CN101961956A - 处理液的喷射头单元及具有该单元的处理液喷射装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种减少由喷头数增加所产生的设置费用,保养修护容易的处理液喷射头单元和具有该单元的处理液喷射装置。本发明的处理液喷射头单元(200)包括:支架(210);和一个处理液供给模块(220),设置在架(210)上;和多个处理液喷头(270),以中央集中方式与一个处理液供给模块220流体连通地形成在支架(210)上,以喷墨方式向基板(S)上喷射处理液。
Description
技术领域
本发明涉及处理液的喷射头单元以及具有该单元的处理液喷射装置,尤其涉及以喷墨方式喷射处理液的喷射头单元以及具有该单元的处理液喷射装置。
背景技术
一般地,液晶显示装置通过使液晶层所调制的光通过彩色滤光片来显示全彩色。并且,彩色滤光片是由,将R(红)、G(绿)、B(蓝)的点上的各色相的滤光片元件在玻璃基板表面排列成条纹阵列、德尔塔阵列、或者马赛克阵列等所形成的。
在液晶显示装置的制造工序中,为了制造彩色滤光片、定向膜等,需在玻璃基板表面供给、涂覆处理液。作为涂覆该处理液的处理液涂覆装置,向基板表面喷涂处理液的喷墨式涂覆装置已为大众所知。
处理液涂覆装置利用多个处理液供给装置以喷墨打印方式涂覆处理液。处理液供给装置包含喷头,该喷头具有多个向基板供给处理液的喷嘴,喷头由位于上部的容器(Reservoir)供给处理液,通过喷嘴向基板表面喷射处理液。
【专利文件1】韩国公开专利第10-2003-0065347号公报
发明内容
然而,现有的处理液涂覆装置,由于每个喷头都各自拥有容器和与之相关的处理液配管系统,因此,不仅因喷头个数的增加所产生的设置费用增加,而且不容易保养修护(Maintenance)。
另外,现有的处理液涂覆装置,由于控制喷头的喷头控制部和喷头是分开设置的,因此,存在控制信号传输中产生噪音(Noise)的问题。
另外,现有的处理液涂覆装置,存在因喷头受到台架施加的偏心负荷而对台架作用力矩力,使喷头和基板不能维持一定间隔的问题。
本发明的目的在于,提供一种能够减少因喷头数增加所产生的设置费用,容易保养修护的处理液喷射头单元以及具有该单元的处理液喷射装置。
另外,本发明提供一种在喷头控制部和喷头之间的控制信号传输过程中,使产生的噪音最小化的处理液喷射头单元以及具有该单元的处理液喷射装置。
另外,本发明提供一种使喷头和基板之间能够维持一定间隔的处理液喷射头单元以及具有该单元的处理液喷射装置。
另外,本发明的目的不限定于这些,未提及的其他目的等,对于本领域人员可以从说明书记载的内容中明确。
为解决上述问题,作为本发明提供的第一方式,处理液喷射头单元,包括:支架;和一个处理液供给模块,设置在该支架上;和多个处理液喷头,以中央集中方式与该一个处理液供给模块流体连通(Fluid Communication)地构成在支架上,以喷墨方式向基板喷射处理液。
该处理液喷射头单元中,处理液供给模块包括:处理液箱,设置在支架上,向多个处理液喷头供给处理液;和气泡去除部件,设置在该处理液箱内,去除该处理液箱内的处理液的气泡。
该处理液箱包括:一个相互相对的面开放的壳体;和第一侧壁,与该壳体开放的一个面相结合,构成处理液的流入口和第一流出口;和第二侧壁,与壳体开放的另一个面相结合,构成处理液的第二流出口。
另外,处理液箱进一步包括压力调节口,构成在壳体的上部壁,连接调节处理液箱内的负压或正压的压力调节部件。
第一侧壁内部形成中空部,在周边区域形成台阶,流入口构成在中空部的上部壁。
另外,处理液供给模块进一步包括颗粒过滤部件,构成在壳体和第一侧壁之间,过滤通过流入口流入壳体的处理液中的颗粒。
另外,气泡去除部件包括:气泡去除过滤器,具有一端填满的中空圆筒形状,构成在壳体中,仅透过除处理液的液体成分之外的气泡;和接合器,与该气泡去除过滤器开放的另一端连接,设置在壳体的侧壁上,连接调节负压的泵。
该气泡去除过滤器的气孔沿气泡去除过滤器的半径方向越向内侧越小。
另外,支架由横梁(Beam)形状的水平部件构成;处理液喷头包括沿长方向相互相对地配置在支架的下段部的第一和第二喷头。
另外,处理液供给模块设置在支架的上段中心部。
该处理液供给模块包括:第一分配部件,与第一侧壁相结合,与第一流出口流体连通,向第一喷头分配处理液;和第二分配部件,与第二侧壁相结合,与第二流出口流体连通,向第二喷头分配处理液。
该第一和第二流出口包括一对沿第一和第二侧壁的长方向构成在上下间隔的位置上的上部流出口和下部流出口;第一和第二分配部件包括:中空筒状的分配器壳体;和一对上部和下部分配器流入口,构成在分配器壳体的一侧,与上部和下部流出口连通;和一对上部和下部分配器流出口,与上部和下部分配器流入口相对地构成在壳体的另一侧;上部和下部分配器流出口与各个处理液喷头流体连通。
该上部分配器流入口构成在高于上部分配器流出口的位置,下部分配器流入口构成在高于下部分配器流出口的位置。
另外,进一步包括喷头控制部,分别设置在沿支架的长方向的侧壁上,控制所述第一和第二喷头的喷射动作。
下面,作为本发明提供的第二方式,处理液喷射装置为喷墨式的处理液喷射装置,包括:基板支持单元,承载基板,沿第一方向直线移动;和处理液喷射头单元,构成在基板支持单元移动的路径上,并且向基板上喷射处理液;处理液喷射头单元包括:支架;和一个处理液供给模块,设置在该支架上;和多个处理液喷头,以中央集中方式与该一个处理液供给模块流体连通地构成在支架上,以喷墨方式向基板上喷射处理液。
在该处理液喷射装置中,支架由长方向朝向与第一方向垂直的第二方向的水平部件构成;处理液喷头包括沿长方向相互相对地配置在架的下段部的第一和第二喷头。
处理液供给模块设置在支架的上段中心部。
另外,进一步包括喷头控制部,分别设置在沿支架的长方向的侧壁上,控制第一和第二喷头的喷射动作。
另外,进一步包括移动单元,使处理液喷射头单元沿第一方向直线移动。
另外,进一步包括:主供给带,连接处理液的供给源和处理液的回收部件;和分支带,从该主供给带分支,连接处理液供给模块;和感知部件,配置在该分支带的分支位置和回收部件之间的主供给带上,检测该主供给带中有无处理液。
另外,处理液供给模块包括:处理液箱,向第一和第二喷头供给处理液;和气泡去除部件,设置在该处理液箱内,去除该处理液箱内的处理液的气泡。
另外,该处理液箱包括:一个相互相对的面开放的壳体;和第一侧壁,与该壳体开放的一个面相结合,构成处理液的流入口和第一流出口;和第二侧壁,与壳体开放的另一个面相结合,构成处理液的第二流出口。
另外,处理液供给模块进一步包括颗粒过滤部件,构成在壳体和第一侧壁之间,过滤通过流入口流入壳体的处理液的颗粒。
另外,处理液供给模块包括:第一分配部件,与第一侧壁相结合,与第一流出口流体连通,向第一喷头分配处理液;和第二分配部件,与第二侧壁相结合,与第二流出口流体连通,向第二喷头分配处理液。
该第一和第二流出口包括一对沿第一和第二侧壁的长方向构成在上下间隔的位置上的上部流出口和下部流出口;第一和第二分配部件包括:中空筒状的分配器壳体;和一对上部和下部分配器流入口,构成在分配器壳体的一侧,与上部和下部流出口连通;和一对上部和下部分配器流出口,构成在壳体的另一侧,与上部和下部分配器流入口相对;上部和下部分配器流出口与各个处理液喷头流体连通。
该上部分配器流入口构成在高于上部分配器流出口的位置,下部分配器流入口构成在高于下部分配器流出口的位置。
通过本发明,能够减少由喷头数增加所产生的设置费用。
另外,通过本发明,能够容易地保养修护处理液喷射头单元。
另外,通过本发明,能够在喷头控制部和喷头之间传输控制信号过程中,使产生的噪音最小。
进一步地,通过本发明,能够使喷头和基板之间维持一定的间隔。
附图说明
图1为本发明实施例提供的处理液涂覆设备的主视图;
图2为图1的处理液喷射部的立体图;
图3为图2的处理液喷射头单元的立体图;
图4为图2的处理液喷射头单元的侧视图;
图5为图2的处理液喷射头单元的主视图;
图6为图3的处理液供给模块的立体图;
图7为图6的处理液供给模块的分解立体图;
图8为图7的壳体放大图;
图9为图7的气泡去除过滤器的截面图;
图10a为图6的分配部件的立体图;
图10b为图6的分配部件的立体图;
图11为图10a和图10b的分配部件的截面图;
图12为向处理液供给模块供给处理液的处理液配管系统的示意图;
图13为向处理液供给模块供给的处理液的流动示意图;
图14a为利用分配部件去除处理液中的气泡的工序示意图;
图14b为利用分配部件去除处理液中的气泡的工序示意图;
图14c为利用分配部件去除处理液中的气泡的工序示意图。
符号说明
100、基板支持单元,200、处理液喷射头单元,210、支架,220、处理液供给模块,230、处理液箱,240、颗粒过滤部件,250、气泡去除部件,260a、第一分配部件,260b、第二分配部件,270、处理液喷头,280、喷头控制部。
具体实施方式
以下,参考附图对本发明优选实施例提供的处理液喷射头单元和具有该单元的处理液喷射装置进行详细说明。首先,在各图的构成元件的符号中,针对相同的构成元件,在不同的图中也标注为相同的符号。另外,在本发明的说明中,当判断出相关的公知技术构成或针对功能的具体说明,有可能妨碍本发明主旨的理解时,省略详细说明。
图1为喷墨式的处理液涂覆设备1的主视图。图1的处理液涂覆设备1为以喷墨方式向对象物涂覆处理液的设备。例如,对象物为液晶显示面板的彩色滤光片基板,处理液为溶剂中混合了颜料粒子红(R)、绿(G)、蓝(B)等的墨水。
以下,以向彩色滤光片基板涂覆墨水的设备为例进行说明,但本发明的技术思想并不局限于此。
图1中,处理液涂覆设备1包括:处理液喷射部10、基板运送部20、烘烤部30、装载部40、卸载部50、处理液供给部60以及主控制部70。处理液喷射部10和基板运送部20沿第一方向I配置成一列,处于相互邻接的位置。在以处理液喷射部10为中心、与基板运送部20相对的位置上配置处理液供给部60和主控制部70,处理液供给部60和主控制部70沿第二方向II配置成一列。在以基板运送部20为中心、与处理液喷射部10相对的位置上配置装载部40和卸载部50,装载部40和卸载部50沿第二方向II配置成一列。并且,烘烤部30邻接配置在基板运送部20的一侧。
在此,第一方向I为处理液喷射部10和基板运送部20的排列方向,第二方向II为在水平面上与第一方向I垂直的方向,第三方向III为与第一方向I和第二方向II垂直的方向。
涂覆有处理液(墨水)的基板被送入装载部40。基板运送部20将送入装卸部40的基板运送至处理液喷射部10。处理液喷射部10由处理液供给部60供给处理液,以喷墨方式向基板喷射处理液。基板运送部20将基板从处理液喷射部10运送至烘烤部30。烘烤部30加热基板,使喷射在基板上的除处理液固态成分外的其余液状物质(溶剂)蒸发。基板运送部20将基板从烘烤部30运送至卸载部50。涂覆有处理液的基板从卸载部50被运出。并且,主控制部70控制处理液喷射部10、基板运送部20、烘烤部30、装载部40、卸载部50以及处理液供给部60的全体动作。
图2是图1的处理液喷射部10的立体图。参考图2,处理液喷射部10包括:基板支持单元100、处理液喷射头单元200以及移动单元300。
基板支持单元100设有承载基板S的支持板110。支持板110为四方形状的板。支持板110的下面连接旋转驱动电机120的旋转轴。旋转驱动电机120使支持板110旋转,以使承载在支持板110上的基板向既定位置调整。旋转驱动电机120构成在滑块130的上面。导轨部件140在基座B的上面的中央部沿第一方向I延伸。滑块130内装有线性电动机(未图示),滑块130沿着导轨部件140在第一方向I上直线移动。
处理液喷射头单元200构成在基板支持单元100的移动路径上,向基板喷射处理液。喷射头单元200设有支架210。支架210构成为其长方向朝向与第一方向I垂直的第二方向II。支架210上设置有处理液供给模块220、处理液喷头270以及喷头控制部280。处理液喷头270构成在支架210的下段部,向基板喷射处理液。处理液供给模块220构成在支架210的上段部,向处理液喷头270供给处理液。喷头控制部280控制处理液喷头270的喷射动作。
喷射头单元200固定在基座B上,另外,喷射头单元200通过移动单元300沿第一方向I直线移动。
移动单元300使处理液喷射头单元200从支持板110移动的路径上部沿第一方向I直线移动。第一移动单元300包含导轨310和滑块320。导轨310的长方向朝向第一方向I,以基板支持单元100的导轨部件140为中心相互相对地分别设置在基座B上面的两侧。滑块320设置在导轨310上,内装有线性电机。滑块320由线性电机驱动沿导轨310在第一方向I上直线移动。
喷射头单元200因第一移动单元300在第一方向I上直线移动,承载了基板的支持板110通过滑块130和导轨部件140在第一方向I上直线移动。向基板喷射处理液时,一边使支持板110和喷射头单元200中的任意一个在第一方向I上直线移动,一边进行处理液喷射工序。例如,喷射头单元200固定在既定的位置上,承载了基板的支持板110在第一方向I上移动,支持板110进行至少两次以上的直线往复移动,以反复进行对基板的处理液喷射工序。另外,也可以让承载了基板的支持板110固定在既定的位置上,喷射头单元200在第一方向I上移动,喷射头单元200进行至少两次以上的直线往复移动,以反复进行对基板的处理液喷射工序。反复进行两次以上的处理液喷射工序的理由是为了使涂在基板上的处理液的涂覆厚度均等。
图3是图2的喷射头单元200的立体图,图4是图2的喷射头单元200的侧视图,图5是图2的喷射头单元200的主视图。
参考图3-图5,喷射头单元200包括:支架210、处理液供给模块220、处理液喷头270以及喷头控制部280。
支架210包括主支架212和喷头支持台214。主支架212由横梁(Beam)形状的水平部件构成,主支架212构成为长方向朝向与第一方向I垂直的第二方向II。
在主支架212的下部构成支撑处理液喷头270的喷头支持台214。喷头支持台214设有构成在主支架212下部的喷头支持板215a、215b。喷头支持板215a、215b是长方向朝向第二方向II的板,喷头支持板215a、215b在主支架212下方水平分开配置。喷头支持板215a、215b通过连接杆217与主支架212结合。连接杆217垂直地构成,朝向第三方向III,连接杆217的一端与喷头支持板215a、215b的角部分结合,连接杆217的另一端与主支架212的下面结合。
在架210上设置一个处理液供给模块220。例如,处理液供给模块220设置在主支架212的上面中心部。处理液喷头270以中央集中方式与一个处理液供给模块220流体连通(Fluid Communication)地构成。即,处理液喷头270构成为由一个处理液供给模块220供给处理液,能通过一个处理液供给模块220进行压力调节。与其相关的详细说明见后文。
处理液喷头270以喷墨方式向基板喷射处理液。处理液喷头270包括:在第一喷头支持板215a上沿该长方向配置的第一喷头272,和在第二喷头支持板215b上沿该长方向配置的第二喷头274;第一和第二喷头272、274相互相对地配置。
第一喷头272在第一喷头支持板215a上呈锯齿形状配置成两列,末端相互重叠配置。在第一喷头272的下面,形成多个喷射处理液的喷嘴(未图示),在第一喷头272的上面形成处理液流入口272-2和处理液流出口272-1。处理液流入口272-2与后述的第一分配部件260a的下部分配器流出口266a-2连接,处理液流出口272-1与后述的第一分配部件260a的上部分配器流出口266a-1连接。并且,在第一喷头272的一侧,构成与第一喷头控制部280a电连接的软性电路基板273。
第二喷头274在第二喷头支持板215b上呈锯齿形状配置成两列,末端相互重叠配置。在第二喷头274的下面,形成多个喷射处理液的喷嘴(未图示),在第二喷头274的上面,形成处理液流入口274-2和处理液流出口274-1。处理液流入口274-2与后述的第二分配部件260b的下部分配器流出口266b-2连接,处理液流出口274-1与后述的第二分配部件260b的上部分配器流出口266b-1连接。并且,在第二喷头274的一侧,构成与第二喷头控制部280b电连接的软性电路基板(未图示)。
这样,喷头272、274在支架210的下段部以支架210为中心对称地配置时,因喷头272、274的自重施加在支架210上的力矩力等相互抵消,因此,能够容易地调节喷头272、274和基板的间隔。
喷头控制部280包括第一喷头控制部280a和第二喷头控制部280b。第一喷头控制部280a配置在沿主支架212的长方向的一侧侧壁,即第一喷头支持板215a侧的侧壁。在第一喷头支持板215a上设置的第一喷头272通过软性电路基板273与第一喷头控制部280a电连接,第一喷头控制部280a控制第一喷头272的动作。
第二喷头控制部280b配置在沿主支架212的长方向的另一侧侧壁,即第二喷头支持板215b侧的侧壁。在第二喷头支持板215b上设置的第二喷头274通过软性电路基板(未图示)与第二喷头控制部280b电连接,第二喷头控制部280b控制第二喷头274的动作。
这样,第一和第二喷头控制部280a、280b配置在与成为控制对象的第一和第二喷头272、274邻接的位置上,它们之间的电连接部分的长度变短,因此,能够使喷头控制部280a、280b和喷头272、274之间的控制信号传输所产生的噪音最小。
图6是图3的处理液供给模块的立体图,图7是图6的处理液供给模块的分解立体图。并且,图8是图7的壳体的放大图,图9是图7的气泡去除过滤器的截面图。
参考图6-图9,处理液供给模块220包括:处理液箱230,颗粒过滤部件240,气泡去除部件250以及第一和第二分配部件260a、260b。
处理液箱230供给向基板喷射的处理液。颗粒过滤部件240过滤处理液箱230所供给的处理液中的颗粒。气泡去除部件250去除处理液箱230所供给的处理液中的气泡(Bubble)。第一和第二分配部件260a、260b为第一和第二喷头(图5的符号273、274)分配处理液箱230所供给的处理液。
处理液箱230有一个相互相对的面开放的形状,即“口”形状的壳体232。具体地,壳体232包括上部壁232a,下部壁232b以及与上部壁232a和下部壁232b连接的侧壁232c、232d。在上部壁232a上构成压力调节口233-1和测位口233-2。压力调节口233-1与将处理液箱230内调节成负压或正压的压力调节部件(未图示)连接。在测位口233-2上设置检测处理液箱230中处理液水位的液位传感器(未图示)。
处理液箱230的侧壁232c、232d中的任意一个侧壁232d上形成孔232d-1,在孔232d-1中设置气泡去除部件250。气泡去除部件250去除处理液箱230中处理液的气泡。
气泡去除部件250包括气泡去除过滤器252和接合器254。气泡去除过滤器252具有一端填满的中空圆筒形状,构成在处理液箱230的壳体232中。在气泡去除过滤器252的截面内,如图9所示,构成了多个气孔253。气孔253构成为沿气泡去除过滤器252的半径方向越向内侧越小。气孔253仅使除处理液的液体成分外的气泡成分透过。气泡去除过滤器252开放的另一端与接合器254连接。接合器254插入到形成在处理液箱230的壳体232的侧壁232d上的孔232d-1内,接合器254与调节负压的泵(未图示)连接。通过泵使气泡去除过滤器252内侧的中空部呈负压时,处理液中的气泡通过气泡去除过滤器252的气孔253被透过排出。
处理液箱230的壳体232开放的一面与第一侧壁234结合,壳体232开放的另一面与第二侧壁238结合。在第一侧壁234的内面,内部形成中空部234-1,在周边区域形成台阶。在中空部234-1的上部壁上构成流入口235,通过流入口235向处理液箱230供给处理液。并且,在第一侧壁234和壳体232之间构成颗粒过滤部件240,颗粒过滤部件240过滤通过流入口235流入处理液箱230的处理液的颗粒。
在第一侧壁234上形成流出处理液的第一流出口236。第一流出口236包括上部流出口236a和下部流出口236b。下部流出口236b沿第一侧壁234的长方向在第一侧壁234的下段部形成一列。上部流出口236a在与下部流出口236b的上部分离的位置上形成一列。构成在上下间隔的位置上的上部流出口236a和下部流出口236b各自构成一对。在第一侧壁234上,与第一流出口236流体连通地结合第一分配部件260a,第一分配部件260a为第一喷头(图5的符号272)分配处理液。
在第二侧壁238上形成流出处理液的第二流出口239。第二流出口239包括上部流出口239a和下部流出口239b。下部流出口239b沿第二侧壁238的长方向在第二侧壁238的下段部形成一列。上部流出口239a在与下部流出口239b的上部间隔的位置上形成一列。构成在上下间隔的位置上的上部流出口239a和下部流出口239b各自构成一对。在第二侧壁238上,与第二流出口239流体连通地结合第二分配部件260b,第二分配部件260b为第二喷头(图5的符号274)分配处理液。
图10a和图10b是图6的分配部件260a、260b的立体图,图11是图10a和图10b的分配部件260a、260b的截面图。另外,第一和第二分配部件260a、260b是相同的构造,因此,以第一分配部件260a为例进行说明。
参考图7、图10-图11,第一分配部件260a包括:分配器壳体262a,上部和下部分配器流入口264a-1、264a-2,上部和下部分配器流出口266a-1、266a-2。分配器壳体262a构成为内部形成中空部263的空筒形状,具有与第一侧壁234对应的长度。
上部和下部分配器流入口264a-1、264a-2构成在分配器壳体262a的一侧,与中空部263连通。下部分配器流入口264a-2沿分配器壳体262a的长方向在下段部构成一列,与构成在处理液箱230的第一侧壁234的下部流出口236b对应。上部分配器流入口264a-1在与下部分配器流入口264a-2上部的间隔的位置上构成一列,与形成在处理液箱230的第一侧壁234的上部流出口236a对应。
上部和下部分配器流出口266a-1、266a-2构成分配器壳体262a的另一侧,使其与中空部263连通,与上部和下部分配器流入口264a-1、264a-2相对。上部分配器流出口266a-1与第一喷头(图5的符号272)的处理液流出口(图5的符号272-1)连接,下部分配器流出口264a-2与第一喷头272的处理液流入口(图5的符号272-2)连接。
如图11所示,上部分配器流入口264a-1构成在铅直方向上高于上部分配器流出口266a-1的位置,下部分配器流入口264a-2构成在铅直方向高于下部分配器流出口的位置。
另外,由于第二分配部件260b的构成与第一分配部件260a的构成相同,因此,省略与其相关的详细说明。但是,关于第二分配部件260b,图4和图5的符号266b-1是上部分配器流出口,266b-2是下部分配器流出口。上部分配器流出口266b-1与第二喷头(图5的符号274)的处理液流出口(图5的符号274-1)连接,下部分配器流出口266b-2与第二喷头(图5的符号274)的处理液流入口(图5的符号274-2)连接。
以下,对由处理液供给部(图1的符号60)向位于最终端的处理液喷头(图2的符号270)供给处理液的工序进行说明。
首先,对从处理液供给部60向处理液供给模块220供给处理液的工序进行说明。图12是向处理液供给模块供给处理液的处理液配管系统的示意图。
参考图12,处理液供给部60包括:处理液供给源410,和处理液回收部件420;处理液供给源410和处理液回收部件420通过主供给带430连接。从主供给带430分支出多个分支带440a~440e。分支带440a~440e与处理液供给模块220连接,在分支带440a~440e上设置阀门442。在分支带440e的后端设置阀门432,在阀门432和处理液回收部件420之间设置检测主供给带430中有无处理液的感知部件434。
在分支带440a~440e上的阀门442关闭,主供给带430上的阀门432打开的状态下,通过主供给带430从处理液供给源410处进行处理液供给。处理液沿着主供给带430流到感知部件434的位置处。感知部件434检测处理液的流动,将检测结果传送给控制部(未图示)。控制部关闭主供给带430上的阀门432,打开供给处理液的分支带440a上的阀门,向处理液供给模块220供给处理液。此时,通过感知部件434的处理液在处理液回收部件420处被回收。
这样,处理液初期供给时,处理液充填入主供给带430之后,若通过分支带440a供给处理液,则能够将因主供给带430中的空气而在向处理液供给模块220供给的处理液中产生气泡的可能性抑制到最小。
并且,处理液供给模块220与空压带520连接,空压带520与将处理液供给模块220内调节成负压或正压的压力调节部件510连接。压力调节部件510为防止从处理液供给模块220的喷头泄漏处理液而调节成负压,为向外排出处理液供给模块220中的处理液而调节成正压。
下面,对从处理液供给模块220中输出的处理液的流动工序进行说明。图13表示处理液供给模块所供给的处理液的流动工序。
参考图12和图13,通过分支带440a供给的处理液,通过流入口235流入处理液箱230的中空部234-1。流入中空部234-1的处理液通过颗粒过滤部件240流入处理液箱230的壳体232。此时,颗粒过滤部件240过滤处理液中的颗粒。
下面,对从处理液箱230到最终端的喷头的处理液的流动工序,和在该工序中去除处理液中的气泡的工序进行说明。图14a-图14c表示利用分配部件去除处理液中的气泡的工序。
参考图14a-图14c,向处理液箱230供给处理液至水位达到水平面1(Leve 11)。水平面1的水位是超过处理液箱230的下部流出口236b的水位。处理液达到水平面1的水位时,处理液通过下部流出口236b和与其连通的第一分配部件260a的下部分配器流入口264a-2流入第一分配部件260a的中空部263。流入中空部263的处理液,通过下部分配器流出口266a-2流入第一喷头272的处理液流入口272-2。此时,第一喷头272中的空气因处理液的压力而移动到处理液流出口272-1处。(图14a)
持续地向处理液箱230供给处理液,处理液的水位达到水平面2(Leve 12)的水位时,第一喷头272中的处理液因水压经过第一喷头272的处理液流出口272-1和第一分配部件260a的上部分配器流出口266a-1流入中空部263。此时,第一喷头272中的空气因处理液的压力而移动到第一分配部件260a的中空部263。另外,水平面2的水位是达到处理液箱230的上部流出口236a的高度的水位,因此,处理液箱230中的处理液通过上部流出口236a和第一分配部件260a的上部分配器流入口264-1流入第一分配部件260a。(图14b)
持续地向处理液箱230供给处理液,处理液的水位达到超过上部流出口236a的水平面3(Leve 13)的水位时,第一分配部件260a中的上层处理液因水压而再次回流进处理液箱230内。此时,气泡也与处理液一同再次流入处理液箱230内。经过这样的工序,第一分配部件260a、第一喷头272以及与它们连接的管道内的空气流入处理液箱230时,利用气泡去除部件250调节的负压,通过气泡去除部件250向外排出气泡。(图14c)
如上所述,通过参考图12-图14c说明的工序,去除处理液的气泡,从而能够解决因气泡导致喷头发出噪音的问题。
进而,通过利用一个处理液供给模块向多个喷头供给处理液,调节施加在处理液供给模块上的压力,从而能够减少由喷头数增加所产生的设置费用,保养修护也变得容易。
以上说明仅为本发明技术思想的示例,对于掌握本发明所属技术领域常识的人员,在不脱离本发明本质特征范围内可能有多种更改或变形。因而,本发明公开的实施例等并不限定本发明的技术思想。本发明的保护范围应该解释为权利要求的范围,与本发明类似的所有技术思想应该解释为包含在本发明的权利要求范围内。
Claims (26)
1.一种处理液喷射头单元,其特征在于,包括:
支架;和
一个处理液供给模块,设置在所述支架上;和
多个处理液喷头,以中央集中方式与所述一个处理液供给模块流体连通地构成在所述支架上,以喷墨方式向基板上喷射处理液。
2.根据权利要求1所述的处理液喷射头单元,其特征在于,处理液供给模块包括:
处理液箱,设置在所述支架上,向所述多个处理液喷头供给所述处理液;和
气泡去除部件,设置在该处理液箱内,去除所述处理液箱内的所述处理液的气泡。
3.根据权利要求2所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述处理液箱包括:
一个相互相对的面开放的壳体;和
第一侧壁,与所述壳体开放的一个面相结合,构成所述处理液的流入口和第一流出口;
第二侧壁,与所述壳体开放的另一个面相结合,构成所述处理液的第二流出口。
4.根据权利要求3所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述处理液箱还包括:
压力调节口,构成在所述壳体的上部壁,连接调节所述处理液箱内的负压或正压的压力调节部件。
5.根据权利要求3所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述第一侧壁内部形成中空部,在周边区域形成台阶;
所述流入口构成在所述中空部的上部壁。
6.根据权利要求3所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述处理液供给模块还包括:
颗粒过滤部件,构成在所述壳体和所述第一侧壁之间,过滤通过所述流入口流入所述壳体的所述处理液的颗粒。
7.根据权利要求6所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述气泡去除部件包括:
气泡去除过滤器,具有一端填满的中空圆筒形状,构成在所述壳体中,仅透过除所述处理液的液体成分之外的气泡;和
接合器,与该气泡去除过滤器开放的另一端连接,设置在所述壳体的侧壁上,连接调节负压的泵。
8.根据权利要求7所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述气泡去除过滤器的气孔沿所述气泡去除过滤器的半径方向越向内侧越小。
9.根据权利要求3所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述支架由横梁形状的水平部件构成;
所述处理液喷头包括沿长方向相互相对地配置在所述支架的下段部的第一和第二喷头。
10.根据权利要求9所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述处理液供给模块设置在所述支架的上段中心部。
11.根据权利要求9所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述处理液供给模块包括:
第一分配部件,与所述第一侧壁相结合,与所述第一流出口流体连通,向所述第一喷头分配所述处理液;和
第二分配部件,与所述第二侧壁相结合,与所述第二流出口流体连通,向所述第二喷头分配所述处理液。
12.根据权利要求11所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述第一和第二流出口包括一对沿所述第一和第二侧壁的长方向构成在上下间隔的位置上的上部流出口和下部流出口;
所述第一和第二分配部件包括:
中空筒状的分配器壳体;和
一对上部和下部分配器流入口,构成在所述分配器壳体的一侧,与所述上部和下部流出口连通;和
一对上部和下部分配器流出口,构成在所述壳体的另一侧,与该上部和下部分配器流入口相对;
所述上部和下部分配器流出口与各个所述处理液喷头流体连通。
13.根据权利要求12所述的处理液喷射头单元,其特征在于,所述上部分配器流入口构成在高于所述上部分配器流出口的位置;所述下部分配器流入口构成在高于所述下部分配器流出口的位置。
14.根据权利要求9所述的处理液喷射头单元,其特征在于,还包括:
喷头控制部,分别设置在沿所述架的长方向的侧壁上,控制所述第一和第二喷头的喷射动作。
15.一种处理液喷射装置,其特征在于,为喷墨式的处理液喷射装置,包括:
基板支持单元,承载基板,沿第一方向直线移动;和
处理液喷射头单元,构成在所述基板支持单元移动的路径上,并且向所述基板上喷射处理液;
所述处理液喷射头单元包括:
支架;和
一个处理液供给模块,设置在所述架上;和
多个处理液喷头,以中央集中方式与所述一个处理液供给模块流体连通地构成在所述支架上,以喷墨方式向基板上喷射处理液。
16.根据权利要求15所述的处理液喷射装置,其特征在于,所述支架由长方向朝向与所述第一方向垂直的第二方向的水平部件构成;
所述处理液喷头包括第一和第二喷头,沿长方向相互相对地配置在所述架的下段部。
17.根据权利要求16所述的处理液喷射装置,其特征在于,所述处理液供给模块设置在所述支架的上段中心部。
18.根据权利要求16所述的处理液喷射装置,其特征在于,还包括:喷头控制部,分别设置在沿所述支架的长方向的侧壁上,控制所述第一和第二喷头的喷射动作。
19.根据权利要求15-18任一所述的处理液喷射装置,其特征在于,还包括:移动单元,使所述处理液喷射头单元沿所述第一方向直线移动。
20.根据权利要求19所述的处理液喷射装置,其特征在于,还包括:
主供给带,连接所述处理液的供给源和所述处理液的回收部件;和
分支带,从所述主供给带分支,连接所述处理液供给模块;和
感知部件,配置在所述分支带的分支位置和所述回收部件之间的所述主供给带上,检测所述主供给带中有无处理液。
21.根据权利要求19所述的处理液喷射装置,其特征在于,所述处理液供给模块包括:
处理液箱,向所述第一和第二喷头供给所述处理液;和
气泡去除部件,设置在该处理液箱内,去除该处理液箱内的所述处理液的气泡。
22.根据权利要求21所述的处理液喷射装置,其特征在于,所述处理液箱包括:
一个相互相对的面开放的壳体;和
第一侧壁,与该壳体开放的一个面相结合,构成所述处理液的流入口和第一流出口;
第二侧壁,与所述壳体开放的另一个面相结合,构成所述处理液的第二流出口。
23.根据权利要求22所述的处理液喷射装置,其特征在于,所述处理液供给模块还包括:
颗粒过滤部件,构成在所述壳体和所述第一侧壁之间,过滤通过所述流入口流入所述壳体的所述处理液的颗粒。
24.根据权利要求22所述的处理液喷射装置,其特征在于,所述处理液供给模块包括:
第一分配部件,与所述第一侧壁相结合,与所述第一流出口流体连通,向所述第一喷头分配所述处理液;和
第二分配部件,与所述第二侧壁相结合,与所述第二流出口流体连通,向所述第二喷头分配所述处理液。
25.根据权利要求24所述的处理液喷射装置,其特征在于,所述第一和第二流出口包括一对沿所述第一和第二侧壁的长方向构成在上下间隔的位置上的上部流出口和下部流出口;
所述第一和第二分配部件包括:
中空筒状的分配器壳体;和
一对上部和下部分配器流入口,构成在所述分配器壳体的一侧,与所述上部和下部流出口连通;和
一对上部和下部分配器流出口,构成在所述壳体的另一侧,与所述上部和下部分配器流入口相对;
所述上部和下部分配器流出口与各个所述处理液喷头流体连通。
26.根据权利要求25所述的处理液喷射装置,其特征在于,所述上部分配器流入口构成在高于所述上部分配器流出口的位置;所述下部分配器流入口构成在高于所述下部分配器流出口的位置。
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JP2011028265A (ja) | 2011-02-10 |
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