CN101906081A - 一种高熔点二硫化二苯并噻唑及其制法 - Google Patents

一种高熔点二硫化二苯并噻唑及其制法 Download PDF

Info

Publication number
CN101906081A
CN101906081A CN 201010252624 CN201010252624A CN101906081A CN 101906081 A CN101906081 A CN 101906081A CN 201010252624 CN201010252624 CN 201010252624 CN 201010252624 A CN201010252624 A CN 201010252624A CN 101906081 A CN101906081 A CN 101906081A
Authority
CN
China
Prior art keywords
dibenzothiazyl disulfide
point
melting
mercaptobenzothiazolby
acidifying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN 201010252624
Other languages
English (en)
Inventor
刘方政
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to CN 201010252624 priority Critical patent/CN101906081A/zh
Publication of CN101906081A publication Critical patent/CN101906081A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)

Abstract

本发明涉及一种噻唑类硫化促进剂,特别是一种高熔点二硫化二苯并噻唑,其特征是,所述二硫化二苯并噻唑中含有硝酸根和/或异丙醇,其初熔点≥178℃,其中,硝酸根含量为2-50mg/kg,异丙醇含量为1-20mg/kg。与现有技术相比,本发明适用于大工业生产,制得的DM的熔点高于178℃,纯度大于99%,能够满足新头孢类药物的生产。

Description

一种高熔点二硫化二苯并噻唑及其制法
技术领域
本发明涉及一种噻唑类硫化促进剂,特别是一种高熔点的二硫化二苯并噻唑及其制法。
背景技术
二硫化二苯并噻唑(以下简称“DM”)是一种优良的橡胶硫化促进剂,在橡胶工业中用量非常大,同时它又是一种活性非常高的药物中间体,是生产活性酯的必备原料,而活性酯则是生产头孢类抗菌素药的中间体,被国内外大量使用。
传统工艺生产的精制DM只适合用于生产AE活性酯,AE活性酯作为头饱类抗菌素药物的中间体,是生产头孢三嗪、头孢噻肟钠等药品原料。随着制药业的发展,出现了大量新的头孢类抗菌药如头孢他啶、头孢地尼等。生产这些新药所需活性酯如头孢他啶侧链酸活性酯、头孢地尼活性酯等,使用传统工艺生产的精制DM已经不适合。而且随着国际上对AE活性酯的要求越来越高,对精制DM熔点的要求由176℃提高到180℃以上,传统工艺下生产的精制DM已经无法满足这一需求。
传统工艺生产的精制DM的步骤是先将硫化促进剂M(二巯基苯并噻唑)制作成粗品硫化促进剂DM(熔点为165-170℃),然后再制作成精制DM(熔点为175-178℃)。其不足之处是:1)制得DM熔点低,无法应用于要求DM纯度高的新头孢类生产;2)DM需要精制,成本高。
发明内容
本发明提供一种高熔点二硫化二苯并噻唑,其熔点高、纯度高,使DM的应用更加广泛,能够满足新头孢类药物的生产。
本发明还提供了高熔点二硫化二苯并噻唑的制法。
本发明具体采用如下技术方案:
一种高熔点二硫化二苯并噻唑,其特征是,所述二硫化二苯并噻唑中含有硝酸根和/或异丙醇,其初熔点≥178℃。
本发明的关键是在DM精制过程中采用硝酸进行酸化,并且在氧化步骤中以异丙醇为溶剂,因此本发明产品中最终会有硝酸根和异丙醇的残留。
优选的,硝酸根含量为2-50mg/Kg,异丙醇含量为1-20mg/Kg。
更优选的,硝酸根含量为2-20mg/Kg。
所述二硫化二苯并噻唑中灰分≤0.1%,游离二巯基苯并噻唑≤5ppm,二硫化二苯并噻唑含量≥99%。
所述高熔点二硫化二苯并噻唑的制法,其特征是,所述二硫化二苯并噻唑的制法,包括采用稀硝酸进行酸化的步骤。
具体地,酸化步骤是采用重量浓度为6-12%的稀硝酸将过程液酸化至pH为6-7。
所述高熔点二硫化二苯并噻唑的制法,包括采用异丙醇为溶剂,在氧化剂(双氧水)存在的条件下对二硫化二苯并噻唑进行氧化的步骤。
具体的包括二巯基苯并噻唑溶解、酸化、氧化等步骤
1)所述溶解是将二巯基苯并噻唑溶解于过量NaOH溶液,加活性炭,并在65-90℃压滤,得滤液;
2)所述酸化是采用8-12%的稀硝酸将步骤1)的滤液pH调节为6-7,酸化后离心得二巯基苯并噻唑钠盐;
3)所述氧化是将二巯基苯并噻唑钠盐氧化为二硫化二苯并噻唑,氧化剂是过量双氧水和异丙醇的混合物,氧化温度25-50℃,氧化时间90-100min。
本发明中最佳配比的技术方案如下:
所述溶解是先将75Kg片碱溶于1-1.5M3软水,然后加入二巯基苯并噻唑300-400Kg、活性炭40-60Kg,升温并搅拌均匀,在65-90℃压滤。
本发明中NaOH溶液也可以采用工业液碱配制到相当浓度。
所述酸化是将酸化剂滴加到溶解步骤的压滤液中,一般滴加时间是60-90min,待pH为6-7时,离心得二巯基苯并噻唑钠盐。
所述氧化是先将27.5wt%的双氧水180-240Kg和65-80wt%的异丙醇1~1.5M3在30-40℃下混合均匀,然后在温度为25-50℃下加入二巯基苯并噻唑钠盐,氧化90-100min,氧化结束继续搅拌30-40min养晶。
为了得到二硫化二苯并噻唑成品以及降低成本,本发明还包括离心、干燥和溶剂回收步骤
所述离心是脱出氧化液得二硫化二苯并噻唑固体;
所述干燥是在90-120℃下将离心后的二硫化二苯并噻唑干燥;
所述溶剂收回是回收离心脱出液中的异丙醇。
所述溶剂回收可以是常压回收也可以是减压回收,常压回收时温度为75-90℃。
与现有技术相比,本发明的关键点在于:在溶解岗位采用活性炭高温过滤和采用异丙醇作为有机溶剂,降低了最终产品中的杂质,提高了产品纯度和产品熔点。
与现有技术相比,本发明适用于大工业生产,制得的DM的熔点高于178℃,纯度大于99%,另外本发明是一步制得纯度较高的最终产品,省略了现有技术中精制步骤。
具体实施方式
一种硝酸一步法生产二硫化二苯并噻唑的方法,包括如下步骤:
1)溶解:经计量的软化水1-1.5M3进入溶解釜,启动搅拌装置,加入75Kg片碱或液碱230-245Kg加温后加入二巯基苯并噻唑300-400Kg、活性炭40-60Kg继续搅拌,搅拌30分钟后抽滤,抽滤后经PE滤棒设备循环压滤,取样合格送入酸化岗位;压滤温度65-90℃。
2)酸化:用30%硝酸200-400kg配1-2M3软化水,配制8-12%稀硝酸,注入稀酸计量槽,待溶解岗位向酸化釜打完料后,边搅拌边升温,开始酸化滴酸时间在60分-90分之间,酸化PH值在6-7之间。酸化完成以后在反应釜内继续搅拌10-20分钟
3)二巯基苯并噻唑钠盐离心:酸化完成后,开启离心机至加料状态,缓缓进料至离心机装载量时变脱液状态,脱液至规定时间时变加料状态,开启洗水进行洗涤,洗涤规定时间后变回脱液状态,达到规定时间时变为卸料状态开始卸料。
4)氧化:浓度在27.5%双氧水180-240kg和浓度在65-80%异丙醇1-1.5M3混合搅拌均匀注入氧化剂计量槽,氧化釜内先放入1.5-2M3浓度在65-80%异丙醇边升温边搅拌到25-50℃之间。混合釜内加入浓度在65-80%异丙醇1-1.5M3边搅拌边加入二巯基苯并噻唑钠盐300Kg搅拌均匀后配合搅拌均匀的双氧水往氧化釜内进料。氧化期间温度控制在25-50℃之间,如果温度超过规定温度就用17℃地下水降温。氧化时间在90-100分钟之间。氧化结束后再继续搅拌30-40分钟达到养晶时间。
5)DM离心:氧化完成后,开启离心机至加料状态,缓缓进料至离心机装载量时变脱液状态,脱液至规定时间时变加料状态,开启洗水进行洗涤,洗涤规定时间后变回脱液状态,达到规定时间时变为卸料状态开始卸料。
6)溶剂回收:把异丙醇打入蒸发室内加温至蒸馏塔顶温度到75-90℃开始蒸馏期间边打异丙醇边加温,蒸发室温度控制在80-100℃蒸溜塔底部温度控制在80-100℃之间。煮沸器内水位到一定液位开始加温到沸腾继续加温30-40分钟后排出。
本实施例获得的产品质量质量如下:
外观                  淡黄色或白色粉末
初熔点,℃            ≥178
加热减量,%          ≤0.05
灰分%                <0.1
筛余物(100目),%     0
游离M,%         <0.5
Fe,ppm           ≤5
DM含量,%        99
硝酸根,mg/Kg     4-5
异丙醇,mg/Kg     4-6
本发明的硝酸根含量和异丙醇根据原料、设备和操作情况会有所变化,本发明公开的是优选范围。

Claims (10)

1.一种高熔点二硫化二苯并噻唑,其特征是,所述二硫化二苯并噻唑中含有硝酸根和/或异丙醇,其初熔点≥178℃。
2.根据权利要求1所述的高熔点二硫化二苯并噻唑,其特征是,硝酸根含量为2-50mg/Kg。
3.根据权利要求2所述的高熔点二硫化二苯并噻唑,其特征是,硝酸根含量为2-20mg/Kg。
4.根据权利要求1所述的高熔点二硫化二苯并噻唑,其特征是,异丙醇含量为1-20mg/Kg。
5.根据权利要求1所述的高熔点二硫化二苯并噻唑,其特征是,所述二硫化二苯并噻唑中灰分≤0.1%,游离二巯基苯并噻唑≤5ppm,二硫化二苯并噻唑含量≥99%。
6.一种权利要求1的高熔点二硫化二苯并噻唑的制法,其特征是,包括采用稀硝酸进行酸化的步骤。
7.根据权利要求6所述的高熔点二硫化二苯并噻唑的制法,其特征是,所述酸化步骤是采用重量浓度为6-12%的稀硝酸将过程液酸化至pH为6-7。
8.根据权利要求6所述的高熔点二硫化二苯并噻唑的制法,其特征是,包括采用异丙醇为溶剂,在氧化剂存在的条件下对二硫化二苯并噻唑进行氧化的步骤。
9.根据权利要求7所述的高熔点二硫化二苯并噻唑的制法,其特征是,所述氧化剂是双氧水。
10.根据权利要求6所述的高熔点二硫化二苯并噻唑的制法,其特征是,依次包括二巯基苯并噻唑溶解、酸化、氧化步骤
1)所述溶解是将二巯基苯并噻唑溶解于过量NaOH溶液,加活性炭,并在65-90℃压滤,得滤液;
2)所述酸化是采用8-12%的稀硝酸将步骤1)的滤液pH调节为6-7,酸化后离心得二巯基苯并噻唑钠盐;
3)所述氧化是将二巯基苯并噻唑钠盐氧化为二硫化二苯并噻唑,氧化剂是过量双氧水和异丙醇的混合物,氧化温度25-50℃,氧化时间90-100min。
CN 201010252624 2010-08-13 2010-08-13 一种高熔点二硫化二苯并噻唑及其制法 Pending CN101906081A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201010252624 CN101906081A (zh) 2010-08-13 2010-08-13 一种高熔点二硫化二苯并噻唑及其制法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN 201010252624 CN101906081A (zh) 2010-08-13 2010-08-13 一种高熔点二硫化二苯并噻唑及其制法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101906081A true CN101906081A (zh) 2010-12-08

Family

ID=43261691

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN 201010252624 Pending CN101906081A (zh) 2010-08-13 2010-08-13 一种高熔点二硫化二苯并噻唑及其制法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN101906081A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102850293A (zh) * 2012-09-14 2013-01-02 温州市嘉力化工有限公司 二硫化二苯骈噻唑(dm)的精制方法
CN109810075A (zh) * 2019-03-03 2019-05-28 朝阳天铭工贸有限公司 一种异丙醇法精制dm的工艺

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1827608A (zh) * 2006-04-11 2006-09-06 浙江超微细化工有限公司 一种二硫化二苯并噻唑的提纯方法
CN101928261A (zh) * 2010-04-06 2010-12-29 刘方政 硝酸一步法生产二硫化二苯并噻唑的方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1827608A (zh) * 2006-04-11 2006-09-06 浙江超微细化工有限公司 一种二硫化二苯并噻唑的提纯方法
CN101928261A (zh) * 2010-04-06 2010-12-29 刘方政 硝酸一步法生产二硫化二苯并噻唑的方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102850293A (zh) * 2012-09-14 2013-01-02 温州市嘉力化工有限公司 二硫化二苯骈噻唑(dm)的精制方法
CN109810075A (zh) * 2019-03-03 2019-05-28 朝阳天铭工贸有限公司 一种异丙醇法精制dm的工艺

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101279997B (zh) 布地奈德的一种制备方法
CN104557639B (zh) 一种制备2‑硝基‑4‑甲砜基苯甲酸的方法
CN101607955B (zh) 一种低残留硫辛酸的制备方法
CN104327100B (zh) 高纯度氟氧头孢钠制备工艺
CN1843938A (zh) 一种五氧化二钒的生产方法
CN101717378B (zh) 氧气氧化法合成橡胶硫化促进剂dm的方法
CN101928261A (zh) 硝酸一步法生产二硫化二苯并噻唑的方法
CN101906081A (zh) 一种高熔点二硫化二苯并噻唑及其制法
CN103102294A (zh) 一种羧甲基半胱氨酸的生产方法
CN101607892B (zh) 枸橼酸钠的生产方法
CN101591305B (zh) 高含量医药级mbt的生产方法
CN101899018A (zh) 用硝酸精制二巯基苯并噻唑的方法
CN110330439A (zh) 一种不引入杂质离子的甘氨酸锌络合物及其制备方法
CN106866468A (zh) 一种4‑乙酰氨基苯磺酰氯的环保制备方法
CN101519211A (zh) 盐酸废酸循环生产活性白土的方法
CN104592161A (zh) 由粗品mbt生产橡胶硫化促进剂cbs的方法
CN102295620B (zh) 橡胶硫化促进剂ns的联产合成工艺
CN104311506A (zh) 一种橡胶硫化促进剂cbs的合成工艺
CN105646535B (zh) 头孢噻肟钠的合成方法
CN101525340B (zh) 7-苯乙酰氨基-3-氯甲基头孢烷烯酸对甲氧基苄酯的合成方法
CN105418536B (zh) 由ae‑活性酯生产废渣制备2,2′‑二硫代二苯并噻唑的方法
CN101575301B (zh) 一种2-氨基-5-氯苯甲酰胺的制备方法
CN103044354A (zh) 以臭氧为氧化剂制备医药级dm的生产方法
CN114057566A (zh) 一种2-羟基-6-萘甲酸的制备方法
CN106336366A (zh) 一种合成4‑(2‑氨乙基)苯磺酰胺的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20101208