CN101939029A - 用于以富含能量的电子束处理成形件的装置和方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种以富含能量的电子束(10)处理成形件(2)的装置,其中电子束(10)通过两个相对置的静止或活动的电子输出窗传导到成形件(2)上,它们限定成形件(2)的处理空间(6)。设有一个用于成形件(2)的输送装置,成形件(2)可以借助该输送装置被引导从垂直于输送方向地基本上垂直地设置的电子输出窗(7,8)旁边穿过所述处理空间(6),并且设置有一个相对于处理空间(6)中的伦琴射线在很大程度上被屏蔽的通道(3,3a,3b,3c),用于输送所述成形件(2)。
Description
技术领域
本发明涉及一种按照装置权利要求和方法权利要求所述类型的、用于以富含能量的电子束处理成形件、尤其也改变三维成形件的表面上和边缘区域中的材料特性的装置和方法。
背景技术
由WO 2007/107331A1已知,三维成形件借助电子被处理并且位于两个电子输出窗之间,在所述电子输出窗上设置至少一个电子加速器。在这里还这样地设置有反射器,使得尤其在成形件的侧面区域(它们可能例如由于遮蔽而以不足的方式被加载电子)中使电子尤其从侧面区域偏转到成形件上。
由DE 40 28 479 C2还已知,富含能量的电子束被用于靠近表面地对内燃机铝部件进行热处理。为此,该表面在全面的点形光电栅中被加载以电子束,其中,该电子束逐点地跳跃并且分别在一个点停留预给定的时间间隔以便加入热量。
因此已经公知,利用电子可以将能量在空间和时间上限定地加入到材料中,以便在表面上和在预给定的边界甚至在体积上改变材料的材料特性。为此所需的电子通常在电子加速器中产生、成形并加速,然后它在另一常见的布置中例如通过大多平面的电子输出窗从高真空导引到具有成形件的处理室中的更高压力水平。在此,大多期望在电子输出窗的整个延伸尺寸上具有恒定的电子密度。在穿过电子输出窗与成形件之间的间距中的气体层(例如空气)之后,电子达到要被处理的产品表面。
为此,作为电子加速器使用公知的面辐射发生器、也称为带式辐射器(Bandstrahler)或使用轴向辐射发生器。常见的构成为轴向辐射发生器的电子加速器附加地包括具有辐射偏转系统的电子束偏转室,利用该辐射偏转系统将产生的电子束周期地在整个电子输出窗上并且在时间上平均地以接近相同的滞留时间偏转到窗的所有部分区域中。
在不同的行业、例如在包装工业、制药、医疗技术或塑料工业中使用三维成形件,例如包装、医用植入体、外科手术器械、假肢,它们由不同材料制成,例如塑料、纸、金属或陶瓷。此外,对于某些应用需要改变成形件的特性,例如整个表面和边缘层的无菌性、表面功能性、络合或硬化。
此外由DE 199 42 142 A1还已知,利用电子能量影响散装物的表面特性,其方式是这些散装物以多次通过的方式并以变化的位置从电子输出窗旁边经过。
这样构成这些用于产生电子以改变成形件特性的装置,使得在整个电子输出窗上产生并输出接近相同的电子能量密度。目前的输送系统使成形件没有旋转或偏转地总是以同一位置通过电子加速器的处理区。为了对整个成形件表面被加载电子能量,经常改变成形件在多次通过期间的位置。在此不利的是,这需要相对高的时间和装置费用。成形件在各次通过之间的位置变化也不能不加选择地实现,而是必需这样协调,使得各个表面区域总体上不以不同的电子能量密度被加载,这可能导致不同的特性。
此外,由文献“Technische Beschreibung ELECTRON BEAM SURFACESTERILISATION SYSTEM 200KeV-The Ke VAC S der Firma Linac Technologies”已知,三维成形件的整个表面辐射在只一次通过期间利用电子能量改性,其方式是这样设置多个、即至少两个或三个电子输出窗,使得它们包围成形件的横截面,其中成形件被引导从这些电子输出窗之间穿过并由此对整个三维表面加载电子。
也已知一种利用电子能量对成形件表面杀菌的装置,其中这样设置电子加速器,使得其从属的电子输出窗围成一个具有等边三角形横截面的体积,要被杀菌的成形件被引导穿过该体积。通过这种装置尽管与其它已知方案(其中成形件在多次通过中被加载电子)相比减少了时间上的费用,但是由于使用三个电子加速器使得技术上的费用非常高。
此外也已知三个电子输出窗的布置,但是其中电子只利用一个电子加速器产生并且借助于偏转系统分配给三个电子输出窗。所有这些已知的、具有多个电子输出窗的方案都充分利用以下优点:电子加速器通过其三角形布置不相互影响或者可以忽略其相互影响,即,一个电子加速器的加速电子没有明显的能量分量给到各个其它电子加速器上。这是需要的,以便将电子输出窗中吸收的能量分量和因此其运行温度限制在非临界的大小。在超过材料使用温度时,窗盖的敏感材料否则由于从外部施加的大气压的机械负荷(与辐射发生器内部的高真空相比)而损坏。对于通常在电子输出窗中使用的钛膜任何情况下都不允许超过约400℃的最高温度。对于持续运行最高为200-250℃。
由US 2,741,704A已知的、用于限制两个相对置的电子输出窗的温度的方法是设置附加的吸收器,例如在电子输出窗之间设置一个至少部分透明的输送带。大量的能量分量落到吸收器上,这将附加能量的入射限制在相对置的电子输出窗上。
在已知的装置中,其中两个或多个电子输出窗包围成形件并且在整个电子输出窗上给出接近相同的电子能量密度并且成形件只以一次通过被加载电子,成形件的各个表面部分区域根据其几何形状和由此产生的、表面部分区域与电子输出窗的不同间距被加载以不同的电子能量剂量(每单位面积的能量或每单位质量的能量)。
为了在成形件上实现某些特性,需要确定的电子能量剂量。适宜地这样调整电子发生器的功率,使得在最小剂量到达的那些表面区域上,到达那里的剂量正好相当于或者至少相当于用于改变特性所需的剂量。成形件的所有其它的表面区域被迫以增加的能量剂量加载。这种增加的能量剂量也称为过剂量。成形件的各个区域中的过剂量越高,这些区域中的特性就越显著地偏离目标参数。被称为过剂量系数的参数给出:以何种因子超出为调整所期望的特性所需的剂量。
因此,为了在整个表面上实现足够均匀的特性,通过已知的装置根据要被处理的成形件的几何形状在各个表面区域达到一个对于许多应用是不能接受的过剂量系数。为了达到高生产率需要成形件的适配的高输送速度。由于输送速度与辐射流成比例,要达到在技术上预给定的最小剂量(它对于杀菌应用领域例如为25kGy)就要求与速度成比例地提高辐射流,这会导致超比例地提高电子输出窗的运行温度。
发明内容
本发明涉及一种以富含能量的电子束处理成形件的装置,其中,该装置具有两个相对置的静止或活动的电子输出窗,所述电子输出窗限定用于成形件的处理空间。按照本发明以有利的方式设有用于成形件的输送装置,成形件通过该输送装置被引导从与输送方向垂直地、基本上竖直地设置的电子输出窗旁边穿过处理空间,并且设有相对于所述处理空间中的伦琴射线在很大程度上被屏蔽的通道,用于输送所述成形件。
特别有利的是,用于输送的所述通道分别在所述处理空间前面和所述处理空间后面各两次这样地弯曲,使得所述通道的由此产生的迷宫式错位屏蔽了向着所述装置的入口和出口的伦琴射线。在此,优选在弯曲的通道区段中分别设置一个器件,通过该器件能使所述成形件从水平输送转移到适合在所述处理空间中输送的倾斜姿态、尤其竖直姿态中并且接着能重新还原。
该装置例如是一个在多个自由度上可控的抓取器,该抓取器优选配有可充气的和/或电磁的抓取元件。通过所提出的抓取机构和成形件的调整,在为此弯曲的通道中自动地产生错位,它犹如给出对于屏蔽所需的迷宫。因此在处理空间的处理区中产生的伦琴射线相对于入口和出口被屏蔽或者反射,由此在非常坚固的机械情况下实现非常紧凑的结构形式并且其它否则必需的复杂的通道、隧道、或闸门结构变得多余。
在此,可以以有利的方式在通道中设置掺杂铅的玻璃窗或塑料窗,通过它们能利用光学传感装置观察和/或控制成形件及其输送。在此所述光学传感装置可以由光栅和/或尤其是电子摄像机组成并因此以有利的方式位于(铅)通道以外。
也有利的是,在按照本发明的装置中,空气流可以在成形件的方向上并在成形件旁边偏转。为了控制处理空间中的空气流,在成形件前面和/或后面设有可翻转的或其它例如可控的挡流板,通过它们可在成形件的预给定的边缘区域中改变用于控制所述通道中的压力的流动横截面。
因此,尤其有利的是,在这里所提出的在通道中的空气压力控制借助于例如所谓的“桨叶”作为处理空间中的可控挡流板,因为要被处理的成形件不是软管而是相互具有确定间隔的离散物品,并且沿着成形件流动的空气在通向周围环境的狭窄通道和接口上也经历波动,其抑制压力波动。为了补偿这些波动,可以这样使用桨叶,使得总是当空气能过于容易地流出到邻近区域中并由此可能降低压力时,人工地减少流动横截面。
按照本发明的装置的一种有利扩展结构,在处理空间中以由上述的现有技术公知的方式和方法设置至少一个反射器,所述反射器用作处理空间的另外的侧面边界,并且通过所述反射器能使电子束偏转到成形件的侧面表面和/或边缘层上。所述电子输出窗和输送装置也可以以预给定的角度从水平线倾斜。
根据一种有利的实施方式,在电子输出窗中或其后面设有带式辐射器,该带式辐射器由几乎竖直延伸的、并排布置的线材组成,它们用作发射电子的灯丝。但是替代地,也可以代替带式辐射器在这里设置具有点状辐射器的扫描装置。
由于电子束发生器具有竖直位置,在带式辐射器中不能完全避免的发射电子的灯丝(通常是钨丝)的挠曲对于发射特征是无效的。在从上向下辐射的发射器中,仅在端部固定的水平灯丝在运行持续时间中向下产生挠曲。这个所谓的腹部使电子帘趋于向着侧面弯曲,由此使该电子帘不遇到电子输出窗,而是很大部分进入壁中并因此进入阳极中。在从下向上照射的发射器中(其由于粒子负荷通常应避免)实现电子帘在虚拟焦点中聚焦,并由此在这里使要被处理的成形件的侧面得到更少的剂量。因此所述的两个腹部可能在运行周期上要求调整,这在按照本发明提出的带式辐射器中作为垂直站立的电子束发生器是不必要的,因为电子帘的特征在最佳增益时在运行周期上是不变化的。
在已知的具有三个星形布置的发射器的方案中,两个发射器分别从斜下方辐射,由此腹部在这里使电子帘非对称地偏移,这也使许多电子能量在壁侧面中沉积,这些电子能量不能用于处理成形件。
在一种用于通过上述装置以富含能量的电子束处理成形件的有利方法中,所述成形件可以通过通道导引到处理空间中并且在那里在静止的或运动经过的状态中通过一次或多次的辐射过程被加载以电子束,其中,所述处理空间用作闸门。成形件的贯穿输送优选以循环运行方式实现,其中,在贯穿输送中单位时间输送的成形件数目与恒定的贯穿输送速度无关并且根据节拍时间和运行方式通过抓取器将成形件不同地投入到贯穿输送系统中。
按照另一有利的实施方式,处理空间可以相对于通道的入口和出口分别以双隔板闸门分开,它们为了使要被处理的成形件通过可以交替地打开,其中在处理区域的每一侧上总是必须关闭一个隔板(Schrott)。在一种优选的实施方式中,隔板以铅覆层,用于屏蔽来自处理空间的伦琴射线。在该实施方式中无需迷宫,因为对于入口和出口屏蔽了辐射。
另一种有利的实施例在出口区域中包括一个通过铅覆层的隔板分开的室,该室可以容纳至少一个成形件,该成形件可以通过另一隔板或门从外面取出。这个室以理想的方式垂直于出口输送-输送带设置并且该成形件可以在打开隔板时利用平移运动垂直于出口方向转移到该室中。在关闭隔板以后可以通过外部的门取出成形件,而不必中断辐射运行。在一种特别有利的实施例中,外部的门由双盖闸门组成,通过它能够无菌地取出成形件。
本方法或本装置的有利用途在于处理,优选以富含能量的电子束进行表面处理,用于塑料改性,用于产品/中间产品、尤其是医用产品的杀菌,用于包装的消毒和/或杀菌,用于覆层的硬化或用于物品或食品的消毒或/和杀菌。
因此本发明以有利的方式解决了一系列技术问题并能够实现一种具有节拍式工作的输送装置的装置和一种方法,利用它们克服了现有技术在以电子束进行处理时的缺陷。本装置和本方法尤其适合于以少的时间和技术费用这样地改变三维成形件的特性,使得实现对成形件的整个表面或边缘区域的足够均匀的改性,而且不存在由于电子加速器的总体布置带来的限制生产率的缺陷。
附图说明
下面借助于在附图中示出的实施例详细解释本发明。附图中:
图1以示意图示出按照本发明的具有处理空间的装置,该装置用于以电子束处理成形件。
具体实施方式
在图1中在对通道3中的输送平面的俯视图中简示出一种以对成形件2的表面杀菌为目的的、用于电子处理的装置1。该成形件2在这里是三维物品,具有在俯视图中矩形的形状,如同从入口处和出口处的通道区段3a中看到的那样。
在通道区段3b中各设有一个抓取器4,该抓取器相应受控地通过抓取元件4a将成形件2带到竖立位置中,由此在这里在通道区段3c中可以看到成形件2的梯形横截面。通过箭头5表明成形件2的输送方向并且通过箭头5a应象征性地表示成形件2从水平位置旋转到竖立位置中。
在这里存在一个处理空间6作为成形件2的处理区,该处理空间通过两个平行对置的、垂直地延伸到图面中的电子输出窗7和8限制,这些电子输出窗分别具有在这里未详细解释的、本身由现有技术公知的用于产生富含能量的电子束10的带式辐射器。
成形件2在输送带系统11上连续地或带有处理停顿地被引导从两个电子输出窗7和8之间通过处理空间,同时成形件2的整个表面被加载电子束10。
在此,在成形件2的梯形横截面中在其倾斜的侧面上分别有最少的能量剂量传递到最远离电子输出窗的点上。因此在这里反射器12和13(例如由金制成)作为处理空间6的侧向边界被这样地设置,使得各个电子输出窗7或8的电子束在反射器12和13的倾斜面上被反射。因此,电子束10的否则不被利用的边缘射束通过反射器12和13的角形布置被导引到成形件2上的在没有反射器的情况下电子束10剂量最低的区域中。
在通道区段3c内部在这里需要过压,但是在出口和入口处在通道区段3a中应当存在负压,因此在这里例如产生逆着输送方向通向抽吸装置的空气流。因此,该空气流应当在成形件2的方向上并且从该成形件旁绕过。为了控制处理空间6中的空气流,在成形件2的前面和/或后面存在可翻转或否则可控的挡流板14和15,通过它们可以在成形件2的预给定边缘区域中改变流动横截面,以便控制通道区段3c中的压力。
此外在通道区段3c中设置有掺杂铅的玻璃或塑料窗16和17,通过它们利用在这里未示出的、市场上常见的光学传感装置可以执行对成形件2及其输送的观察和/或控制。在此,光学传感装置可以由安置在通道区段3c外部或安置在其它通道区段上的光栅和/或尤其是电子摄像机组成。
之前作为实施例解释的、自动地节拍式工作的用于处理成形件2的装置的具体实施例被总体地描述:
作为装置1或通道3的基本结构或壳体,可以使用由优质钢以紧凑的迷宫结构形式焊接的钢结构,该钢结构具有铅强化的保护层作为伦琴射线保护,其中所有驱动装置以及带式辐射器7和8的电子加速器都设置在外面并由此能够实现最佳的接近性。在此,所有安装在内部的材料不仅要耐臭氧而且要耐H2O2。
水平的供料带可以设置用于人工地例如从所谓的前置的解包机(Bag-Opener)交付或转移成形件2,并且用于通过侧面导向装置使成形件2在带上更可靠且更精确地导向。
该抓取器4作为转换站可以是相应的操作单元,在抓取元件4a上具有可充气的橡胶密封件,用于形状锁合地且柔和的地抓取、提升、翻转和直线移动以便将成形件2转移给贯穿输送,其中密封材料是耐臭氧和耐H2O2的并且可能实现自动的压力监控,用于检验橡胶密封件的泄露。
为了贯穿输送该成形件2,在处理空间6中可以使用在结构上分开的双圆形带系统作为输送带系统11,用于连续地输送成形件2穿过电子加速器处理区,该双圆形带系统也包括两个用于在上方和下方导引成形件2的优质钢圆形带(用于将成形件2导入到电子加速器处理区中)和两个用于在上方和下方导引成形件的优质钢圆形带(用于将成形件2从处理空间6中的电子加速器处理区导出)。
处理区中的贯穿输送平面也可以相对于贯穿输送方向倾斜地设置,即,成形件2以斜度90°±30°被引导通过处理空间中的电子加速器处理区。在此可以在第一与第二圆形带系统之间的直接转移位置上无接触地实现输送,由此使成形件2的所有表面逐次地处于电子束下。
与输入类似地通过成形件2的转回实现成形件2的送出。
对于成形件2在两个电子输出窗7和8之间的处理空间6内部的辐射,提供了不同的可选择的方法供使用。因此可以使成形件2以恒定的速度被引导穿过处理空间6并且在此期间被加载电子束10。替代地也存在这种可能性,即成形件2被导引到处理空间6中并且在那里以静止状态通过一次或多次的辐射过程被加载电子。
Claims (15)
1.用于以富含能量的电子束(10)处理成形件(2)的装置,其中,所述电子束(10)通过两个相对置的静止或活动的电子输出窗传导到所述成形件(2)上,所述电子输出窗限定用于所述成形件(2)的处理空间(6),其特征在于,设有用于所述成形件(2)的输送装置,所述成形件(2)通过该输送装置被引导从与输送方向垂直地、基本上竖直地设置的电子输出窗(7,8)旁边穿过所述处理空间(6),并且设置有相对于所述处理空间(6)中的伦琴射线在很大程度上被屏蔽的通道(3,3a,3b,3c),用于输送所述成形件(2)。
2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,用于输送的所述通道(3)分别在所述处理空间(6)前面和所述处理空间(6)后面各两次这样地弯曲,使得所述通道(3,3a,3b,3c)的由此产生的迷宫式错位屏蔽了向着所述装置(1)的入口和出口的伦琴射线。
3.如权利要求2所述的装置,其特征在于,在弯曲的通道区段(3b)中各设置有一个器件,通过所述器件能使所述成形件(2)从水平输送转移到适合在所述处理空间(6)中输送的姿态中并且随后能重新还原。
4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,所述器件是一个在多个自由度上可控的抓取器(4),该抓取器优选配有可充气的和/或电磁的抓取元件(4a)。
5.如上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,在所述通道(3,3a,3b,3c)中设置有掺杂铅的玻璃窗或塑料窗,通过它们能够利用光学传感装置观察和/或控制所述成形件(2)及其输送。
6.如权利要求5所述的装置,其特征在于,所述光学传感装置由光栅和/或摄像机组成。
7.如上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,空气流在所述成形件(2)的方向上且在所述成形件旁边可偏转。
8.如权利要求7所述的装置,其特征在于,为了控制所述处理空间(6)中的空气流,在所述成形件前面和/或后面设有可翻转的或其它例如可控的挡流板(14,15),通过所述挡流板能在所述成形件(2)的预给定的边缘区域中改变用于控制所述通道(3,3a,3b,3c)中的压力的流动横截面。
9.如上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,在所述处理空间(6)中设有至少一个反射器(12,13),所述反射器用作所述处理空间(6)的另外的侧向边界,并且通过所述反射器能使电子束(10)偏转到所述成形件(2)的侧向表面和/或边缘层上。
10.如上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,在所述电子输出窗(7,8)后面设置有带式辐射器,所述带式辐射器的几乎竖直设置的线材用作发射电子的灯丝。
11.如上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,所述电子输出窗(7,8)和所述输送装置以预给定的角度从水平线倾斜。
12.如上述权利要求中任一项所述的装置,其特征在于,在出口区域中垂直于输送地设置有一个室,该室通过隔板与出口通道分开并且在室壁中设有用于取出成形件的开口,该开口通过门或双盖闸门封闭。
13.用于通过如上述权利要求中任一项所述的装置以富含能量的电子束处理成形件的方法,其特征在于,所述成形件(2)通过所述通道(3,3a,3b)被导引到所述处理空间(6)中并且在那里在静止的或运动经过的状态中通过一次或多次的辐射过程被加载以电子束(10),其中,所述处理空间(6)用作闸门。
14.如权利要求12所述的方法,其特征在于,以循环运行方式进行所述成形件(2)的贯穿输送,在该贯穿输送中单位时间输送的成形件(2)数目与恒定的贯穿输送速度无关,并且根据节拍时间和运行方式通过所述抓取器(4)将所述成形件(2)不同地投入到所述贯穿输送系统中。
15.如上述权利要求中任一项所述的方法或装置的用途,其特征在于,进行所述处理,优选以富含能量的电子束进行表面处理,用于塑料的改性,用于产品/中间产品、尤其是医用产品的杀菌,用于包装的消毒和/或杀菌,用于覆层的硬化或者用于物品或食品的消毒或/和杀菌。
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