CN101941706B - 一种大孔容消光剂的制备方法 - Google Patents
一种大孔容消光剂的制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101941706B CN101941706B CN2010102968023A CN201010296802A CN101941706B CN 101941706 B CN101941706 B CN 101941706B CN 2010102968023 A CN2010102968023 A CN 2010102968023A CN 201010296802 A CN201010296802 A CN 201010296802A CN 101941706 B CN101941706 B CN 101941706B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- pore volume
- water
- preparation
- large pore
- matting agent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000011148 porous material Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 38
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 19
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 claims abstract description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims abstract description 12
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 12
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 57
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 46
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 46
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 claims description 30
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 21
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 21
- 229960001866 silicon dioxide Drugs 0.000 claims description 19
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 11
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 claims description 8
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 claims description 7
- XXZNHVPIQYYRCG-UHFFFAOYSA-N trihydroxy(propoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](O)(O)O XXZNHVPIQYYRCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 claims description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Bis(hydroxymethyl)propionic acid Chemical compound OCC(C)(CO)C(O)=O PTBDIHRZYDMNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 claims description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 3
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 claims description 3
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 9
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- VDGJOQCBCPGFFD-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-) silicon(4+) titanium(4+) Chemical compound [Si+4].[O-2].[O-2].[Ti+4] VDGJOQCBCPGFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 9
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000012716 precipitator Substances 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920000962 poly(amidoamine) Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
本发明涉及一种大孔容消光剂的制备方法，属于化工领域。其制备工艺步骤是：a、室温下，将模板剂溶于酸溶液中，调节pH=1-3，搅拌形成均匀溶液；b、在搅拌的条件下，向上述均匀溶液中缓慢滴加硅源，搅拌均匀后倒入密封反应容器中，升温到40-80℃，搅拌反应18-48h，制得凝胶；c、将步骤b所得凝胶陈化3-8h，然后洗涤、干燥，放入350-550℃的马弗炉内煅烧2-6h，最后得粉碎分级得到大孔容消光剂成品。本发明具有工艺设计简单、合理，产品具有大孔容、大比表面积、高纯度、适中的DBP吸收值、分散性能良好、透明度高等优点。
Description
技术领域
本发明涉及一种大孔容消光剂的制备方法，属于化工领域。
背景技术
在涂料工业中，二氧化硅因其折射指数与该行业所使用的大部分树脂的折射指数相近（DE-PS 24 14 478、DE-PS 17 67 332、DE-OS 16 69 123、DE-AS 15 92 865、DE-A 38 15 670），用于大漆中具有良好的光学性能，因而二氧化硅成为高档涂料消光剂的首选。影响二氧化硅消光剂的主要特性参数有孔体积（空隙率）、平均粒径和孔径分布、表面处理等。较早用于消光剂的是气相法生产的无定形二氧化硅，例如中国专利申请CN2822370.5中公开一种无定形颗粒状二氧化硅的二氧化硅消光剂，其中该二氧化硅用氧化聚烯烃蜡予以处理。
现今生产二氧化硅的方法主要包括气相法(干法)和液相法（湿法）。干法二氧化硅的性能虽好，但是价格昂贵，使用受到限制。目前普遍使用的是湿法制备二氧化硅。湿法生产二氧化硅从工艺路线上可分为凝胶法和沉淀法，其工艺方法可以参考美国专利 US 6103, 004、US 5123, 964和US 5637, 636 所公开的方法。对于湿法所生产的二氧化硅来说，不同的工艺路线所得到的产品性能是不同的：凝胶法制备出的二氧化硅结构牢固，孔径分布窄，透明性好，但是空隙率低；沉淀法制备的二氧化硅空隙率高，但是结构性疏松，在高剪切下结构容易被破坏，并且透明性也较差（参考文献见国家知识产权局发明专利公开申请号02156478.7）。
到目前为止，液相法现有的技术所生产的二氧化硅不能满足即结构牢固、又空隙率高的要求。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种工艺设计简单、合理，产品具有大孔容、大比表面积、高纯度、适中的DBP吸收值、分散性能良好、透明度高等优点的大孔容消光剂的制备方法。
本发明解决上述技术问题所采用的技术方案是该大孔容消光剂的制备方法，其制备工艺步骤是：
a、室温下，将模板剂溶于酸溶液中，调节pH=1-3，搅拌形成均匀溶液；
b、在搅拌的条件下，向上述均匀溶液中缓慢滴加硅源，搅拌均匀后倒入密封反应容器中，升温到40-80℃，搅拌反应18-48 h，制得凝胶；
c、将步骤b所得凝胶陈化3-8h，然后洗涤、干燥，放入350-550 oC的马弗炉内煅烧2-6 h，最后得粉碎分级得到大孔容消光剂成品。
作为优选，本发明所述的步骤b中，加入硅源的同时加入水溶性聚胺酯乳化液（黏度为CP＜1200），按硅源中二氧化硅总量的10-20%加入水溶性聚胺酯。
作为优选，本发明所述的水溶性聚胺酯乳化液的制备方法是：在3.0重量份的聚胺酯中加入0.4重量份的乳化剂、1.8份活性剂，在100-150 ℃的温度下溶化，然后加入到75-95 ℃的25重量份的水中，并搅拌均匀，得到水溶性聚胺酯乳化液。
作为优选，本发明所述的乳化剂Pronic P123，乙氧基-丙氧基形成的两性三嵌段聚合物，P123的分子式EO20PO70EO20，Sigma-Aldrich公司；所述的活性剂为超支化聚酯，由三羟甲基丙烷+二羟甲基丙酸缩合聚合得到，数均分子量随反应代数增加而增加，1代到4代为700-5000 g/mol。随着活性剂分子量（主要是代数）增加，消光粉的孔容、孔径、比表面积都会增加。
作为优选，本发明所述的硅源选自下列之一：正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、正硅酸丙酯、正硅酸丁酯、双三乙氧硅基乙烷、硅酸钠、偏硅酸钠。
作为优选，本发明所述的模板剂为2代至5代的超支化聚胺酯（HPAE），所述的2代至5代的超支化聚胺酯（HPAE）以N , N2-二羟乙基-3-胺基丙酸甲酯单体和季戊四醇(核)为原料，采用“准一步法”合成，末端结构为羟基。
作为优选，本发明所述的硅源与模板剂的投料质量比为3~8：0.2~1.8。
作为优选，本发明所述的酸溶液为盐酸溶液。
本发明同已有的技术相比，具有以下优点和特点：采用低温快速反应。在短时间内形成凝胶，为生产更多的微小的硅酸粒子创造条件。本发明的反应让硅酸粒子长大，是为保证后加工能顺利进行，降低表面积，提高吸收值，提高产品的应用性能。通过加入模板剂，可以调节孔容大小，改善孔结构，提高内表面积和吸收值。本发明还提供了一种用有机物对粒子表面处理的方法，该方法处理的消光剂与不处理的消光剂有较大的差异，经处理的消光剂灼烧减量提高，在某些应用性能方面也有较大改善。应用的有机处理剂可以是合成蜡和天然蜡，本发明的是自制的水溶性聚胺酯乳化液（黏度为CP＜1200）。该消光剂即有沉淀法生产的二氧化硅消光剂高吸油性和高空隙率的优点，同时也具有凝胶法生产的二氧化硅消光剂的牢固的结构和透明性。本发明的产品可应用于涂料、纸张、食品、饲料等多领域，特别是应用于涂料具有消光性能高、分散性能好，与基料相容性好，透明性高等优良特性。本发明得到的大孔容高效消光剂的孔容为1.4-2.6 ml/g。本发明得到的大孔容高效消光剂的BET表面积为550-900 m2/g。本发明得到的大孔容高效消光剂的平均粒径8-20 nm。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明，以下实施例是对本发明的解释而本发明并不局限于以下实施例。
实施例1：
原料组分按质量计为：正硅酸乙酯15 g（TEOS纯度为28%）、2代HPAE 0.20g（10-4 mol，季戊四醇为核）、水(去离子水)100 g、浓盐酸25 g。
大孔容高效二氧化硅消光剂制备：将2代HPAE溶于配好的盐酸溶液里，调节pH=1，搅拌30 min使其溶解至形成均匀溶液；然后再往溶液中缓慢的滴加TEOS并接着搅拌30min；将上诉混合溶液放入密封反应容器中，升温至60 ℃，保温搅拌24 h，得到淡黄色凝胶。所得凝胶陈化4 h，然后洗涤、干燥，放入400 oC的马弗炉内煅烧3 h，最后得粉碎分级得成品。
实施例2：
原料组分按质量计为：正硅酸甲酯13 g（TMOS纯度为30%）、3代HPAE 0.46 g（10-4 mol，季戊四醇为核）、水(去离子水)100 g、浓盐酸25 g。
大孔容高效二氧化硅消光剂制备：将3代HPAE溶于配好的盐酸溶液里，调节pH=2，搅拌30 min使其溶解至形成均匀溶液；然后再往溶液中缓慢的滴加TEOS并接着搅拌45 min；将上诉混合溶液放入密封反应容器中，升温至70℃，保温搅拌18 h，得到淡黄色凝胶。所得凝胶陈化3 h，然后洗涤、干燥，放入450 oC的马弗炉内煅烧4 h，最后得粉碎分级得成品。
实施例3：
原料组分按质量计为：正硅酸丁酯20 g（TBOS纯度为32%）、4代HPAE 0.97g（10-4mol，季戊四醇为核）、水(去离子水)100g、浓盐酸25g。
大孔容高效二氧化硅消光剂制备：将4代HPAE溶于配好的盐酸溶液里，调节pH=3，搅拌30 min使其溶解至形成均匀溶液；然后再往溶液中缓慢的滴加TEOS并接着搅拌45min；将上诉混合溶液放入密封反应容器中，升温至50 ℃，保温搅拌36 h，得到黄色凝胶。所得凝胶陈化4 h，然后洗涤、干燥，放入500oC的马弗炉内煅烧5 h，最后得粉碎分级得成品。
实施例4：
原料组分按质量计为：正硅酸乙酯15 g（TEOS纯度为28%）、5代HPAE 1.8g（10-4mol，季戊四醇为核）、水(去离子水)100g、浓盐酸25g。
大孔容高效二氧化硅消光剂制备：将5代HPAE溶于配好的盐酸溶液里，调节pH=3，搅拌30 min使其溶解至形成均匀溶液；然后再往溶液中缓慢的滴加TEOS并接着搅拌45min；将上诉混合溶液放入密封反应容器中，升温至80 ℃，保温搅拌16 h，得到黄色凝胶。所得凝胶陈化4h，然后洗涤、干燥，放入550oC的马弗炉内煅烧3 h，最后得粉碎分级得成品。
对比实施例：
水溶性聚胺酯乳化液的制备，用带有高速搅拌的可加热的装置中进行，首先称取3.0重量份的聚胺酯，加入0.4重量份的乳化剂（乳百灵、OP-10各0.2份），1.8份活性剂（30%氢氧化钾），在120 ℃的温度下溶化，然后将上述溶化的液体加入90 ℃、25重量份的水中，并搅拌均匀，由油相变为水相，得到水溶性聚胺酯乳化液（聚胺酯纯度为10%，黏度为CP＜1200）。
原料组分按质量计为：正硅酸乙酯15 g（TEOS纯度为28%）、4代HPAE 0.97 g（10-4mol，季戊四醇为核）、水(去离子水)100g、浓盐酸25g、水溶性聚胺酯乳化液 8.4g (按硅源中二氧化硅总量的20%加入水溶性聚胺酯)。
大孔容高效二氧化硅消光剂制备：将4代PAMAM溶于配好的盐酸溶液里，调节pH=3，搅拌30 min使其溶解至形成均匀溶液；再往溶液中缓慢的滴加TEOS；然后往溶液中加入8.4 g水溶性聚胺酯乳化液，并接着搅拌45min；将上诉混合溶液放入密封反应容器中，升温至50 ℃，保温搅拌36 h，得到黄色凝胶。所得凝胶A陈化4 h，然后洗涤、干燥，放入500oC的马弗炉内煅烧5 h，最后得粉碎分级得成品。
产品测试结果列于下表：
| 项目名称 | 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 | 实施例4 | 对比实施例 |
| 二氧化硅(干基) % | 99.1 | 99.0 | 99.2 | 99.3 | 99.0 |
| DBP吸收值ml/g | 2.88 | 2.83 | 2.90 | 2.76 | 2.92 |
| 孔容ml/g | 1.45 | 1.79 | 2.25 | 2.54 | 2.18 |
| 孔径 nm | 8.2 | 9.7 | 15.1 | 19.4 | 14.2 |
| 灼烧减量% | 5.11 | 8.49 | 12.64 | 9.65 | 15.87 |
| 比表面积m2/g | 560 | 610 | 767 | 853 | 801 |
实施例5：
原料组分按质量计为：正硅酸丙酯32 g（纯度为25%）、5代HPAE 0.20g、水(去离子水)350 g、浓盐酸40 g、聚胺酯30g、4g 的Pronic P123、超支化聚酯18g。
在聚胺酯中加入Pronic P123、超支化聚酯，在100-150 ℃的温度下溶化，然后加入到75-95 ℃的250g的水中，并搅拌均匀，得到水溶性聚胺酯乳化液。
大孔容高效二氧化硅消光剂制备：将5代HPAE溶于配好的盐酸溶液里，调节pH=1，搅拌30 min使其溶解至形成均匀溶液；然后再往溶液中缓慢的滴加正硅酸丙酯，同时加入，前面制得的水溶性聚胺酯乳化液，按照硅源中二氧化硅总量的10-20%加入水溶性聚胺酯，并接着搅拌30min；将上诉混合溶液放入密封反应容器中，升温至60 ℃，保温搅拌24 h，得到淡黄色凝胶。所得凝胶陈化4 h，然后洗涤、干燥，放入400 oC的马弗炉内煅烧3 h，最后得粉碎分级得成品。
实施例6：
原料组分按质量计为：双三乙氧硅基乙烷10 g（纯度为30%）、2代HPAE 1.8g、水(去离子水)300 g、浓盐酸20 g、聚胺酯30g、4g 的Pronic P123、超支化聚酯18g。
在聚胺酯中加入Pronic P123、超支化聚酯，在100-150 ℃的温度下溶化，然后加入到75-95 ℃的250g的水中，并搅拌均匀，得到水溶性聚胺酯乳化液。
大孔容高效二氧化硅消光剂制备：将2代HPAE溶于配好的盐酸溶液里，调节pH=2，搅拌30 min使其溶解至形成均匀溶液；然后再往溶液中缓慢的滴加正硅酸丙酯，同时加入，前面制得的水溶性聚胺酯乳化液，按照硅源中二氧化硅总量的10-20%加入水溶性聚胺酯，并接着搅拌30min；将上诉混合溶液放入密封反应容器中，升温至80 ℃，保温搅拌36 h，得到淡黄色凝胶。所得凝胶陈化3h，然后洗涤、干燥，放入350 oC的马弗炉内煅烧3 h，最后得粉碎分级得成品。
实施例7：
原料组分按质量计为：硅酸钠20g（纯度为20%）、3代HPAE 0.60g、水(去离子水)350 g、浓盐酸30 g、聚胺酯30g、4g 的Pronic P123、超支化聚酯18g。
在聚胺酯中加入Pronic P123、超支化聚酯，在100-150 ℃的温度下溶化，然后加入到75-95 ℃的250g的水中，并搅拌均匀，得到水溶性聚胺酯乳化液。
大孔容高效二氧化硅消光剂制备：将3代HPAE溶于配好的盐酸溶液里，调节pH=1，搅拌30 min使其溶解至形成均匀溶液；然后再往溶液中缓慢的滴加正硅酸丙酯，同时加入，前面制得的水溶性聚胺酯乳化液，按照硅源中二氧化硅总量的10-20%加入水溶性聚胺酯，并接着搅拌30min；将上诉混合溶液放入密封反应容器中，升温至40 ℃，保温搅拌48 h，得到淡黄色凝胶。所得凝胶陈化8h，然后洗涤、干燥，放入550 oC的马弗炉内煅烧3 h，最后得粉碎分级得成品。
实施例8：
原料组分按质量计为：偏硅酸钠25 g（纯度为30%）、4代HPAE 1.0g、水(去离子水)350 g、浓盐酸35 g、聚胺酯30g、4g 的Pronic P123、超支化聚酯18g。
在聚胺酯中加入Pronic P123、超支化聚酯，在100-150 ℃的温度下溶化，然后加入到75-95 ℃的250g的水中，并搅拌均匀，得到水溶性聚胺酯乳化液。
大孔容高效二氧化硅消光剂制备：将4代HPAE溶于配好的盐酸溶液里，调节pH=1，搅拌30 min使其溶解至形成均匀溶液；然后再往溶液中缓慢的滴加正硅酸丙酯，同时加入，前面制得的水溶性聚胺酯乳化液，按照硅源中二氧化硅总量的10-20%加入水溶性聚胺酯，并接着搅拌30min；将上诉混合溶液放入密封反应容器中，升温至60 ℃，保温搅拌18 h，得到淡黄色凝胶。所得凝胶陈化6 h，然后洗涤、干燥，放入450 oC的马弗炉内煅烧3 h，最后得粉碎分级得成品。
在以上实施例中，超支化聚酯由三羟甲基丙烷+二羟甲基丙酸缩合聚合得到，数均分子量随反应代数增加而增加，1代到4代为700-5000 g/mol。乳化剂Pronic P123为乙氧基-丙氧基形成的两性三嵌段聚合物，P123的分子式EO20PO70EO20，Sigma-Aldrich公司生产。，所述的2代至5代的超支化聚胺酯（HPAE）以N , N2-二羟乙基-3-胺基丙酸甲酯单体和季戊四醇(核)为原料，采用“准一步法”合成，末端结构为羟基。
此外，需要说明的是，本说明书中所描述的具体实施例，其配方、工艺所取名称等可以不同。凡依本发明专利构思所述的构造、特征及原理所做的等效或简单变化，均包括于本发明专利的保护范围内。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，只要不偏离本发明的结构或者超越本权利要求书所定义的范围，均应属于本发明的保护范围。
虽然本发明已以实施例公开如上，但其并非用以限定本发明的保护范围，任何熟悉该项技术的技术人员，在不脱离本发明的构思和范围内所作的更动与润饰，均应属于本发明的保护范围。
Claims (6)
1.一种大孔容消光剂的制备方法，其制备工艺步骤是：
a、室温下，将模板剂溶于酸溶液中，调节pH=1-3，搅拌形成均匀溶液，所述的模板剂为2代至5代的超支化聚胺酯，所述的2代至5代的超支化聚胺酯以N , N2-二羟乙基-3-胺基丙酸甲酯单体和季戊四醇为原料，采用“准一步法”合成，末端结构为羟基；
b、在搅拌的条件下，向上述均匀溶液中缓慢滴加硅源，搅拌均匀后倒入密封反应容器中，升温到40-80℃，搅拌反应18-48 h，制得凝胶；
c、将步骤b所得凝胶陈化3-8h，然后洗涤、干燥，放入350-550 oC的马弗炉内煅烧2-6 h，最后得粉碎分级得到大孔容消光剂成品。
2.根据权利要求1所述的大孔容消光剂的制备方法，其特征是：所述的步骤b中，加入硅源的同时加入水溶性聚胺酯乳化液，黏度为CP＜1200，按硅源中二氧化硅总量的10-20%加入水溶性聚胺酯，所述的水溶性聚胺酯乳化液的制备方法是：在3.0重量份的聚胺酯中加入0.4重量份的乳化剂、1.8份活性剂，在100-150 ℃的温度下溶化，然后加入到75-95 ℃的25重量份的水中，并搅拌均匀，得到水溶性聚胺酯乳化液，所述的乳化剂Pronic P123；所述的活性剂为超支化聚酯，由三羟甲基丙烷+二羟甲基丙酸缩合聚合得到，数均分子量随反应代数增加而增加，1代到4代为700-5000 g/mol。
3.根据权利要求2所述的大孔容消光剂的制备方法，其特征是：所述的水溶性聚胺酯乳化液的制备方法是：在3.0重量份的聚胺酯中加入0.4重量份的乳化剂、1.8份活性剂，在100-150 ℃的温度下溶化，然后加入到75-95 ℃的25重量份的水中，并搅拌均匀，得到水溶性聚胺酯乳化液。
4.根据权利要求1--3所述的任一种大孔容消光剂的制备方法，其特征是：所述的硅源选自下列之一：正硅酸乙酯、正硅酸甲酯、正硅酸丙酯、正硅酸丁酯、双三乙氧硅基乙烷、硅酸钠、偏硅酸钠。
5.根据权利要求1--3所述的任一种大孔容消光剂的制备方法，其特征是：所述的硅源与模板剂的投料质量比为3~8：0.2~1.8。
6.根据权利要求1--3所述的任一种大孔容消光剂的制备方法，其特征是：所述的酸溶液为盐酸溶液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2010102968023A CN101941706B (zh) | 2010-09-29 | 2010-09-29 | 一种大孔容消光剂的制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2010102968023A CN101941706B (zh) | 2010-09-29 | 2010-09-29 | 一种大孔容消光剂的制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101941706A CN101941706A (zh) | 2011-01-12 |
| CN101941706B true CN101941706B (zh) | 2012-01-25 |
Family
ID=43433949
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2010102968023A Expired - Fee Related CN101941706B (zh) | 2010-09-29 | 2010-09-29 | 一种大孔容消光剂的制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101941706B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104828828B (zh) * | 2015-05-08 | 2017-03-08 | 江西纳宇纳米新材料有限公司 | 具有小粒径、超高比表面积的纳米氧化硅 |
| CN114560468B (zh) * | 2022-02-25 | 2022-09-16 | 金三江(肇庆)硅材料股份有限公司 | 一种化学机械抛光用二氧化硅及其制备方法和应用 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101837981A (zh) * | 2010-04-30 | 2010-09-22 | 南开大学 | 一种多级孔结构介孔二氧化硅材料及其制备方法 |
-
2010
- 2010-09-29 CN CN2010102968023A patent/CN101941706B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101837981A (zh) * | 2010-04-30 | 2010-09-22 | 南开大学 | 一种多级孔结构介孔二氧化硅材料及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101941706A (zh) | 2011-01-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN110156033B (zh) | 一种高结构高比表高分散白炭黑的制备方法 | |
| CN100522807C (zh) | 一种大孔容、大孔径二氧化硅的制备方法 | |
| JPS60231409A (ja) | 沈降シリカ及びその製造方法 | |
| CN110643214B (zh) | 一种涂料用高分散性沉淀二氧化硅防沉剂及其制备方法 | |
| TWI757680B (zh) | 一種具有放射纖維狀介孔殼層／中空核層結構的複合微球及其製備方法 | |
| CN106317421B (zh) | 一种高性能阳离子松香胶及其制备方法 | |
| CN102126729A (zh) | 纳米级球形硅基介孔材料的制备及粒径和形貌控制方法 | |
| CN110408214A (zh) | 一种超双疏荧光微纳小球的制备方法 | |
| CN109705402A (zh) | 一种气凝胶薄膜开口剂的制备方法 | |
| CN101941706B (zh) | 一种大孔容消光剂的制备方法 | |
| CN104746178B (zh) | 一种具有多级结构的硅酸盐双层空心纳米纤维的制备方法 | |
| CN103467678B (zh) | 一种石榴状有机-无机纳米复合微球的制备方法 | |
| CN101481115B (zh) | 一种二氧化硅、其制备方法以及其应用 | |
| CN114436272A (zh) | 一种高比表面积的介孔二氧化硅纳米片及其制备方法 | |
| CN104610783B (zh) | 一种透明氢氧化铝液相分散体及制备方法与应用 | |
| CN101428807A (zh) | 一种易分散双亲纳米二氧化硅的制备方法 | |
| CN110282633A (zh) | 一种纳米氧化硅材料的改性方法 | |
| CN105145568B (zh) | 一种可再生SiO2/PAM核壳复合纳米抗菌粒子的制备方法 | |
| CN112626915A (zh) | 一种高白度纸张表面施胶剂的制备方法及其应用 | |
| CN113830773B (zh) | 一种大孔容沉淀法白炭黑的制备方法 | |
| CN111099595A (zh) | 一种高性能二氧化硅的制备方法 | |
| CN112175200B (zh) | 一种含二氧化硅复合羟基丙烯酸分散体及制备方法和应用 | |
| CN116102685A (zh) | 一种粒径小稳定性高的减反增透镀膜液用模板剂及其应用 | |
| CN113526512A (zh) | 一种二氧化硅溶胶及其制备方法 | |
| CN110229380B (zh) | 一种高效、高透明二氧化硅塑料薄膜开口剂的制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: Preparation method of large-pore volume flatting agent Effective date of registration: 20170728 Granted publication date: 20120125 Pledgee: Bank of Beijing, Limited by Share Ltd, Hangzhou branch Pledgor: Hangzhou ZFC New Materials Technology Co., Ltd. Registration number: 2017330000075 |
|
| PC01 | Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right |
Date of cancellation: 20180926 Granted publication date: 20120125 Pledgee: Bank of Beijing, Limited by Share Ltd, Hangzhou branch Pledgor: Hangzhou ZFC New Materials Technology Co., Ltd. Registration number: 2017330000075 |
|
| PC01 | Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20191114 Address after: No.30, Ninghong Road, Tianning Town, Jiashan County, Jiaxing City, Zhejiang Province Patentee after: Jiaxing Bohao Home Textile Co., Ltd Address before: Hangzhou City, Zhejiang Province, Gongshu District Cambridge 310000 Zhenkang No. 22 Zheng Lu Patentee before: Hangzhou ZFC New Materials Technology Co., Ltd. |
|
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120125 Termination date: 20200929 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |