CN101903467B - 醚组合物 - Google Patents

醚组合物 Download PDF

Info

Publication number
CN101903467B
CN101903467B CN2008801221589A CN200880122158A CN101903467B CN 101903467 B CN101903467 B CN 101903467B CN 2008801221589 A CN2008801221589 A CN 2008801221589A CN 200880122158 A CN200880122158 A CN 200880122158A CN 101903467 B CN101903467 B CN 101903467B
Authority
CN
China
Prior art keywords
compound
expression
following formula
group
base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2008801221589A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101903467A (zh
Inventor
白川大祐
石川佳奈
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Publication of CN101903467A publication Critical patent/CN101903467A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101903467B publication Critical patent/CN101903467B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M107/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound
    • C10M107/38—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound containing halogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
    • C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
    • C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/337—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing other elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L71/02—Polyalkylene oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M147/00—Lubricating compositions characterised by the additive being a macromolecular compound containing halogen
    • C10M147/04—Monomer containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2650/28—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type
    • C08G2650/46—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen
    • C08G2650/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen containing fluorine, e.g. perfluropolyethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2213/04—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2213/00—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2213/04—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen
    • C10M2213/043—Organic macromolecular compounds containing halogen as ingredients in lubricant compositions obtained from monomers containing carbon, hydrogen, halogen and oxygen used as base material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2020/00—Specified physical or chemical properties or characteristics, i.e. function, of component of lubricating compositions
    • C10N2020/01—Physico-chemical properties
    • C10N2020/04—Molecular weight; Molecular weight distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2020/00—Specified physical or chemical properties or characteristics, i.e. function, of component of lubricating compositions
    • C10N2020/01—Physico-chemical properties
    • C10N2020/071—Branched chain compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2030/00—Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
    • C10N2030/06—Oiliness; Film-strength; Anti-wear; Resistance to extreme pressure
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
    • C10N2040/14—Electric or magnetic purposes
    • C10N2040/18—Electric or magnetic purposes in connection with recordings on magnetic tape or disc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2050/00—Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
    • C10N2050/015—Dispersions of solid lubricants
    • C10N2050/02—Dispersions of solid lubricants dissolved or suspended in a carrier which subsequently evaporates to leave a lubricant coating

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Lubricants (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polyethers (AREA)

Abstract

本发明提供对基材的固定性高且形成为涂膜时的表面的摩擦系数低的醚组合物及润滑剂。醚组合物由选自(X-)3Y3、(X-)2Y3-Z及X-Y3(-Z)2的2种以上的化合物形成，Z所含的CF3基的总摩尔数与Z所含的CF3基的总摩尔数和X所含的OH基的总摩尔数之和的比值(CF3/(OH+CF3))为0.001～0.30。X为HO-(CH2CH2O)a·(CH2CH(OH)CH2O)b-Q-，Y3为全氟链烷-三基，Z为CF3(CF2)sO(CF2CF2O)g-。另外，a为0～100的整数，b为0或1，s为0～19的整数，g为3～200的整数，Q为多氟化多亚甲基或该基团的碳原子-碳原子间及/或该基团的与Y3结合的末端碳原子上结合有醚性氧原子的基团。

Description

醚组合物
技术领域
本发明涉及可用作为润滑剂等的醚组合物。
背景技术
全氟化的聚醚化合物(以下称为PFPE)被用作为在磁记录介质的表面使用的润滑剂等(参照非专利文献1)。
作为该润滑剂，目前广泛使用的是分子末端具有2个CH2OH基的PFPE。
另外，作为可用作为润滑剂等的PFPE或其组合物，本发明者提出了以下方案。
(1)具有3个CH2OH基的PFPE或具有2个CH2OH基和1个CF3基的PFPE(参照专利文献1)。
(2)含分子量不同的2种PFPE的醚组合物(参照专利文献2)。
近年，随着磁记录介质的记录密度的增大，磁记录介质和记录元件间的空隙的狭窄化及磁记录介质的旋转的高速化加快。因此，被涂布于磁记录介质的表面的润滑剂的使用环境更为严酷。所以，要求该润滑剂具备以下特性。
(i)随着磁记录介质的高速化，润滑剂对磁记录介质的固定性高。
(ii)为了分散记录元件与磁记录介质接触时产生的冲击，形成为涂膜时的表面的摩擦系数低。
但是，目前提出的PFPE并不能够针对上述要求发挥出足够的性能。
非专利文献1：《摩擦学月刊》1995年，第99卷，11月号，p.37-38。
专利文献1：国际公开第2005/068534号文本
专利文献2：国际公开第2007/013412号文本
发明的揭示
本发明的目的是提供对基材的固定性高且形成为涂膜时的表面的摩擦系数低的醚组合物及含该醚组合物的润滑剂。
本发明的醚组合物是含有选自下式(A1)表示的化合物、下式(A2)表示的化合物及下式(A3)表示的化合物的2种以上的化合物的醚组合物，其特征在于，下式(Z)表示的基团所含的CF3基的总摩尔数与下式(Z)表示的基团所含的CF3基的总摩尔数和下式(X)表示的基团所含的OH基的总摩尔数的合计摩尔数的比值(CF3/(OH+CF3))为0.001以上0.30以下，
(X-)3Y3…(A1)
(X-)2Y3-Z…(A2)
X-Y3(-Z)2…(A3)
其中，X为下式(X)表示的基团，Y3为全氟链烷-三基或该基团的碳-碳原子间插入了醚性氧原子的基团，Y3含有CF3基时的该CF3基与季碳结合，Z为下式(Z)表示的基团，
HO-(CH2CH2O)a·(CH2CH(OH)CH2O)b-Q-…(X)
CF3(CF2)sO(CF2CF2O)g-…(Z)
上式(X)及式(Z)中，a为0～100的整数，b为0或1，s为0～19的整数，g为3～200的整数，Q为多氟化多亚甲基、碳原子-碳原子间结合有醚性氧原子的多氟化多亚甲基、与Y3结合的末端碳原子上结合有醚性氧原子的多氟化多亚甲基或碳原子-碳原子间及与Y3结合的末端碳原子上结合有醚性氧原子的多氟化多亚甲基。
较好的是基(X)为选自下式(X1)表示的基团、下式(X2)表示的基团、下式(X3)表示的基团及下式(X4)表示的基团的基团，
HOCH2CF2O(CF2CF2O)d-…(X1)
HOCH2CH(OH)CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d-…(X2)
HOCH2CH2CF2O(CF2CF2O)d-…(X3)
HOCH2CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d-…(X4)
其中，d为1～200的整数。
较好的是Y3为选自下式(Y3-1)表示的基团、下式(Y3-2)表示的基团及下式(Y3-3)表示的基团的基团。
Figure BPA00001161858200031
较好的是式(A1)表示的化合物为下式(A1-1)表示的化合物，较好的是式(A2)表示的化合物为下式(A2-1a)表示的化合物、下式(A2-1b)表示的化合物或下式(A2-1a)表示的化合物和下式(A2-1b)表示的化合物的组合，较好的是式(A3)表示的化合物为下式(A3-1a)表示的化合物、下式(A3-1b)表示的化合物或下式(A3-1a)表示的化合物和下式(A3-1b)表示的化合物的组合。
Figure BPA00001161858200032
较好的是式(A1)表示的化合物、式(A2)表示的化合物及式(A3)表示的化合物不具备-OCF2O-结构。
较好的是式(A1)表示的化合物、式(A2)表示的化合物及式(A3)表示的化合物的总量相对于醚组合物为95质量％以上。
较好的是醚组合物的数均分子量为500～1000000，且醚组合物的分子量分布(质均分子量/数均分子量)为1.01～1.5。
较好的是醚组合物形成为含该醚组合物的润滑剂。
本发明的醚组合物对基材的固定性高且形成为涂膜时的表面的摩擦系数低，可用作为被涂布于磁记录介质的表面的润滑剂。
实施发明的最佳方式
本说明书中，式(A1)表示的化合物记为化合物(A1)，其它式表示的化合物也同样记载。
此外，式(X)表示的基团记为基(X)，其它式表示的基团也同样记载。
本发明的醚组合物是含有选自化合物(A1)、化合物(A2)及化合物(A3)的2种以上的化合物的醚组合物，较好是由化合物(A1)和化合物(A2)形成的醚组合物，或者是由化合物(A1)～化合物(A3)形成的醚组合物。醚组合物中的化合物(A1)～化合物(A3)可以分别由1种或者2种以上的化合物构成，较好是化合物(A1)～化合物(A3)分别由1种化合物构成。
(X-)3Y3…(A1)
(X-)2Y3-Z…(A2)
X-Y3(-Z)2…(A3)
X为基(X)。
HO-(CH2CH2O)a·(CH2CH(OH)CH2O)b-Q-…(X)
-(CH2CH2O)a·(CH2CH(OH)CH2O)b-结构表示(CH2CH2O)单元和(CH2CH(OH)CH2O)单元分别存在1个单元以上时该单元的排列方式无限定。即，存在2种单元时，末端OH基可以结合于任一种单元。此外，-(CH2CH2O)a·(CH2CH(OH)CH2O)b-结构可以是嵌段共聚物的结构，也可以是无规共聚物的结构。
Q为多氟化多亚甲基、碳原子-碳原子间结合有醚性氧原子的多氟化多亚甲基、与Y3结合的末端碳原子上结合有醚性氧原子的多氟化多亚甲基或碳原子-碳原子间及与Y3结合的末端碳原子上结合有醚性氧原子的多氟化多亚甲基。多氟化多亚甲基是指-(CH2)t-(t为2以上的整数)中的2个以上的氢原子被氟原子取代而得的基团。作为Q，较好为式-(CH2)c-CF2O(CF2CF2O)d-表示的基团(在该基团的右侧的末端与Y3结合，c为1～100的整数，d为1～200的整数)。
a为0～100的整数，较好为0～10的整数，更好为0～2的整数，特好为0或1。b为1时的a优选为0。
b为0或1。
作为基(X)，较好为基(X’)。
HO-(CH2CH2O)a·(CH2CH(OH)CH2O)b-(CH2)c-CF2O(CF2CF2O)d-…(X’)
其中，a～d的含义如前所述。
c为1～10的整数，更好为1或2。
d为3～100的整数，更好为5～50的整数。
1分子中存在多个基(X)时，可以是相同的基团也可以是互不相同的基团。基(X)为相同基团的范畴内也包括结构单元的数目不同的基团。例如，d的数目相同的基(X’)或仅d的数目不同的基(X’)是相同的基团。a、b、c及d的数目中d以外的数目a、b及c分别不同的基(X’)是不同的基团。1分子中存在多个基(X)时，优选为相同基团。
作为基(X)，较好为基(X1)、基(X2)、基(X3)或基(X4)，从化合物(A1)～(A3)易于制备及稳定性的角度考虑，更好为基(X1)或基(X2)。
HOCH2CF2O(CF2CF2O)d-…(X1)
HOCH2CH(OH)CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d-…(X2)
HOCH2CH2CF2O(CF2CF2O)d-…(X3)
HOCH2CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d-…(X4)
Y3为全氟链烷-三基或该基团的碳-碳原子间插入了醚性氧原子的基团。另外，该基团含有CF3基时的该CF3基只与季碳结合。
全氟链烷-三基是指所有氢原子被氟原子取代而得的3价饱和烃基。另外，CF3基所结合的季碳原子是指未与氟原子结合的碳原子。
Y3限定为不具备CF3基的基团或者CF3基与季碳结合的基团的理由如下所述。
即，本发明者对低摩擦系数和高固定性这两种相背的性质与PFPE结构的关系进行探讨的结果是，与仲碳原子(CF2)或叔碳原子(CF)结合的CF3基因由于在分子内的自由度高，因此是有利于降低摩擦系数(低粘度化)的基团，但另一方面它也是有碍固定性的基团。所以，本发明者为了同时实现低摩擦系数和高固定性而对醚组合物中的CF3基的比例进行控制，并且为了易于完成该控制而使得CF3基仅存在于Z的末端，或者即使存在于Y3，也作为自由度相对低的与季碳原子结合的CF3基存在。
Y3可以是碳-碳原子间插入了醚性氧原子的基团。存在醚性氧原子时，醚性氧原子的数目较好为1～3。醚性氧原子存在于碳-碳原子间，因此在与X或Z结合的Y3的末端不存在醚性氧原子。Y3含有醚性氧原子时，Y3中最好不存在-OCF2O-结构，且与X及Z结合的末端部分最好不存在-OCF2-结构。不存在该结构的化合物的化学稳定性明显提高。
作为Y3，较好是不含醚性氧原子的基团，更好为基(Y3-1)、基(Y3-2)或基(Y3-3)。
Figure BPA00001161858200061
Z为基(Z)。
CF3(CF2)sO(CF2CF2O)g-…(Z)
s为0～19的整数，较好为0～15的整数，更好为0～5的整数。
g为3～200的整数，较好为3～100的整数，更好为3～70的整数，特好为5～50的整数。
基(Z)为相同基团是指s的数目相同、g的数目可相同也可不同的基团。基(Z)优选由相同基团构成。
基(Z)是有利于降低摩擦系数的基团，从CF3基的分子自由度提高的角度，较好为具有一定程度的链长的基团，更好为基(Z1)、基(Z2)或基(Z3)。
CF3O(CF2CF2O)g-…(Z1)
CF3(CF2)2O(CF2CF2O)g-…(Z2)
CF3(CF2)5O(CF2CF2O)g-…(Z3)
化合物(A1)～(A3)可以是分别2种以上的化合物的组合。由2种以上的化合物构成时，各化合物较好是Y3相同且基(X)的a、b、c或d不同的化合物。基(X)中的a的平均值较好为0～2的正数，特好为0。基(X’)中的c的平均值较好为1。d的平均值较好为3～100的正数。基(Z)中的g的平均值较好为3～100的正数。
从化学稳定性的角度考虑，化合物(A1)～(A3)最好不具备-OCF2O-结构。不具备-OCF2O-结构的化合物是指用常规的分析方法(19F-NMR等)无法检测出该结构的存在的化合物。
作为化合物(A1)，较好为化合物(A11)或化合物(A12)。
{HOCH2CF2O(CF2CF2O)d-}3Y3…(A11)、
{HOCH2CH(OH)CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d-}3Y3…(A12)。
作为化合物(A2)，较好为化合物(A21)或化合物(A22)。
{HOCH2CF2O(CF2CF2O)d-}2Y3-(OCF2CF2)gO(CF2)sCF3…(A21)、
{HOCH2CH(OH)CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d-}2Y3-(OCF2CF2)gO(CF2)sCF3…(A22)。
作为化合物(A3)，较好为化合物(A31)或化合物(A32)。
HOCH2CF2O(CF2CF2O)d-Y3{-(OCF2CF2)gO(CF2)sCF3}2…(A31)、
HOCH2CH(OH)CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d-Y3{-(OCF2CF2)gO(CF2)sCF3}2…(A32)。
作为Y3为基(Y3-1)的化合物(A1)，较好为化合物(A1-1)，作为化合物(A2)，较好为下式(A2-1a)表示的化合物、下式(A2-1b)表示的化合物或下式(A2-1a)表示的化合物和下式(A2-1b)表示的化合物的组合，作为化合物(A3)，较好为下式(A3-1a)表示的化合物、下式(A3-1b)表示的化合物或下式(A3-1a)表示的化合物和下式(A3-1b)表示的化合物的组合。
Figure BPA00001161858200071
本发明者发现，摩擦系数和固定率随基(Z)的比例发生变化，将基(Z)的比例控制在特定范围内。即，本发明的醚组合物中，基(Z)所含的CF3基的总摩尔数与基(Z)所含的CF3基的总摩尔数和基(X)所含的OH基的总摩尔数的合计摩尔数的比值(CF3/(OH+CF3)，以下称为CF3比例)为0.001以上0.30以下。CF3比例较好为0.01～0.30。通过将CF3比例控制在特定范围内，本发明的醚组合物可同时实现低摩擦系数和高固定性。组合物中的CF3比例过高时无法期待摩擦系数的降低效果，渗出(bleed out)的缺陷增加。CF3比例过于低时，摩擦系数变大。但是，CF3比例低且含2种以上的化合物的本发明的组合物具备对其它接触物的附着性降低的效果。
作为求出CF3比例的方法，可例举对醚组合物中所含的化合物的结构进行鉴定、对含量进行定量而求出CF3比例的方法，或者直接由醚组合物求出CF3比例的方法。
具体来讲，用NMR法求出CF3比例时，对醚组合物进行19F-NMR测定，求出CF3基的峰面积。例如，可在-54.0～-56.0ppm附近观测到-OCF3的19F-NMR的化学位移。
此外，关于OH基末端数的定量，末端为-CF2CH2OH基时，由来源于该基团中的CF2的氟原子的19F-NMR的-80～-81.0ppm附近的峰面积求出。末端为-CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH基时，由来源于该基团中的CF2的氟原子的19F-NMR的-75.0～-78.0ppm附近的峰面积求出。末端为-CF2CH2(OCH2CH2)gOH基时，由来源于该基团中的CF2的氟原子的19F-NMR的-78.0～-80.0ppm附近的峰面积求出。
另外，作为OH基末端数的定量的其它方法，可将兼具氢原子和氟原子的化合物作为内标物使用，由-OCF3的19F-NMR和1H-NMR的测定结果求出。作为内标物，可例举双(三氟甲基)苯等。
例如，末端为-CF2CH2OH基时，也可由来源于该基团中的CH2的1H-NMR的4.0～4.1ppm附近的峰面积求出；末端为-CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH基或者-CF2CH2O(CH2CH2O)g-H基时，也可由来源于与CF2邻接的CH2的3.8～4.0ppm附近的峰面积求出，或者由来源于末端的CH2OH的CH2的3.5ppm附近的峰面积求出。另外，还可由来源于CH(OH)部分的CH的3.7～3.9ppm附近的峰面积求出。
为兼具-CH2CH(OH)CH2-和-CH2CH2O-的化合物时，由于用于OH基数的定量的1H-NMR的信号重复，因此通过对与该基团结合的OH基进行化学修饰而将其转换为CF3C(O)O-或CH3C(O)O-等基团，可由该基团的1H-NMR或19F-NMR的化学位移的峰面积求出OH基的数目。
另外，进行1H-NMR的测定时，来源于OH基的峰因测定环境(pH等)出现峰位置的变化，有时在对于鉴定特别重要的3.5～3.8ppm附近出现重复。因此，最好在试样中加入极微量的重氢溶剂(例如，重水)而将OH基的氢重氢化，使得来源于OH基的峰位移至所述峰群中不重复的位置。
本发明的醚组合物最好不含化合物(A4)。不含化合物(A4)是指完全不含或者虽含有但以高效液相色谱法(以下称为HPLC)定量而得的含量在2.0质量％以下的情况。
Y3(-Z)3…(A4)
由于本发明的醚组合物不含化合物(A4)，因此可抑制渗出，并可提高润滑剂对基材的固定性。化合物(A4)最好通过后述的精制方法从醚组合物除去。
相对于醚组合物，化合物(A1)～(A3)的总量较好为95质量％以上，更好为98质量％以上。
醚组合物由化合物(A1)和化合物(A2)形成时，化合物(A1)和化合物(A2)在醚组合物中的质量比(质量％)是化合物(A1)50～95、化合物(A2)5～50，较好是化合物(A1)60～80、化合物(A2)20～40。
醚组合物由化合物(A1)～化合物(A3)形成时，化合物(A1)、化合物(A2)和化合物(A3)在醚组合物中的质量比(质量％)是化合物(A1)50～90、化合物(A2)5～50、化合物(A3)1～25，较好是化合物(A1)60～80、化合物(A2)10～20、化合物(A3)5～10。
醚组合物的数均分子量(以下记为Mn)较好为500～1000000，更好为500～100000，特好为1000～20000。
醚组合物的分子量分布(以下记为Mw/Mn)较好为1.01～1.5，更好为1.01～1.25。这里，Mw是指质均分子量。
Mn及Mw/Mn如果在所述范围内，则粘度低，蒸发成分少，溶于溶剂时的均一性良好。
Mn通过凝胶渗透色谱法(以下记为GPC)测定。Mw/Mn由通过GPC测定的Mn及Mw求得。
作为本发明的醚组合物的制备方法，可例举下述方法。
方法1：分别制备化合物(A1)～化合物(A3)并精制后，将它们分别掺合而调制成组合物的方法。
方法2：制备化合物(A1)～化合物(A3)中的任一种化合物时，获得含有该一种化合物以外的化合物(A1)～化合物(A3)作为副产物的反应生成物，精制该反应生成物，形成CF3比例为特定比例的组合物的方法。
方法3：将方法2中的精制后的2种以上的组合物掺合而得组合物的方法。
例如，采用方法1时，化合物(A1)可通过专利文献1记载的方法制得。将化合物(A1)的原料变更为与化合物(A2)及化合物(A3)对应的原料，按照专利文献1记载的方法进行反应可制得化合物(A2)及化合物(A3)。
采用方法2时，与方法1同样进行反应或者改变方法1中的反应条件，藉此可获得含副产物的反应生成物。例如，通过经液相氟化反应的方法制备化合物(A1)且液相氟化反应条件严格时，有时会引发分子末端的切断反应而生成末端具有CF3基的化合物(A2)～(A4)。液相氟化反应中，从抑制化合物(A4)的生成的角度考虑，吹入液相的气体所含的氟气浓度较好为5.0～50体积％，更好为10～30体积％。
根据液相氟化反应的条件，有时生成物中包含化合物(A4)。含有化合物(A4)时，最好通过精制将其除去。
作为精制方法，可例举利用离子吸附聚合物除去金属杂质、阴离子杂质等的方法，超临界萃取法，柱色谱法，优选将它们组合的方法。
本发明的醚组合物在使用时可以直接使用，也可以添加其它化合物后使用，还可以作为其它化合物的添加剂来使用。
本发明的醚组合物可直接使用，也可与其它物质并用。例如，作为含本发明的醚组合物的润滑剂使用时，可直接使用醚组合物。
另外，可在醚组合物中添加化合物(A1)～(A3)以外的PFPE(以下，称为其它PFPE-XX)后使用。为使本发明的特性充分发挥，相对于醚组合物总量(本发明的醚组合物及所述其它PFPE-XX)，其它PFPE-XX在本发明的醚组合物中的添加量较好为10质量％以下，更好为5质量％以下。
另外，也可将本发明的醚组合物加入其它PFPE-XX中使用。相对于醚组合物总量，其它PFPE-XX的含量较好为50质量％以下，更好为30质量％以下。通过将本发明的醚组合物加入到其它PFPE-XX中，可改善其它PFPE-XX的粘度调节和固定性。
作为与本发明的醚组合物并用的其它PFPE-XX的优选例子，较好为末端具有羟基的其它PFPE-XX、末端具有紫外线吸收基的其它PFPE-XX等，可例举以下的例子。
<末端具有OH基的其它PFPE-XX的例子>
FOMBLIN Z-DiOL、FOMBLIN Z-TetraOL、DEMNUM SA等。
<末端具有紫外线吸收基的其它PFPE-XX的例子>
FOMBLIN Z-DIAC、FOMBLIN Z-DEAL、FOMBLIN AM2001、FOMBLIN Z-DISOC、DEMNUM SH、MorescoA20H等。
作为其它PFPE-XX的优选的其它例子，可例举具有1～4个基(X)和0～3个基(Z)、且基(X)和基(Z)的总数为4个的醚化合物(A4)。
醚化合物(A4)较好是选自化合物(A41)、化合物(A42)、化合物(A43)及化合物(A44)的1种以上。
(X-)4Y4…(A41)、
(X-)3Y4-Z…(A42)、
(X-)2Y4(-Z)2…(A43)、
X-Y4(-Z)3…(A44)。
其中，X为基(X)，Y4为全氟链烷-四基或在该基团的碳-碳原子间插入了醚性氧原子的基团且是不具备基(Z)的结构的基团，Z为基(Z)。
作为基(X)，较好为基(X1)、基(X2)、基(X3)或基(X4)，从易于制备化合物(A41)～(A44)及稳定性的角度考虑，更好为基(X1)或基(X2)。
Y4较好为不具备CF3基的基团。
作为Y4，更好为基(Y4-1)～基(Y4-4)中的任一种，从易于合成、化合物的化学稳定性及结晶性低的角度考虑，优选基(Y4-1)。
Figure BPA00001161858200111
本发明的醚组合物和其它PFPE-XX并用时，为发挥本发明的醚组合物的性能，最好将整个组合物中的CF3比例调节为0.001以上0.30以下。另外，作为其它PFPE-XX，优选不含末端基团都为CF3基的PFPE。整个组合物中的OH基的总摩尔数包括全部末端OH基，CF3基的总摩尔数包括与季碳原子结合的CF3基以外的全部CF3基。这些总摩尔数可通过所述NMR法求得。
另外，作为其它PFPE-XX，优选使用数均分子量为1000～10000的PFPE-XX。
本发明的醚组合物在使用时最好作为将该醚组合物溶解或分散于溶剂而得的溶剂组合物使用。
作为溶剂，较好为全氟胺类(全氟三丙胺、全氟三丁胺等)、全氟链烷类(バ一トレルXF(杜邦公司制)等)或氢氟醚类(AE-3000(旭硝子株式会社制)等)，从臭氧破坏系数低的角度考虑，更好为氢氟醚类。
溶剂组合物可以是溶液、悬浮液或乳化液中的任一种，优选溶液。
溶剂组合物中的本发明的醚组合物的浓度较好为0.001～50质量％，更好为0.01～20质量％。
溶剂组合物中可含有本发明的醚组合物及溶剂以外的成分(以下记为其它成分)。
溶剂组合物作为润滑剂使用时的其它成分可例举自由基捕获剂(例如X1p(陶氏化学公司制)等)等。
溶剂组合物作为表面改性剂使用时的其他成分可例举偶联剂(硅烷类、环氧类、钛类、铝类等)等。偶联剂可提高基材和涂膜的粘合性。
溶剂组合物可能无法实现所希望的性能，因此最好不含金属离子类、阴离子类、水分、低分子极性化合物等。
金属离子类(Na、K、Ca、Al等)有时与阴离子结合生成路易斯酸催化剂而促进PFPE的分解反应。阴离子类(F、Cl、NO2、NO3、PO4、SO4、C2O4等)及水分有时会腐蚀基材表面。因此，溶剂组合物的含水量优选为2000ppm以下。低分子极性化合物(醇类、从树脂溶出的增塑剂等)有时会降低基材和涂膜的粘合性。
本发明的醚组合物作为磁盘用润滑剂使用时，可采用公知的润滑剂的使用方法。例如，作为涂布于磁盘用基板表面的方法，可例举辊涂法、浇注法、浸涂法(浸渍法)、旋涂法、水上浇注法、模涂法、朗缪尔-布洛杰特(Langmuir-Blodgett)法、真空蒸镀法等，优选浸涂法、旋涂法或真空蒸镀法。
作为基板，可例举在镀有NiP的基板(铝、玻璃等)上依次具备基底层、记录层、碳保护膜的基板。
碳保护膜的厚度较好为5.0nm以下，碳保护膜的平均表面粗糙度(Ra)较好为2.0nm以下。
最好对涂布润滑剂形成了润滑剂层的磁盘进行吸附处理，使得润滑剂牢固地吸附于碳保护膜的表面。
作为吸附处理，可例举加热处理、红外线照射处理、紫外线照射处理、等离子体处理等，较好是加热处理或紫外线照射处理，更好为加热处理。另外，以除去附着物和剩余的润滑剂为目的，可用氟类溶剂对吸附处理后的磁盘进行清洗。
吸附处理后的润滑剂涂膜的表面具备高斥水性，因此即使置于高温、高湿下也能够防止水分侵入到磁盘内部，可长期维持高润滑性。
本发明的醚组合物的吸附处理后的固定率可达到60％以上。该固定率更好为65％以上，特好为70％以上。
用本发明的醚组合物进行过处理的磁盘的表面与水的接触角(室温)可达到80°以上。该接触角特好为85°以上。
从记录密度的提高和耐久性的角度考虑，由本发明的醚组合物形成的涂膜的厚度较好为5.0nm以下，更好为3.0nm以下，特好为2.0nm以下。
本发明的醚组合物还可用于磁盘用基板以外的表面。例如，可用作为涂布于聚合物基材的表面以控制聚合物基材的折射率的表面改性剂、改善聚合物基材的耐化学品性的表面改性剂、电线被覆材料、斥油墨剂(例如，涂装用斥油墨剂、印刷设备(喷墨等)用斥油墨剂等)、半导体器件用粘合剂(例如，芯片上引线封装(lead on chip)带用粘合剂等)、半导体用保护涂层(例如，防湿涂剂、焊接用防上爬剂等)、用于光学领域的薄膜(例如，涂敷薄膜(日文：ペリクル膜)等)中的添加剂、显示器用防反射膜的润滑剂、抗蚀用防反射膜等。
由本发明的醚组合物获得的涂膜透明，折射率低，且耐热性或耐化学品性良好。另外，涂膜保持高润滑性且具备自我修复性。
另外，本发明的醚组合物也可用作为表面活性剂。例如，可用作为降低涂料的表面张力的添加剂、涂料的均化剂、研磨液的均化剂等。添加于涂料时，相对于涂料，本发明的醚组合物的添加量较好为0.01～5质量％。
实施例
以下，例举实施例对本发明具体进行说明，但本发明并不限定于这些例子。实施例中，
四甲基硅烷略作TMS，CCl2FCClF2略作R-113，二氯五氟丙烷略作R-225，CClF2CClFCF2OCF2CClF2略作CFE-419，六氟异丙醇略作HFIP，异丙醇略作IPA。
(NMR分析)
1H-NMR(300.4MHz)的标准物质采用TMS。
19F-NMR(282.7MHz)的标准物质采用CFCl3。
作为溶剂，如无特别限定，采用R-113。
(HPLC分析)
用HPLC装置(岛津制作所株式会社制，Prominence)在下述条件下测定组合物中所含的化合物的组成比。具体来讲，在1个分析循环中将流动相中的HFIP的浓度慢慢地从0％增至100％，从OH基数目少的化合物开始依次分离出组合物中所包含的化合物，分析质量比。
分析柱：正相系硅胶柱(WMC公司制，SIL-gel)
流动相：R-225(旭硝子株式会社制，アサヒクリンAK-225G)及HFIP
流动相流速：1.0mL/分钟
柱温：37℃
检测器：蒸发光散射检测器
(GPC分析)
按照日本专利特开2001-208736号公报中记载的方法，在下述条件下通过GPC测定Mn及Mw，求出Mw/Mn。
流动相：R-225(旭硝子株式会社制，アサヒクリンAK-225SEC 1级)和HFIP的混合溶剂(R-225/HFIP＝99/1体积比)
分析柱：2根PLgel MIXED-E柱(聚合物实验室公司(ポリマ一ラボラトリ一ズ社)制)串联连接形成
分子量测定用标准试样：4种Mw/Mn不足1.1、分子量2000～10000的全氟聚醚及1种Mw/Mn在1.1以上、分子量1300的全氟聚醚
流动相流速：1.0mL/分钟
柱温：37℃
检测器：蒸发光散射检测器
(接触角)
润滑剂涂膜的表面的接触角用接触角计(菲斯(Face)公司制，CA-X)测定。将5滴约2μL的水滴或十六烷置于润滑剂涂膜的表面，测定接触角，求出5个值的平均值。
(摩擦系数)
用摩擦测定器(海腾(Heidon)公司制，Tribogear)对润滑剂涂膜表面的摩擦系数进行测定。作为触头采用φ10mm的SUS球，在载重2g、转速25rpm的条件下进行测定。
(附着性试验)
用光学显微镜对摩擦系数测定试验后的触头表面进行观察。确认接触部4处，确认有无润滑剂附着，基于以下标准进行评价。○：未确认有附着，△：在1～3处确认有附着，×：4处均确认有附着。
(金属离子分析)
对于各分离部分(日文：画分)1.0g，通过灰化—电感耦合等离子体质谱分析法测定金属离子含量。
(阴离子分析)
将各分离部分1.0g及超纯水30g投入事先用稀氢氧化钠水溶液进行了清洗的聚四氟乙烯制瓶子，搅拌24小时，通过水萃取—离子色谱法测定制得的试样中的阴离子含量。
(含水量)
用卡尔—费歇电量滴定法对各分离部分的含水量进行测定。
[例1]
与专利文献1的实施例的例11中记载的方法同样，使聚氧乙烯甘油醚(日本油脂株式会社制，ユニオツクスG-1200)与FCOCF(CF3)OCF2CF(CF3)O(CF2)3F反应，于室温获得液状化合物(B-1)。NMR分析结果是，化合物(B-1)的(k+r+p)的平均值为20.5，Rf为-CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3，Mn为2600，Mw/Mn为1.15。
Figure BPA00001161858200161
1H-NMR(溶剂：CDCl3)δ(ppm)：3.4～3.8，4.5。
19F-NMR(溶剂：CDCl3)δ(ppm)：-76.0～-81.0，-81.0～-82.0，-82.0～-82.5，-82.5～-85.0，-128.0～-129.2，-131.1，-144.7。
[例2]
除了将R-113变为CFE-419并将化合物(D3-1)变为化合物(B-1)以外，其它与专利文献1的实施例的例2-1记载的方法相同地进行液相氟化反应，获得组合物(c-1)。组合物(c-1)是以化合物(C-1)为主成分、化合物(B-1)的氢原子的99.9摩尔％以上被氟原子取代的组合物。
Figure BPA00001161858200162
[例3]
除了吹入液相的气体所包含的氟气浓度从20体积％变为10体积％以外，其它与例2相同地进行液相氟化反应，获得组合物(c-2)。
[例4]
除了吹入液相的气体所包含的氟气浓度从20体积％变为50体积％以外，其它与例2相同地进行液相氟化反应，获得组合物(c-3)。
1H-NMRδ(ppm)：5.9～6.4。
19F-NMRδ(ppm)：-55.8，-77.5～-86.0，-88.2～-92.0，-120.0～-139.0，-142.0～-146.0。
[例5]
除了将化合物(D4-1)变为组合物(c-1)、组合物(c-2)或组合物(c-3)以外，其它与专利文献1的实施例的例3记载的方法相同地进行操作，分别获得以化合物(D-1)为主成分的组合物(d-1)、组合物(d-2)及组合物(d-3)。
Figure BPA00001161858200172
[例6]
除了将化合物(D5-1)变为组合物(d-1)、组合物(d-2)或组合物(d-3)以外，其它与专利文献1的实施例的例4-1记载的方法相同地进行操作，分别获得以化合物(E-1)为主成分的组合物(e-1)、组合物(e-2)及组合物(e-3)。
Figure BPA00001161858200181
[例7]
除了将化合物(D7-1)变为组合物(e-1)、组合物(e-2)或组合物(e-3)以外，其它与专利文献1的实施例的例5记载的方法相同地进行操作，分别获得以化合物(A11-1)为主成分的组合物(a-1)、组合物(a-2)及组合物(a-3)。
通过NMR分析及HPLC分析可知，所得的各组合物中含有分子末端的OH基数为2个的化合物(A21-1a)及化合物(A21-1b)(以下将化合物(A21-1a)和化合物(A21-1b)统称为化合物(A21-1))和分子末端的OH基数为1个的化合物(A31-1a)及化合物(A31-1b)(以下将化合物(A31-1a)和化合物(A31-1b)统称为化合物(A31-1))。
Figure BPA00001161858200182
组合物(a-1)、组合物(a-2)及组合物(a-3)的NMR图谱：
1H-NMRδ(ppm)：3.94。
19F-NMRδ(ppm)：-54.0，-80.1，-88.2～-90.5，-135.0～-139.0。
NMR分析、HPLC分析及GPC分析的结果示于表1。
分子末端的OH基和分子末端CF3基的比值可通过求出来源于CF3基的氟原子的-54.0ppm附近的峰面积和来源于CF2CH2OH基的氟原子的-80.1ppm附近的峰面积的比值而算出。
[表1]
Figure BPA00001161858200192
[例8]
按照下述柱色谱法对组合物(a-3)进行精制。
将经R-225稀释的粒状硅胶(SITEC公司制，MS-gel D75-120A)填入直径150mm、长500mm的柱中，形成高100mm的硅胶填充相。
将150g组合物(a-3)投入硅胶填充相后，用萃取溶剂(R-225和IPA的混合溶剂)在慢慢提高萃取溶剂中的IPA浓度的同时进行分离操作(日文：分画)操作，获得分离部分(p1-1)～(p1-5)。萃取溶剂的量、萃取溶剂中的IPA浓度及分离部分的量示于表2。
[表2]
Figure BPA00001161858200201
对于各分离部分进行HPLC分析及GPC分析。结果示于表3。
[表3]
Figure BPA00001161858200202
利用柱色谱法的萃取中，受到末端羟基数的影响、极性低的分离部分中化合物(A21-1)及化合物(A31-1)的比例高，极性高的IPA分离部分中化合物(A11-1)的比例高。
[例9]
通过下述超临界萃取法对分离部分(p1-3)进行精制。
准备具备具有入口和出口的厚壁的不锈钢容器(内径φ33mm×深45mm)、超临界二氧化碳流体送液泵(日本分光株式会社制，SCF-201)、自动压力调节阀(日本分光株式会社制，880-81)、用于常规的柱色谱法的柱加热炉的装置。
将30g分离部分(p1-3)注入容器内，以液化二氧化碳换算流量2.5cc/分钟流过超临界二氧化碳。将容器内的温度固定为60℃，使容器内的压力发生经时变化，在各压力阶段进行分离，获得分离部分(p2-1)～(p2-7)。容器内的压力、该压力的保持时间及分离部分的量示于表4。
[表4]
Figure BPA00001161858200211
对于各分离部分进行HPLC分析、NMR分析及GPC分析。结果示于表5。利用超临界萃取法的萃取中，受到分子量的影响，从分子量低的分离部分开始依次被萃取。
[表5]
对于各分离部分，研究了对R-225、バ一トレルXF(杜邦公司制)及AE-3000(旭硝子株式会社制)的溶解性。分别混合分离部分和溶剂使得分离部分的浓度达到1质量％，目视确认溶解性。其结果是，各分离部分均溶于溶剂。
[例10～12(实施例)]
将碳作为靶材，在Ar气氛中通过高频磁控溅射使DLC(类金刚石碳)蒸镀于磁盘用玻璃毛坯(旭硝子株式会社制，2.5”毛坯)，形成碳保护膜，制得模拟盘。Ar气体压力为0.003托，溅射中的投入功率密度相对于单位靶材面积为3W/cm2。碳保护膜的厚度为30nm。碳保护膜的表面的水接触角为40°。
分别用バ一トレルXF稀释分离部分(p2-2)、分离部分(p2-3)及分离部分(p2-5)，调制出分离部分浓度为0.01质量％的溶剂组合物。
将模拟盘浸渍于该溶剂组合物30秒，以6mm/秒的恒定速度提起。将涂布有溶剂组合物的模拟盘在恒温炉中于100℃热处理1小时，形成润滑剂涂膜。将形成有润滑剂涂膜的盘在バ一トレルXF中浸渍30秒并洗涤。用椭圆偏振计测定洗涤前后的润滑剂涂膜的厚度，求出固定率。另外，测定润滑剂涂膜的表面的接触角、摩擦系数。用光学显微镜观察摩擦系数测定试验后的触头表面，确认有无润滑剂的附着。结果示于表6。
[例13(参考例)]
除了将分离部分(p2-2)改为化合物(F)(苏威(Solvay)公司，FOMBLINZ-Tetra OL、Mn：3000，Mw/Mn＝1.23)以外，与例10同样操作，在模拟盘的表面形成润滑剂涂膜，并与例10同样地进行评价。结果示于表6。该化合物的CF3比例为0。
HOCH2CH(OH)CH2OCH2CF2O(CF2O)i(CF2CF2O)ii-CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH…(F)
其中，i/ii＝1.0。
[例14及例15]
除了分离部分(p2-2)改为分离部分(p2-6)或分离部分(p2-7)以外，与例10同样操作，在模拟盘的表面形成润滑剂涂膜，并与例10同样地进行评价。结果示于表6。
[表6]
例   CF3     接触角[℃]比例    水     十六烷   涂膜厚度  固定率  摩擦系数[nm]      [％]    [-]   附着性试验
  101112131415   p2-2p2-3p2-5FOMBLIN ZTetraOLp2-6p2-7   0.31    108     760.18    102     720.013   88      610       93      620.007   n.d.    n.d.0       n.d.    n.d.   1.5       60      1.21.8       75      1.22.1       82      1.41.6       80      3.2n.d.      n.d.    n.d.n.d.      n.d.    n.d.   ○○○○○×
从例10～12的结果可知，通过在具备分子末端具有3个末端基团的特定结构的PFPE中使用OH/CF3比超过2且在100以下的组合物，藉此可提供固定率和接触角大且摩擦系数小的表面。
[例16]
对分离部分(p2-2)、分离部分(p2-3)、分离部分(p2-5)进行了金属离子分析、阴离子分析及含水量测定。结果示于表7。
[表7]
Figure BPA00001161858200231
产业上利用的可能性
本发明的醚组合物的固定性高，形成为涂膜时的表面摩擦系数低，可用作为用于磁记录介质的表面的润滑剂等。
这里引用2007年12月19日提出申请的日本专利申请2007-327619号及2008年7月30日提出申请的日本专利申请2008-196370号的说明书、权利要求书和摘要的所有内容作为本发明说明书的揭示。

Claims (7)

1.一种醚组合物，它是含有选自下式(A1)表示的化合物、下式(A2)表示的化合物及下式(A3)表示的化合物的2种以上的化合物的醚组合物，
其特征在于，该醚组合物的数均分子量为500～1000000，且该醚组合物的分子量分布即质均分子量/数均分子量为1.01～1.5，该醚组合物中的下式(Z)表示的基团所含的CF3基的总摩尔数与下式(Z)表示的基团所含的CF3基的总摩尔数和下式(X)表示的基团所含的OH基的总摩尔数的合计摩尔数的比值(CF3/(OH+CF3))为0.001以上0.30以下，
(X-)3Y3···(A1)
(X-)2Y3-Z···(A2)
X-Y3(-Z)2···(A3)
其中，X为下式(X)表示的基团，Y3为全氟链烷-三基或该基团的碳-碳原子间插入了醚性氧原子的基团，Y3含有CF3基时的该CF3基与季碳结合，Z为下式(Z)表示的基团，
HO-(CH2CH2O)a·(CH2CH(OH)CH2O)b-Q-···(X)
CF3(CF2)sO(CF2CF2O)g-···(Z)
上式(X)及式(Z)中，a为0～100的整数，b为0或1，s为0～19的整数，g为3～200的整数，Q为多氟化多亚甲基、碳原子-碳原子间结合有醚性氧原子的多氟化多亚甲基、与Y3结合的末端碳原子上结合有醚性氧原子的多氟化多亚甲基或碳原子-碳原子间及与Y3结合的末端碳原子上结合有醚性氧原子的多氟化多亚甲基。
2.如权利要求1所述的醚组合物，其特征在于，基(X)为选自下式(X1)表示的基团、下式(X2)表示的基团、下式(X3)表示的基团及下式(X4)表示的基团的基团，
HOCH2CF2O(CF2CF2O)d-···(X1)
HOCH2CH(OH)CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d-···(X2)
HOCH2CH2CF2O(CF2CF2O)d-···(X3)
HOCH2CH2OCH2CF2O(CF2CF2O)d-···(X4)
其中，d为1～200的整数。
3.如权利要求1或2所述的醚组合物，其特征在于，Y3为选自下式(Y3-1)表示的基团、下式(Y3-2)表示的基团及下式(Y3-3)表示的基团的基团。
Figure FSB00000675138700021
4.如权利要求1所述的醚组合物，其特征在于，式(A1)表示的化合物为下式(A1-1)表示的化合物，式(A2)表示的化合物为下式(A2-1a)表示的化合物、下式(A2-1b)表示的化合物或下式(A2-1a)表示的化合物和下式(A2-1b)表示的化合物的组合，式(A3)表示的化合物为下式(A3-1a)表示的化合物、下式(A3-1b)表示的化合物或下式(A3-1a)表示的化合物和下式(A3-1b)表示的化合物的组合。
Figure FSB00000675138700022
5.如权利要求1所述的醚组合物，其特征在于，式(A1)表示的化合物、式(A2)表示的化合物及式(A3)表示的化合物不具备-OCF2O-结构。
6.如权利要求1所述的醚组合物，其特征在于，式(A1)表示的化合物、式(A2)表示的化合物及式(A3)表示的化合物的总量相对于醚组合物为95质量％以上。
7.一种润滑剂，其特征在于，含有权利要求1～6中任一项所述的醚组合物。
CN2008801221589A 2007-12-19 2008-12-19 醚组合物 Expired - Fee Related CN101903467B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007-327619 2007-12-19
JP2007327619 2007-12-19
JP2008-196370 2008-07-30
JP2008196370 2008-07-30
PCT/JP2008/073225 WO2009078485A1 (ja) 2007-12-19 2008-12-19 エーテル組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101903467A CN101903467A (zh) 2010-12-01
CN101903467B true CN101903467B (zh) 2012-04-04

Family

ID=40795596

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008801221589A Expired - Fee Related CN101903467B (zh) 2007-12-19 2008-12-19 醚组合物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20100240560A1 (zh)
JP (1) JP5152199B2 (zh)
KR (1) KR20100094484A (zh)
CN (1) CN101903467B (zh)
TW (1) TW200948894A (zh)
WO (1) WO2009078485A1 (zh)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5609646B2 (ja) 2008-09-09 2014-10-22 旭硝子株式会社 水酸基を有するペルフルオロ化合物の製造方法
JP2012184275A (ja) * 2009-07-15 2012-09-27 Asahi Glass Co Ltd エーテル組成物および潤滑剤
JPWO2011065312A1 (ja) * 2009-11-26 2013-04-11 旭硝子株式会社 エーテル化合物、これを含む潤滑剤および潤滑剤用組成物
WO2015199037A1 (ja) * 2014-06-24 2015-12-30 株式会社Moresco フルオロポリエーテル化合物、潤滑剤ならびに磁気ディスク
KR20240031417A (ko) * 2015-09-01 2024-03-07 에이지씨 가부시키가이샤 함불소 에테르 화합물, 함불소 에테르 조성물, 코팅액 및 물품
EP3434712A1 (en) * 2017-07-24 2019-01-30 Freie Universität Berlin Diblock copolymer, a manufacturing method and suited applications
WO2024038866A1 (ja) * 2022-08-18 2024-02-22 Ａｇｃ株式会社 化合物、組成物、表面処理剤、コーティング液、物品、及び物品の製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002068353A8 (en) * 2000-10-27 2003-11-13 3M Innovative Properties Co Optical elements comprising a polyfluoropolyether surface treatment
WO2005068534A1 (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物
WO2006011387A1 (ja) * 2004-07-27 2006-02-02 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物を潤滑剤とする磁気記録媒体用潤滑剤溶液
JP2006045159A (ja) * 2004-08-06 2006-02-16 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素エーテルおよびその用途
WO2007013412A1 (ja) * 2005-07-27 2007-02-01 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物および溶液組成物

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2556167A (en) * 1945-05-18 1951-06-12 Joseph E Coleman Crystal analysis apparatus
US2425750A (en) * 1945-06-14 1947-08-19 John O Mccarty Optical aligner
JPS4917254A (zh) * 1972-06-05 1974-02-15
US4002410A (en) * 1975-03-17 1977-01-11 Monsanto Apparatus and method for orienting monocrystalline material for sawing
US4331425A (en) * 1980-10-09 1982-05-25 Davis Jr James W Golf score card and hole information guide
US4649556A (en) * 1982-09-24 1987-03-10 Northwestern University Method and apparatus for the "on-line", nondestructive measurement and control of grain size in materials
NL184386C (nl) * 1983-03-15 1989-07-03 Eindhoven Tech Hogeschool Kinematisch roentgenanalyse-apparaat.
GB8607482D0 (en) * 1986-03-26 1986-04-30 Howe S Orientation of crystals
US4884887A (en) * 1987-01-23 1989-12-05 Hewlett-Packard Company Method for positioning a crystal ingot
JPH0820384B2 (ja) * 1991-02-19 1996-03-04 信越半導体株式会社 単結晶のｏｆ方位検出方法及び装置
JP2903916B2 (ja) * 1992-11-30 1999-06-14 信越半導体株式会社 半導体インゴット加工方法
JP2789983B2 (ja) * 1993-01-28 1998-08-27 信越半導体株式会社 加工誤差補正装置
DE4304938C2 (de) * 1993-02-18 1996-04-25 Daimler Benz Ag Goniometer mit mehreren Achsen
CH690845A5 (de) * 1994-05-19 2001-02-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd Verfahren zum Positionieren eines Werkstücks und Vorrichtung hierfür.
US5529051A (en) * 1994-07-26 1996-06-25 At&T Corp. Method of preparing silicon wafers
EP0738572B1 (fr) * 1995-04-22 2004-01-21 HCT Shaping Systems SA Procédé pour l'orientation de monocristaux pour le découpage dans une machine de découpage et dispositif pour la mise en oeuvre de ce procédé
JP2943673B2 (ja) * 1995-10-31 1999-08-30 日本電気株式会社 半導体基板の製造装置及び製造方法
US6024814A (en) * 1995-11-30 2000-02-15 Nippei Toyama Corporation Method for processing ingots
CH691045A5 (fr) * 1996-04-16 2001-04-12 Hct Shaping Systems Sa Procédé pour l'orientation de plusieurs pièces cristallines posées côte à côte sur un support de découpage en vue d'une découpe simultanée dans une machine de découpage et dispositif pour la
CH692331A5 (de) * 1996-06-04 2002-05-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd Drahtsäge und Schneidverfahren unter Einsatz derselben.
US5768335A (en) * 1997-02-10 1998-06-16 Lucent Technologies Inc. Apparatus and method for measuring the orientation of a single crystal surface
DE19825051A1 (de) * 1998-06-04 1999-12-09 Wacker Siltronic Halbleitermat Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines zylinderförmigen Einkristalls und Verfahren zum Abtrennen von Halbleiterscheiben
US6348266B1 (en) * 1998-09-22 2002-02-19 Seagate Technology Llc Amphiphillic lubricants for magnetic media
GB2356786B (en) * 1999-11-29 2003-09-03 Marconi Electronic Syst Ltd Method and apparatus for aligning a crystalline substrate
DE10052154A1 (de) * 2000-10-20 2002-05-08 Freiberger Compound Mat Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Trennen von Einkristallen, Justiervorrichtung und Testverfahren zum Ermitteln einer Orientierung eines Einkristalls für ein derartiges Verfahren
GB2371731B (en) * 2001-01-23 2004-07-14 Marconi Caswell Ltd Method of alignment
US6888920B2 (en) * 2002-09-03 2005-05-03 Basil Eric Blank Low-cost, high precision goniometric stage for x-ray diffractography
JP4501111B2 (ja) * 2002-10-18 2010-07-14 旭硝子株式会社 ペルフルオロポリエーテル誘導体
JP3904543B2 (ja) * 2003-10-14 2007-04-11 株式会社リガク Ｘ線結晶方位測定装置及びｘ線結晶方位測定方法
US7285168B2 (en) * 2004-08-10 2007-10-23 Efg Elektrotechnische Fabrikations-Und Grosshandelsgesellschaft Mnb Method and apparatus for the measurement, orientation and fixation of at least one single crystal
WO2009093665A1 (ja) * 2008-01-24 2009-07-30 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002068353A8 (en) * 2000-10-27 2003-11-13 3M Innovative Properties Co Optical elements comprising a polyfluoropolyether surface treatment
WO2005068534A1 (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物
WO2006011387A1 (ja) * 2004-07-27 2006-02-02 Asahi Glass Company, Limited 含フッ素ポリエーテル化合物を潤滑剤とする磁気記録媒体用潤滑剤溶液
JP2006045159A (ja) * 2004-08-06 2006-02-16 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素エーテルおよびその用途
WO2007013412A1 (ja) * 2005-07-27 2007-02-01 Asahi Glass Company, Limited エーテル組成物および溶液組成物

Also Published As

Publication number Publication date
TW200948894A (en) 2009-12-01
JPWO2009078485A1 (ja) 2011-05-06
JP5152199B2 (ja) 2013-02-27
WO2009078485A1 (ja) 2009-06-25
KR20100094484A (ko) 2010-08-26
CN101903467A (zh) 2010-12-01
US20100240560A1 (en) 2010-09-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101925655B (zh) 醚组合物
CN101903467B (zh) 醚组合物
ES2745812T3 (es) Método de deposición de lubricantes fluorados
US8053538B2 (en) Ether composition and solution composition
US20120190603A1 (en) Ether compound, lubricant containing same, and composition for lubricant containing same
CN109963894B (zh) 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质
JPWO2015022871A1 (ja) 含フッ素ポリエーテル化合物、潤滑剤、液状組成物および物品
WO2018139174A1 (ja) 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体
Wang et al. Effect of end-groups on simultaneous oleophobicity/hydrophilicity and anti-fogging performance of nanometer-thick perfluoropolyethers (PFPEs)
CN114175154A (zh) 含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质
US11555005B2 (en) Fluorine-containing ether compound, lubricant for magnetic recording medium, and magnetic recording medium
JP5795457B2 (ja) エーテル化合物、潤滑剤、溶媒組成物および磁気ディスクの製造方法
US11514945B2 (en) Lubricant for magnetic recording medium, and method for producing magnetic recording medium
JP5309622B2 (ja) 表面処理剤
US9928865B2 (en) Fluoropolyether compound, and lubricant and magnetic disc using same
Zhao et al. Micro/nanotribological behaviors of ionic liquid nanofilms with different functional cations
JPWO2014126107A1 (ja) 含フッ素エーテル組成物、表面改質剤、界面活性剤、液状組成物、物品
JP2021518878A (ja) ペルフルオロヘプテンを含む二成分共沸混合物及び共沸混合物様組成物
JP2012184275A (ja) エーテル組成物および潤滑剤

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20120404

Termination date: 20141219

EXPY Termination of patent right or utility model