CN101879705B

CN101879705B - 高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮

Info

Publication number: CN101879705B
Application number: CN2010102223646A
Authority: CN
Inventors: 黄文�; 吴祉群; 郑永成; 杨文茂; 何建国; 吉方; 徐东明; 罗清; 魏齐龙; 岳晓斌; 田志军; 陈东生; 王华国
Original assignee: Institute of Mechanical Manufacturing Technology of CAEP
Current assignee: Institute of Mechanical Manufacturing Technology of CAEP
Priority date: 2010-07-09
Filing date: 2010-07-09
Publication date: 2011-11-09
Anticipated expiration: 2030-07-09
Also published as: CN101879705A

Abstract

本发明公开了一种高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮。所述的抛光轮外表面依次沉积有过渡层和超硬镀层。所述的抛光轮采用轮轴分离结构，通过轮轴锥面配合以及螺纹紧固实现轮与轴的连接。所述过渡层为金属或金属和金属化合物。超硬镀层采用锆、铬、铝、钛、钨的氮化物、碳化物和碳氮化物中的一种或以上组合；超硬镀层还可采用类金刚石。本发明的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮能够大幅提高磁流变抛光轮的耐磨损性能、延长抛光轮的使用寿命、保证抛光轮的高回转精度，实现抛光轮的快速更换。

Description

高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮

技术领域

本发明属于磁流变抛光装置技术领域，具体涉及一种高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮。

背景技术

磁流变抛光技术是近十多年来得以迅猛发展的一种确定性子口径抛光技术，它主要利用磁流变抛光液的可控流变特性进行加工，具有极高的加工精度、极高的收敛效率与极低的表面缺陷等显著特点，能够高效率、低成本地解决平面、球面，特别是非球面的超精密加工难题。磁流变抛光轮是磁流变抛光工艺装备中的核心功能部件之一，其主要作用是保证磁流变抛光液在磁场作用下所形成的“柔性流变带”能够在其表面上稳定地成型和不断地循环，表面耐磨性和回转精度是体现其性能的两项关键技术指标。

为了不影响抛光区的磁场，磁流变抛光轮多采用非导磁性不锈钢材料制作，如美国拜卢克普科学公司的专利《确定性磁流变流体精整加工》（中国专利公开号：CN 1202848A）中指明其“轮子用非磁性材料制作”；国防科学技术大学的两个专利《用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置》（中国专利公开号：CN 101249626A）和《用于超大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置》（中国专利公开号：CN 101323097A）中都提到抛光轮用“不锈钢材料制作”，厦门大学的专利《参数可调式磁流变抛光轮》（中国专利公开号：CN 1915591A）中说明其抛光轮（专利原文中称为“抛光盘”）“选用不导磁（即磁导率约为1）的材料制成”，清华大学的专利《电磁方式磁流变抛光头》（中国专利公开号：CN 1486821A）中也指出其抛光轮（专利原文中称为“隔磁环”）“采用非铁磁质材料，包括铝合金或不锈钢”。由于不锈钢材料的硬度较低，其在抛光过程中极易受到磁流变抛光液的反抛光作用而逐渐磨损，这种磨损不仅会改变抛光轮工作面的形状精度，而且磨损产生的微细磨屑将严重恶化光学元件的表面质量并降低磁流变抛光液的寿命。另外，抛光轮的直径大小对去除函数的形态及效率的影响十分显著，而不同口径的光学元件在抛光时对去除函数的形态及效率又有较大的差异。上述已有的抛光轮存在易磨损，更换不便的不足。

发明内容

为了解决现有技术中抛光轮易磨损，抛光轮更换不便的问题，本发明提供一种高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮。本发明的抛光轮在具有高耐磨损性能的同时，可实现抛光轮的快速方便更换。

本发明的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮，其特点是，所述的抛光轮外表面依次沉积有过渡层和超硬镀层；所述的抛光轮采用轮轴分离结构，通过轮轴锥面配合以及螺纹紧固实现轮与轴的连接；所述过渡层为金属或金属和金属化合物；所述超硬镀层采用锆、铬、铝、钛、钨的氮化物、碳化物和碳氮化物中的一种或以上组合；所述超硬镀层还可采用类金刚石。

所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮与转轴通过锥面与端面复合定位，所述转轴内孔一端为内锥面，转轴内孔中设有拉杆，拉杆的一端为外锥面，抛光轮凸台设有内、外锥面；抛光轮凸台外锥面与转轴内孔的内锥面配合，抛光轮凸台底面与转轴端面贴紧；抛光轮凸台内锥面与拉杆一端的外锥面配合；拉杆的另一端装有用于使拉杆外锥面与抛光轮凸台内锥面紧密贴合并胀紧的螺母。

所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮与转轴通过锥面与端面复合定位，所述转轴内孔为锥面，抛光轮凸台设有内、外锥面，抛光轮凸台内锥面中设有外表面为锥面的压块，抛光轮凸台内锥面与压块外锥面配合；抛光轮凸台外锥面与转轴内锥面配合定位，抛光轮凸台底面与转轴端面贴紧；压块中设有用于使压块外锥面与抛光轮凸台内锥面紧密贴合并胀紧的螺钉。

所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮与转轴通过锥面定位，抛光轮凸台外表面为锥面，转轴内孔一端为内锥面；抛光轮凸台内孔与转轴内孔中设有用于使抛光轮凸台外锥面与转轴内锥面紧密贴合的拉杆，拉杆上设有用于将抛光轮与转轴拉紧的螺母。

所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮与转轴通过锥面定位，抛光轮凸台外表面为锥面，转轴内孔为内锥面；抛光轮凸台外锥面与转轴内锥面配合定位；抛光轮凸台内孔中设有用于使抛光轮凸台外锥面与转轴内锥面紧密贴合的螺钉。

所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮与转轴通过锥面定位，抛光轮凸台内孔为锥面，转轴一端为外锥面；抛光轮凸台内锥面与转轴外锥面配合定位；转轴内孔中设有用于使抛光轮凸台内锥面与转轴外锥面紧密贴合的拉杆，拉杆上设有用于将抛光轮与转轴拉紧的螺母。

所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮与转轴通过锥面定位，抛光轮凸台内孔为内锥面，转轴一端为外锥面；抛光轮凸台内锥面与转轴外锥面配合定位；转轴外锥面端设有用于使抛光轮凸台内锥面与转轴外锥面紧密贴合的压块，压块中设有用于将抛光轮与转轴压紧的螺钉。

所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮与转轴通过锥面定位，转轴内孔为内锥面，外表面为锥面的抛光轮凸台穿过转轴与转轴内锥面配合定位，抛光轮凸台顶端设有用于拉紧抛光轮与转轴并使抛光轮外锥面与转轴内锥面紧密贴合的螺母。

抛光轮镀层材料为非导磁性材料，不与磁流变抛光液发生化学反应，且具有较高的硬度，有效保护抛光轮降低磨粒磨损程度。

本发明采用轮轴分离结构，通过轮轴锥面配合以及螺纹紧固实现轮与轴的连接，利用锥面自动定心原理，可保证轮与轴的同轴度和装配后整个组件的回转精度。

本发明的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮，能够大幅提高磁流变抛光轮的耐磨损性能、延长抛光轮的使用寿命、保证抛光轮的高回转精度，实现抛光轮的快速更换。

附图说明

图1为本发明的实施例1和实施例2的结构示意图。

图2为本发明的实施例3和实施例4的结构示意图。

图3为本发明的实施例5和实施例6的结构示意图。

图4为本发明的实施例7和实施例8的结构示意图。

图5为本发明的实施例9和实施例10的结构示意图。

图6为本发明的实施例11和实施例12的结构示意图。

图7为本发明的实施例13和实施例14的结构示意图。

图中，11.抛光轮 21.抛光轮 31.抛光轮 41.抛光轮 51.抛光轮 61.抛光轮 71.抛光轮 12.转轴 22.转轴 32.转轴 42.转轴 52.转轴 62.转轴 72.转轴 13.拉杆 33.拉杆 53.拉杆 14.螺母 34.螺母 54.螺母 74.螺母 15.抛光轮凸台底面 25.抛光轮凸台底面 26.压块 66.压块 27.螺钉 47.螺钉 67.螺钉 18.转轴端面 28.转轴端面。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进行进一步的详细描述。

实施例1.

如图1所示，本发明的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮11、转轴12、拉杆13及螺母14组成，抛光轮11凸台为内、外锥面，转轴12为内锥面。选用磁控溅射电弧离子镀膜机的电弧离子镀模式，用99.5%的钛（Ti）做为中心靶的阴极靶材，在抛光轮11表面电弧离子镀沉积TiCN超硬镀层。抛光轮11表面的过渡层和超硬镀层制备过程如下：

将抛光轮进行超声波清洗30min，洁净压缩空气吹干；将吹干的抛光轮装入镀膜机真空室支架上，支架可以以抛光轮的中心轴为轴匀速旋转。抽真空至压强低于5.0×10^-3Pa，加热至200℃～240℃，通入氩气，控制压强至2.0Pa～3.0Pa，施加偏压至-900V，辉光清洗30min；然后降压强至0.5Pa，开启电弧电源，调电弧电流为150A，轰击清洗10min。降低偏压至-400V，沉积一层提高结合强度的Ti过渡层，沉积时间为15min；Ti过渡层沉积结束后，关闭氩气，通入氮气，控制压强为0.5Pa，开启电弧电流为150A，偏压为-400V，沉积一层TiN过渡层，沉积时间为30min；沉积TiN过渡层后，再同时通入氮气和乙炔气体，比例为1:20，其它沉积参数同TiN过渡层，沉积表面硬质的TiCN镀层，沉积时间为120min。

本实施例1得到的TiCN镀层厚度为2.4μm，显微硬度为HV_0.52200。TiCN镀层为非导磁性材料，不与磁流变液发生化学反应，因此可有效保护抛光轮降低磨粒磨损程度，延长抛光轮的使用寿命。

完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮11凸台外锥面与转轴12内锥面配合定位，并且抛光轮凸台底面15与转轴端面18贴紧后保证抛光轮11与转轴12的垂直度要求；抛光轮11凸台内锥面与拉杆13外锥面配合。当螺母14将拉杆13拉紧时，拉杆13外锥面与抛光轮11凸台内锥面紧密贴紧，并使抛光轮11凸台发生轻微变形，使得抛光轮11凸台外锥面与转轴12内锥面紧密贴合。在端面定位和锥面定位的共同作用下，可保证抛光轮11与转轴12同轴度和垂直度要求。

在上述实施例中，如果中心靶的阴极靶材分别选用高纯度的锆、铬、铝或钨，用上述相同的步骤即可得到相应的超硬镀层。所述镀层的沉积方式还可以为磁控溅射离子镀、离子束溅射或者化学气相沉积等。

实施例2.

如图1所示，本发明的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮11、转轴12、拉杆13及螺母14组成，抛光轮11凸台为内、外锥面，转轴12为内锥面。结构装配前，选用磁控溅射电弧离子镀膜机的磁控溅射模式，用99.5%的Ti做为侧靶的阴极靶材，在抛光轮11表面沉积含Ti的类金刚石（DLC）镀层。制备步骤如下：

将抛光轮进行超声波清洗30min，洁净压缩空气吹干；将吹干的抛光轮装入镀膜机真空室支架上，支架可以以中心轴为轴匀速旋转。抽真空至压强低于5.0×10^-3Pa，加热至80℃～120℃，通入氩气，控制压强至2.0Pa～3.0Pa，施加偏压至-900V，辉光清洗30min。降压强至0.5Pa，降低偏压至-400V，开启侧靶的Ti靶，调整磁控溅射直流电流为15A，先沉积一层提高结合强度的Ti过渡层，沉积时间为30min；镀膜过程中另外通入乙炔，其它参数类同于Ti过渡层，沉积一层TiC过渡层，沉积时间为20min。开启中心石墨靶，调整磁控溅射直流电流为25A，关断乙炔，在2min内逐渐降低侧靶电流至5A，其它参数维持不变，沉积表面硬质的含Ti的类金刚石镀层，沉积时间为60min。

通过如上步骤即可得到提高抛光轮耐磨性的含Ti类金刚石镀层。含Ti类金刚石镀层同样为非导磁性材料，不与磁流变液发生化学反应，具有较高的硬度，同样可有效保护抛光轮降低磨粒磨损，延长抛光轮的使用寿命。

上述镀膜过程中，如果采用铬做侧靶，采用类似如上的工艺方法同样可制备得含Cr类金刚石镀层；而在如上步骤将侧靶电流降为零，则得到不含金属的类金刚石镀层。镀层的沉积方式还可采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）或者磁过滤电弧离子镀等。

中心靶的阴极靶材也可采用99.95%或更高纯度的石墨替代。

实施例3.

如图2所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮21、转轴22、压块26及螺钉27组成，抛光轮21凸台为内、外锥面，转轴22为内锥面。结构装配前，抛光轮21表面用第一实施例中所述步骤沉积超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮21凸台外锥面与转轴22内锥面配合定位，并且抛光轮凸台底面25与转轴端面28贴紧后保证抛光轮21与转轴22的垂直度要求；抛光轮21凸台内锥面与压块26外锥面配合。当螺钉27将压块26压紧时，压块26外锥面与抛光轮21凸台内锥面紧密贴合，并使抛光轮21凸台发生轻微变形，使得抛光轮21凸台外锥面与转轴22内锥面紧密贴合。在端面定位和锥面定位的共同作用下，可保证抛光轮21与转轴22同轴度和垂直度要求。

实施例4.

如图2所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮21、转轴22、压块26及螺钉27组成，抛光轮21凸台为内、外锥面，转轴22为内锥面。结构装配前，抛光轮21表面用第二实施例中所述步骤沉积类金刚石超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮21凸台外锥面与转轴22内锥面配合定位，并且抛光轮凸台底面25与转轴端面28贴紧后保证抛光轮21与转轴22的垂直度要求；抛光轮21凸台内锥面与压块26外锥面配合。当螺钉27将压块26压紧时，压块26外锥面与抛光轮21凸台内锥面紧密贴合，并使抛光轮21凸台发生轻微变形，使得抛光轮21凸台外锥面与转轴22内锥面紧密贴合。在端面定位和锥面定位的共同作用下，可保证抛光轮21与转轴22同轴度和垂直度要求。

实施例5.

如图3所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮31、转轴32、拉杆33及螺母34组成，抛光轮31凸台为外锥面，转轴32为内锥面。结构装配前，先在抛光轮31表面用第一实施例中所述步骤沉积超硬镀层。完成表面处理的抛光轮31即可进行结构装配，拉杆33穿过转轴32通过螺母34将抛光轮31与转轴32拉紧，使抛光轮31凸台外锥面与转轴32内锥面紧密接触，保证抛光轮31与转轴32的同轴度要求。

实施例6.

如图3所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮31、转轴32、拉杆33及螺母34组成，抛光轮31凸台为外锥面，转轴32为内锥面。结构装配前，先在抛光轮31表面用第二实施例中所述步骤沉积类金刚石超硬镀层。完成表面处理的抛光轮31即可进行结构装配，拉杆33穿过转轴32通过螺母34将抛光轮31与转轴32拉紧，使抛光轮31凸台外锥面与转轴32内锥面紧密接触，保证抛光轮31与转轴32的同轴度要求。

实施例7.

如图4所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮41、转轴42及螺钉47组成，抛光轮41凸台为外锥面，转轴42为内锥面。结构装配前，先在抛光轮41表面用第一实施例中所述步骤沉积超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮41凸台外锥面与转轴42内锥面配合定位。当螺钉47压紧时，抛光轮41凸台外锥面与转轴42内锥面紧密接触，可保证抛光轮41与转轴42的同轴度要求。

实施例8.

如图4所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮41、转轴42及螺钉47组成，抛光轮41凸台为外锥面，转轴42为内锥面。结构装配前，先在抛光轮41表面用第二实施例中所述步骤沉积类金刚石超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮41凸台外锥面与转轴42内锥面配合定位。当螺钉47压紧时，抛光轮41凸台外锥面与转轴42内锥面紧密接触，可保证抛光轮41与转轴42的同轴度要求。

实施例9.

如图5所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮51、转轴52、拉杆53及螺母54组成，抛光轮51凸台为内锥面，转轴52为外锥面。结构装配前，先在抛光轮51表面用第一实施例中所述步骤沉积超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮51凸台内锥面与转轴52外锥面配合定位。拉杆53穿过转轴52通过螺母54将抛光轮51与转轴52拉紧，使抛光轮51凸台内锥面与转轴52外锥面紧密接触，保证抛光轮51与转轴52的同轴度要求。

实施例10.

如图5所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮51、转轴52、拉杆53及螺母54组成，抛光轮51凸台为内锥面，转轴52为外锥面。结构装配前，先在抛光轮51表面用第二实施例中所述步骤沉积类金刚石超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮51凸台内锥面与转轴52外锥面配合定位。拉杆53穿过转轴52通过螺母54将抛光轮51与转轴52拉紧，使抛光轮51凸台内锥面与转轴52外锥面紧密接触，保证抛光轮51与转轴52的同轴度要求。

实施例11.

如图6所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮61、转轴62、压块66及螺钉67组成，抛光轮61凸台为内锥面，转轴62为外锥面。结构装配前，先在抛光轮61表面用第一实施例中所述步骤沉积超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮61凸台内锥面与转轴62外锥面配合定位。当螺钉67压紧时，压块66可使抛光轮61凸台内锥面与转轴62外锥面紧密接触，保证抛光轮61与转轴62的同轴度要求。

实施例12.

如图6所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮61、转轴62、压块66及螺钉67组成，抛光轮61凸台为内锥面，转轴62为外锥面。结构装配前，先在抛光轮61表面用第二实施例中所述步骤沉积类金刚石超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮61凸台内锥面与转轴62外锥面配合定位。当螺钉67压紧时，压块66可使抛光轮61凸台内锥面与转轴62外锥面紧密接触，保证抛光轮61与转轴62的同轴度要求。

实施例13.

如图7所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮71、转轴72及螺母74组成，抛光轮71与拉杆做成一体，其凸台为外锥面，转轴72为内锥面。结构装配前，先在抛光轮表面用第一实施例中所述步骤沉积超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮71的拉杆穿过转轴72后，被螺母74拉紧，使抛光轮71凸台的外锥面与转轴72的内锥面紧密接触，保证抛光轮71轮与转轴72的同轴度要求。

实施例14.

如图7所示，所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮由抛光轮71、转轴72及螺母74组成，抛光轮71与拉杆做成一体，其凸台为外锥面，转轴72为内锥面。结构装配前，先在抛光轮表面用第二实施例中所述步骤沉积类金刚石超硬镀层。完成表面处理的抛光轮即可进行结构装配，抛光轮71的拉杆穿过转轴72后，被螺母74拉紧，使抛光轮71凸台的外锥面与转轴72的内锥面紧密接触，保证抛光轮71轮与转轴72的同轴度要求。

Claims

1.一种高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮，其特征在于：所述的抛光轮外表面依次沉积有过渡层和超硬镀层；所述的抛光轮采用轮轴分离结构，通过轮轴锥面配合以及螺纹紧固实现轮与轴的连接；所述过渡层为金属或金属化合物；所述超硬镀层采用锆、铬、铝、钛、钨的氮化物、碳化物和碳氮化物中的一种或以上组合；所述的抛光轮的轮轴分离结构为抛光轮（11）与转轴（12）通过锥面与端面复合定位，所述转轴（12）内孔一端为内锥面，转轴（12）内孔中设有拉杆（13），拉杆（13）的一端为外锥面，抛光轮（11）凸台设有内、外锥面；抛光轮（11）凸台外锥面与转轴（12）内孔的内锥面配合，抛光轮凸台底面（15）与转轴端面（18）贴紧；抛光轮（11）凸台内锥面与拉杆（13）一端的外锥面配合，拉杆（13）的另一端装有用于使拉杆（13）外锥面与抛光轮（11）凸台内锥面紧密贴合并胀紧的螺母（14）。

2.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮，其特征在于：所述的抛光轮的超硬镀层替换为采用类金刚石。

3.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮，其特征在于：所述的抛光轮的轮轴分离结构替换为抛光轮（21）与转轴（22）通过锥面与端面复合定位，所述转轴（22）内孔为锥面，抛光轮（21）凸台设有内、外锥面，抛光轮（21）凸台内锥面中设有外表面为锥面的压块（26），抛光轮（21）凸台内锥面与压块（26）外锥面配合；抛光轮（21）凸台外锥面与转轴（22）内锥面配合定位，抛光轮凸台底面（25）与转轴端面（28）贴紧；压块（26）中设有用于使压块（26）外锥面与抛光轮（21）凸台内锥面紧密贴合并胀紧的螺钉（27）。

4.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮，其特征在于：所述的抛光轮的轮轴分离结构替换为抛光轮（31）与转轴（32）通过锥面定位，抛光轮（31）凸台外表面为锥面，转轴（32）内孔一端为内锥面；抛光轮（31）凸台内孔与转轴（32）内孔中设有用于使抛光轮（31）凸台外锥面与转轴（32）内锥面紧密贴合的拉杆（33），拉杆（33）上设有用于将抛光轮（31）与转轴（32）拉紧的螺母（34）。

5.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮，其特征在于：所述的抛光轮的轮轴分离结构替换为抛光轮（41）与转轴（42）通过锥面定位，抛光轮（41）凸台外表面为锥面，转轴（42）内孔为内锥面；抛光轮（41）凸台外锥面与转轴（42）内锥面配合定位；抛光轮（41）凸台内孔中设有用于使抛光轮（41）凸台外锥面与转轴（42）内锥面紧密贴合的螺钉（47）。

6.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮，其特征在于：所述的抛光轮的轮轴分离结构替换为抛光轮（51）与转轴（52）通过锥面定位，抛光轮（51）凸台内孔为锥面，转轴（52）一端为外锥面；抛光轮（51）凸台内锥面与转轴（52）外锥面配合定位；转轴（52）内孔中设有用于使抛光轮（51）凸台内锥面与转轴（52）外锥面紧密贴合的拉杆（53），拉杆（53）上设有用于将抛光轮（51）与转轴（52）拉紧的螺母（54）。

7.根据权利要求1所述的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮，其特征在于：所述的抛光轮的轮轴分离结构替换为抛光轮（71）与转轴（72）通过锥面定位，转轴（72）内孔为内锥面，外表面为锥面的抛光轮（71）凸台穿过转轴（72）与转轴（72）内锥面配合定位，抛光轮（71）凸台顶端设有用于拉紧抛光轮（71）与转轴（72）并使抛光轮（71）外锥面与转轴（72）内锥面紧密贴合的螺母（74）。