CN101812670B - 真空腔体隔离机构 - Google Patents
真空腔体隔离机构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101812670B CN101812670B CN2009102469130A CN200910246913A CN101812670B CN 101812670 B CN101812670 B CN 101812670B CN 2009102469130 A CN2009102469130 A CN 2009102469130A CN 200910246913 A CN200910246913 A CN 200910246913A CN 101812670 B CN101812670 B CN 101812670B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- vacuum cavity
- slurcocks
- vacuum
- door
- impeller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 title claims abstract description 60
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 39
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 36
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 13
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 19
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 abstract 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 12
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000002309 gasification Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 2
- 230000003245 working effect Effects 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开了一种真空腔体隔离机构，适用于对提供真空镀膜的真空腔体内的处理板及蒸发源进行隔离，包括挡盖及控制机构，所述控制机构包括推动轴、推动板及直线驱动装置，所述推动轴的一端密封地穿入所述真空腔体内腔壁并与所述挡盖固定连接，所述挡盖容置于所述真空腔体内且位于真空腔体内的蒸发源与处理板之间，所述推动轴的另一端与所述推动板固定连接，所述推动板位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置安装于所述真空腔体的腔壁上并位于所述真空腔体外且其输出轴与所述推动板固定连接且相互垂直，本发明真空腔体隔离机构能最大限度地提高有机发光二极管基片镀膜层的均匀性及纯净性，使基片镀膜层的品质得到了极大的提高，延长了基片的使用寿命。
Description
技术领域
本发明涉及一种真空腔体隔离机构，尤其涉及一种适用于对真空腔体内的处理板及蒸发源进行隔离的真空腔体隔离机构。
背景技术
OLED，即有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode)，又称为有机电激光显示(Organic Electroluminesence Display，OELD)。因为具备轻薄、省电等特性，因此在数码产品的显示屏上得到了广泛应用，并且具有较大的市场潜力，目前世界上对OLED的应用都聚焦在平板显示器上，因为OLED是唯一在应用上能和TFT-LCD相提并论的技术，OLED是目前所有显示技术中，唯一可制作大尺寸、高亮度、高分辨率软屏的显示技术，可以做成和纸张一样的厚度。其中，在OLED的制作流程中，真空镀膜工艺是OLED制作流程中一个很重要的工艺，真空镀膜是指在真空腔体中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射，沉积到基片表面形成单层或多层薄膜。因为它是关系到OLED的品质高低及寿命长短的最重要因素之一，所以应用于真空镀膜工艺上的各种设备必须满足真空镀膜工艺的精度要求。
现在的蒸镀工艺都需要经历抽真空、加热及镀膜等一系列过程，而在镀膜之前的加热过程中，在未达到蒸发物的蒸发温度时就会有蒸发源将杂质蒸发掉，另有一些蒸发物在加热蒸发过程中会释放出气体。这些杂质和不稳定的气体扩散会造成薄膜厚度不均、组分不净、性能不稳、应力较大、附着不牢固等缺点，影响镀膜质量，薄膜质量侧直接影响显示器件的发光效率。
一般的镀膜设备在真空腔体内的蒸发源和处理板之间没有采取相应的保护措施，此种镀膜设备已经不能满足生产工艺的需要。现在虽然出现了一些通过在蒸发源和处理板之间设置挡板，通过控制挡板的打开及关闭来隔离杂质的隔离机构来解决上述问题，但这些挡板及控制挡板的机构都会被设置在真空腔体内，这些在腔体内部的挡板控制机构很容易造成真空污染，控制机构性能老化等问题，也有另外一些设置在真空腔体外的其他挡板控制机构，如手轮、电机驱动等，但上述结构都具自动化程度低，结构复杂，生产成本较高等缺点。
因此，需要一种能最大限度地提高有机发光二极管基片镀膜层的均匀性且能最大程度地保证了基片镀膜层的成分纯净性的真空腔体隔离机构。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能最大限度地提高有机发光二极管基片镀膜层的均匀性且能最大程度地保证了基片镀膜层的成分纯净性的真空腔体隔离机构。
为了实现上述目的，本发明提供一种真空腔体隔离机构，适用于对提供真空镀膜的真空腔体内的处理板及蒸发源进行隔离，所述控制机构包括推动轴、推动板及直线驱动装置，所述推动轴的一端密封地穿入所述真空腔体内并与所述挡盖固定连接，所述挡盖容置于所述真空腔体内且位于真空腔体内的蒸发源与处理板之间，所述推动轴的另一端与所述推动板固定连接，所述推动板位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置安装于所述真空腔体的腔壁上并位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置的输出轴与所述推动板固定连接且相互垂直，所述直线驱动装置做直线往复运动并驱动所述挡盖隔离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接。
较佳地，所述控制机构还包括波纹管，所述波纹管套于所述推动轴上且一端与所述真空腔体的腔壁密封连接，另一端与所述推动板密封连接。由于所述真空腔体在蒸镀过程中是处于密封状态的，所述推动轴穿过所述真空腔体时会形成缝隙，在所述推动轴套上一密封的波纹管可防止外界的杂质从缝隙进入所述真空腔体内部，对所述真空腔体起到密封作用。
较佳地，所述挡盖具有对接板及安装板，所述对接板与所述安装板垂直固定连接，所述安装板与所述真空腔体的两腔壁及底面相抵触。利用所述对接板与所述安装面板，当挡盖进行隔离时，所述对接板、所述安装板与所述真空腔体腔壁形成密封的隔离腔，起到密封隔离的作用。
较佳地，所述真空腔体隔离机构还包括导向机构，所述导向机构包括导向轴及支撑板，所述真空腔体的腔壁上固定有安装所述直线驱动机构的固定板，所述导向轴的一端枢接地穿过所述推动板并与所述固定板垂直地固定连接，所述导向轴的另一端与所述支撑板垂直地固定连接，所述支撑板、推动板及固定板相互平行，所述导向轴与所述推动轴及直线驱动机构的输出轴相互平行。通过所述固定板及所述支撑板将所述导向轴固定于所述真空腔体外，为所述推动板提供了导向作用，从而保证了挡盖运动的平稳性和方向的正确性，另外，所述固定板设置于所述真空腔体的腔壁上很好的保障了整个真空腔体的强度。
较佳地，所述导向机构还包括直线轴承，所述直线轴承固定于推动板上且套于所述导向轴上。由于所述导向轴为所述推动轴提供导向作用，所述推动轴沿所述导向轴作往复运动时，所述推动板与所述导向轴产生滑动摩擦，设置所述直线轴承可减少摩擦，使所述推动轴运动时更加平稳畅顺。
较佳地，所述导向轴至少为两根，所述导向轴以所述推动轴为中心分别对称的垂直固定于所述固定板上。两根所述导向轴为所述推动板提供了导向作用，从而保证了挡盖运动的平稳性和方向的正确性。
较佳地，所述直线驱动机构为气缸式马达。利用气缸的直线往复运动为所述推动板及所述推动轴提供直线运动的动力，可实现对所述挡板在真空腔体的打开及关闭。
较佳地，所述挡盖具有以惰性材质制成的表面。当所述挡盖处于隔离状态时，所述挡盖直接面对所述蒸发源，杂质、待蒸镀及气化的蒸发材料粘会附于所述挡盖的表面上，所述挡盖具有惰性材质的表面可防止杂质、待蒸镀或者气化的蒸发材料与所述挡盖上的材料发生化学反应，保证了真空腔体内的洁净状态，从而保障了待蒸镀膜层不会发生污染及变质。
与现有技术相比，由于本发明所述挡盖与所述推动轴连接，所述推动轴与所述推动板连接，而所述推动板又与所述直线驱动装置连接，通过所述直线驱动装置的往复运动，推动所述推动板进而推动所述推动轴及所述挡盖，使所述挡盖在所述真空腔体内能往复地平移，从而达到在真空镀膜前对处理板及蒸发源进行隔离的目的，防止在真空镀膜前的加热过程中，杂质及不稳定的气体扩散对基片镀膜层的造成不利影响，使基片镀膜层厚度更均匀，成分更纯净，性能更稳定，且使基片镀膜层与基片表面的连接更牢固和可靠，因此提高了基片镀膜层的品质及延长了使用寿命。
附图说明
图1是本发明真空腔体隔离机构第一种实施例的结构示意图。
图2图1所示真空腔体隔离机构第一种实施例的延伸实施例的结构示意图。
图3是本发明真空腔体隔离机构第二种实施例的结构示意图。
图4图3所示真空腔体隔离机构第二种实施例的延伸实施例的结构示意图。
图5是本发明真空腔体隔离机构第三种实施例的结构示意图。
图6图5所示真空腔体隔离机构第三种实施例的延伸实施例的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示为本发明的第一种实施例，如图所示，真空腔体隔离机构100包括真空腔体1，两挡盖2、两导向机构3及两控制机构4，两挡盖2、两所述导向机构3及两控制机构4分别设置于所述真空腔体1的两侧，所述真空腔体1呈中空密封结构，所述蒸发源(图中未示)与所述处理板(图中未示)设置于所述真空腔体1内，且所述处理板位于所述蒸发源上方，所述挡盖2以一种金属材料制成，也可以由两种材料通过焊接或螺栓紧固等方式制成，具有对接板21及安装板22，所述对接板21与所述安装板22垂直固定连接，所述安装板22与所述真空腔体1的两腔壁及底面相接触，所述挡盖2内置于所述真空腔体1内且位于所述蒸发源与所述处理板之间，其表面镀上惰性材料，保障待蒸镀膜层不会发生污染及变质，所述导向机构3包括导向轴31及支撑板32，所述控制机构4包括推动轴41、设有直线轴承42a的推动板42、波纹管43及气缸44。所述真空腔体1的外腔壁具有固定板11，所述固定板11固定于所述真空腔体1的腔壁上，所述导向轴31一端与所述固定板11垂直地固定连接，另一端与所述支撑板32垂直地固定连接，所述导向机构3为所述推动轴41提供导向作用，保证了挡盖2运动平稳和方向正确。所述推动轴41一端密封地穿入所述真空腔体1的腔壁并与所述挡盖2垂直地固定连接，所述推动轴41的另一端与所述推动板42垂直地固定连接，所述推动板42上的所述直线轴承42a套接于所述推动轴41上，可减小所述推动板42与所述推动轴41之间的摩擦，所述气缸44的缸体固定于所述推动板42上，所述气缸44的活塞杆穿过推动板42垂直地固定于所述支撑板32上，所述波纹管43套接于所述推动轴41上，一端与所述真空腔体1腔壁密封连接，另一端与所述推动板42密封连接。密封连接的波纹管43可防止外界的杂质进入所述真空腔体1内部，对所述真空腔体1起到密封作用。
下面对实施例一的真空腔体隔离机构的工作原理进行详细描述：
隔离前，两所述挡盖2分离，真空腔体隔离机构100处于打开状态，蒸镀前蒸发源加热，为了防止处理板上的基片被杂质及不稳定的气体污染，需要将蒸发源与处理板隔离，这时启动两侧的所述气缸44，气缸44缸体充气，推动活塞杆伸出缸体，由于活塞杆与所述支撑板32固定，因此所述气缸44缸体向后运动带动所述推动板42，在所述直线轴承42a的辅助下，所述推动板42向靠近所述真空腔体1的方向运动并压缩所述波纹管43，进而带动所述推动轴41伸入所述真空腔体1腔体内，两所述挡盖2在所述推动轴41的推动下相互靠近，直到两所述挡盖2的所述对接板21接触将所述真空腔体1及蒸发源隔离。当不需要隔离时，启动所述气缸44，控制所述气缸44的活塞杆往与打开时的运动方向相反的方向运动，即可将所述挡盖2打开。
如图2所示，为第一种实施例的延伸实施例，所述真空腔体隔离机构200利用一所述控制机构4及一所述导向机构3控制一挡盖2’来实现对蒸发源及处理板的隔离，与上述实施例一的工作原理相同，不同之处在于：真空腔体1内还设有一隔离板12，对于同样的蒸发源，挡盖2’比实施例一中的所述挡盖2的面积大，且该延伸实施例可以根据蒸发源的位置设置所述气缸44的行程，隔离时，挡盖2’运动直到与所述真空腔体1的腔壁接触，使所述隔离板12、所述挡盖2’与腔壁组成一隔离腔将蒸发源隔离，从而实现对蒸发源及处理板完全隔离。
如图3及图4所示，本发明的第二种实施例及其延伸实施例，该实施例真空腔体隔离机构300及其延伸实施例的真空腔体隔离机构400与第一种实施例的真空腔体隔离机构100及其延伸实施例的真空腔体隔离机构200的组件结构及工作原理基本相同，不同点在于所述气缸44缸体固定于所述固定板11上，活塞杆固定于所述推动板42上，其达到的最终效果与第一种实施例相同，因此不再详细描述。
如图5所示，为本发明的第三种实施例，如图所示，真空腔体隔离机构500包括真空腔体1，两挡盖2及两控制机构4，两控制机构4分别设置于所述真空腔体1的两侧，包括推动轴41、推动板42’、波纹管43及气缸44，所述推动轴41一端自由穿过所述真空腔体1的腔壁并伸入所述真空腔体1内与所述挡盖2垂直地固定连接，所述推动轴41的另一端与所述推动板42’垂直地固定连接，所述气缸44的缸体固定于所述固定板11上，活塞杆固定于所述推动板42’上，所述波纹管43套接于所述推动轴41上，一端与所述真空腔体1腔壁密封连接，另一端与所述推动板42’密封连接。隔离前，活塞杆伸出所述气缸44，真空腔体1处于非隔离状态，隔离时启动两侧的所述气缸44，活塞杆缩进气缸44缸体，由于缸体与所述固定板11固定，因此活塞杆带动所述推动板42’，所述推动板42’向靠近所述真空腔体1的方向运动并压缩所述波纹管43，进而带动所述推动轴41伸入所述真空腔体1腔体内，两所述挡盖2在所述推动轴41的推动下相互靠近，直到两所述挡盖2的对接板21接触将所述真空腔体1及蒸发源隔离。当不需要隔离时，启动所述气缸44，控制所述气缸44的活塞杆往与打开时的运动方向相反的方向运动，即可将所述挡盖2打开。
如图6所示，为第三种实施例的延伸实施例，真空腔体隔离机构600利用一所述控制机构4控制一挡盖2’来实现对蒸发源及处理板的隔离，与上述第三种实施例的工作原理相同，不同之处在于：真空腔体1内还设有一隔离板12，对于同样的蒸发源，挡盖2’比第三种实施例中的所述挡盖2的面积大，且该延伸的实施例可以根据蒸发源的位置设置所述气缸44的行程，隔离时，挡盖2’运动直到与所述真空腔体1的腔壁接触，使所述隔离板12、所述挡盖2’与腔壁组成一隔离腔将蒸发源隔离，从而实现对蒸发源及处理板完全隔离。
由于本发明所述挡盖2与所述推动轴41连接，所述推动轴41与所述推动板42连接，而所述推动板42又与所述气缸44连接，通过所述气缸44的往复运动，推动所述推动板42进而推动所述推动轴41及所述挡盖2，使所述挡盖2在所述真空腔体1内能往复地平移，从而达到在真空镀膜前对处理板及蒸发源进行隔离的目的，防止在真空镀膜前的加热过程中，杂质及不稳定的气体扩散对基片镀膜层造成不利影响，且通过在所述推动轴41上套接密封波纹管43，可防止外界的杂质从所述推动轴41与所述真空腔体1之间的缝隙进入所述真空腔体1内部，对所述真空腔体1起到密封作用，并在所述挡盖2表面镀上惰性材质的可防止杂质、待蒸镀或者气化的蒸发材料与所述挡盖2自身的材料发生化学反应，保证了真空腔体1内的洁净状态，从而保障了待蒸镀膜层不会发生污染及变质，使基片镀膜层厚度更均匀，成分更纯净，性能更稳定，与基片表面的连接更牢固可靠，提高了基片镀膜层的品质及延长了基片的使用寿命。
本发明真空腔体隔离机构100所涉及到的真空腔体1及挡盖2的尺寸大小及安装方法均为本领域普通技术人员所熟知，在此不再做详细的说明。
以上所揭露的仅为本发明的较佳实例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明申请专利范围所作的等同变化，仍属于本发明所涵盖的范围。
Claims (7)
1.一种真空腔体隔离机构，适用于对提供真空镀膜的真空腔体内的处理板及蒸发源进行隔离，所述真空腔体隔离机构包括挡盖及控制机构，所述挡盖具有对接板及安装板，所述对接板与所述安装板垂直固定连接，所述安装板与所述真空腔体的两腔壁及底面相接触，所述控制机构包括推动轴、推动板及直线驱动装置，所述推动轴的一端密封地穿入所述真空腔体内腔壁并与所述挡盖固定连接，所述挡盖容置于所述真空腔体内且位于真空腔体内的蒸发源与处理板之间，所述推动轴的另一端与所述推动板固定连接，所述推动板位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置安装于所述真空腔体的腔壁上并位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置的输出轴与所述推动板固定连接且相互垂直，所述直线驱动装置做直线往复运动并驱动所述挡盖隔离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接。
2.如权利要求1所述的真空腔体隔离机构，其特征在于：所述控制机构还包括波纹管，所述波纹管套于所述推动轴上且一端与所述真空腔体的腔壁密封连接，另一端与所述推动板密封连接。
3.如权利要求1所述的真空腔体隔离机构，其特征在于：所述真空腔体隔离机构还包括导向机构，所述导向机构包括导向轴及支撑板，所述真空腔体的腔壁上固定有安装所述直线驱动机构的固定板，所述导向轴的一端枢接地穿过所述推动板并与所述固定板垂直地固定连接，所述导向轴的另一端与所述支撑板垂直地固定连接，所述支撑板、推动板及固定板相互平行，所述导向轴与所述推动轴及直线驱动机构的输出轴相互平行。
4.如权利要求3所述的真空腔体隔离机构，其特征在于：所述导向机构还包括直线轴承，所述直线轴承固定于推动板上且套接于所述导向轴上。
5.如权利要求3所述的真空腔体隔离机构，其特征在于：所述导向轴至少为两根，所述导向轴以所述推动轴为中心分别对称的垂直固定于所述固定板上。
6.如权利要求1所述的真空腔体隔离机构，其特征在于：所述直线驱动机构为气缸式马达。
7.如权利要求1所述的真空腔体隔离机构，其特征在于：所述挡盖具有以惰性材质制成的表面。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2009102469130A CN101812670B (zh) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | 真空腔体隔离机构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2009102469130A CN101812670B (zh) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | 真空腔体隔离机构 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101812670A CN101812670A (zh) | 2010-08-25 |
| CN101812670B true CN101812670B (zh) | 2012-05-30 |
Family
ID=42620035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2009102469130A Expired - Fee Related CN101812670B (zh) | 2009-12-01 | 2009-12-01 | 真空腔体隔离机构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101812670B (zh) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103021910B (zh) * | 2012-11-30 | 2015-09-09 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 可移动式密封装置 |
| CN108463928B (zh) * | 2016-01-30 | 2020-07-14 | 伊雷克托科学工业股份有限公司 | 系统隔离和光学隔间密封 |
| CN111778481B (zh) * | 2020-07-27 | 2020-12-25 | 江苏兴广包装科技有限公司 | 一种图案尺寸可控制的定位真空镀膜设备 |
| CN115323330A (zh) * | 2022-07-19 | 2022-11-11 | 广东腾胜科技创新有限公司 | 一种带阀门隔离蒸发室与卷绕室的电子束蒸发镀膜设备 |
-
2009
- 2009-12-01 CN CN2009102469130A patent/CN101812670B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101812670A (zh) | 2010-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101812670B (zh) | 真空腔体隔离机构 | |
| KR101061076B1 (ko) | 스퍼터링 캐소드, 스퍼터링 캐소드를 구비한 스퍼터링 장치, 필름-형성 방법, 및 전자 장치 제조 방법 | |
| CN101665913B (zh) | 真空镀膜用处理装置 | |
| CN101760720A (zh) | 真空腔体遮挡装置 | |
| US20170211173A1 (en) | Evaporation device and evaporation method using the same | |
| CN102751438A (zh) | 有机el器件制造方法 | |
| US20140238105A1 (en) | Device for detecting evaporation source and method for applying the same | |
| CN101838792B (zh) | 一种用于柔性衬底大面积薄膜制备的真空热蒸镀设备 | |
| CN201673938U (zh) | 真空腔体隔离装置 | |
| CN202022972U (zh) | 基片镀膜处理设备 | |
| JP2013122923A (ja) | 真空蒸着装置 | |
| CN201605316U (zh) | 真空镀膜用遮挡装置 | |
| CN219526773U (zh) | 离子溅射镀膜装置 | |
| TWI396065B (zh) | 蒸發源掃描裝置及具有該裝置之蒸發設備 | |
| KR101430653B1 (ko) | 박막 증착용 인라인 스퍼터 장치 | |
| JP2020056054A (ja) | 成膜装置、成膜方法、および電子デバイスの製造方法 | |
| CN112899621B (zh) | 一种蒸发源装置和蒸镀设备 | |
| JP5003667B2 (ja) | 薄膜の製造方法および薄膜製造装置 | |
| JPH09268369A (ja) | スパッタリング成膜装置 | |
| KR20140099340A (ko) | 스퍼터링 장치 및 산화물 반도체 물질의 스퍼터링 방법 | |
| CN114959597A (zh) | 成膜装置、电子器件的制造方法及成膜源的维护方法 | |
| KR101888433B1 (ko) | 박막 증착장비용 밸브장치 | |
| CN114381698B (zh) | 成膜装置 | |
| CN110872693B (zh) | 成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法 | |
| CN114182220B (zh) | 溅射装置及成膜方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PP01 | Preservation of patent right |
Effective date of registration: 20131205 Granted publication date: 20120530 |
|
| RINS | Preservation of patent right or utility model and its discharge | ||
| PD01 | Discharge of preservation of patent |
Date of cancellation: 20140905 Granted publication date: 20120530 |
|
| PP01 | Preservation of patent right |
Effective date of registration: 20140905 Granted publication date: 20120530 |
|
| RINS | Preservation of patent right or utility model and its discharge | ||
| PD01 | Discharge of preservation of patent |
Date of cancellation: 20150905 Granted publication date: 20120530 |
|
| PP01 | Preservation of patent right |
Effective date of registration: 20150905 Granted publication date: 20120530 |
|
| RINS | Preservation of patent right or utility model and its discharge | ||
| PD01 | Discharge of preservation of patent |
Date of cancellation: 20210905 Granted publication date: 20120530 |
|
| PD01 | Discharge of preservation of patent | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120530 Termination date: 20131201 |