
CN106476479A (zh) * | 2016-09-20 | 2017-03-08 | 北京理工大学 | 一种支持手绘和svg文件导入的可变绘图比例绘图小车 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8594740B2 (en) | 2008-06-11 | 2013-11-26 | Pantech Co., Ltd. | Mobile communication terminal and data input method |
JP5659871B2 (ja) | 2010-11-24 | 2015-01-28 | 株式会社リコー | サーマルリライタブルメディア描画装置、制御方法、および制御プログラム |
JP5664169B2 (ja) | 2010-11-24 | 2015-02-04 | 株式会社リコー | サーマルメディア描画装置 |
JP5810555B2 (ja) * | 2011-03-01 | 2015-11-11 | 株式会社リコー | レーザ描画装置 |
JP5971041B2 (ja) | 2011-11-25 | 2016-08-17 | 株式会社リコー | 情報処理装置、システム、情報処理方法、プログラム、記憶媒体 |
JP6264970B2 (ja) * | 2014-03-17 | 2018-01-24 | 株式会社リコー | 負荷推定装置、レーザー光照射システム、負荷推定方法 |
DE202015006142U1 (de) | 2014-09-02 | 2015-12-09 | Apple Inc. | Elektronische Touch-Kommunikation |
JP6616368B2 (ja) * | 2017-09-14 | 2019-12-04 | ファナック株式会社 | レーザ加工前に光学系の汚染レベルに応じて加工条件を補正するレーザ加工装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1117155A (zh) * | 1993-10-06 | 1996-02-21 | 株式会社日立制作所 | 信息处理装置 |
JP2004334884A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Seiko Epson Corp | マルチレベル・マルチ周波数の平滑スクリーンの高速設計 |
CN101037053A (zh) * | 2006-03-14 | 2007-09-19 | 株式会社理光 | 图像处理方法和图像处理装置 |
CN101112735A (zh) * | 2006-07-27 | 2008-01-30 | 株式会社其恩斯 | 激光加工装置、激光加工条件设定装置、方法、及程序 |
CN101219609A (zh) * | 2006-12-26 | 2008-07-16 | 株式会社理光 | 图像处理方法及图像处理装置 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62151350A (ja) * | 1985-12-25 | 1987-07-06 | Canon Inc | 印刷装置 |
JPS6413588A (en) | 1987-07-07 | 1989-01-18 | Nec Corp | Blanked character graphic generation system |
JPH06274142A (ja) | 1993-03-18 | 1994-09-30 | Fujitsu Ltd | アウトラインフォントのキャッシュ方式 |
GB9318805D0 (en) * | 1993-09-10 | 1993-10-27 | Ici Plc | Laser dye thermal fransfer printing |
JP4006198B2 (ja) | 2000-07-21 | 2007-11-14 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録方法、記録装置およびデータ処理方法 |
JP2002334341A (ja) | 2001-05-11 | 2002-11-22 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像処理装置 |
JP2002346773A (ja) * | 2001-05-24 | 2002-12-04 | Horiba Ltd | 銘板の印刷装置および印刷方法 |
JP3725841B2 (ja) * | 2002-06-27 | 2005-12-14 | 株式会社東芝 | 電子ビーム露光の近接効果補正方法、露光方法、半導体装置の製造方法及び近接効果補正モジュール |
JP4570389B2 (ja) | 2004-04-26 | 2010-10-27 | アライ株式会社 | レーザマーキングによる2次元コードの形成方法、及びレーザマーキング装置 |
JP4575927B2 (ja) | 2007-03-27 | 2010-11-04 | 日立公共システムエンジニアリング株式会社 | 画像処理装置、画像処理プログラム |
JP4867946B2 (ja) | 2008-03-31 | 2012-02-01 | ブラザー工業株式会社 | 画像読取装置 |
JP2010016754A (ja) * | 2008-07-07 | 2010-01-21 | Riso Kagaku Corp | 画像形成装置および画像形成方法 |
JP5397070B2 (ja) | 2008-08-13 | 2014-01-22 | 株式会社リコー | 制御装置、レーザ照射装置、最適化フォントデータdb、記録方法、プログラム、記憶媒体 |
JP2010182371A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Sae Magnetics (Hk) Ltd | 回折素子と、光ピックアップと、光学記録および再生装置 |
-
2010
- 2010-08-17 JP JP2010182371A patent/JP5699481B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-26 CN CN201010523932.6A patent/CN102054286B/zh not_active Expired - Fee Related
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- 2010-10-26 EP EP10188927.7A patent/EP2320353B1/en not_active Not-in-force
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1117155A (zh) * | 1993-10-06 | 1996-02-21 | 株式会社日立制作所 | 信息处理装置 |
JP2004334884A (ja) * | 2003-05-09 | 2004-11-25 | Seiko Epson Corp | マルチレベル・マルチ周波数の平滑スクリーンの高速設計 |
CN101037053A (zh) * | 2006-03-14 | 2007-09-19 | 株式会社理光 | 图像处理方法和图像处理装置 |
CN101112735A (zh) * | 2006-07-27 | 2008-01-30 | 株式会社其恩斯 | 激光加工装置、激光加工条件设定装置、方法、及程序 |
CN101219609A (zh) * | 2006-12-26 | 2008-07-16 | 株式会社理光 | 图像处理方法及图像处理装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103213404A (zh) * | 2012-01-17 | 2013-07-24 | 株式会社理光 | 信息处理设备、信息处理方法和系统 |
CN106476479A (zh) * | 2016-09-20 | 2017-03-08 | 北京理工大学 | 一种支持手绘和svg文件导入的可变绘图比例绘图小车 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102054286B (zh) | 2015-11-25 |
US20110096040A1 (en) | 2011-04-28 |
US8947485B2 (en) | 2015-02-03 |
EP2320353A2 (en) | 2011-05-11 |
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JP2011116114A (ja) | 2011-06-16 |
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