CN219526773U - 离子溅射镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种离子溅射镀膜装置，包括：腔体组件，所述腔体组件包括外壳体与内筒体，所述内筒体设置于所述外壳体内，内筒体的外壁与外壳体的内壁围成有工作腔，所述外壳体的侧壁开设有第一开口，所述第一开口与所述工作腔连通，工作状态下，所述工作腔为真空环境；离子溅射组件，所述离子溅射组件与所述外壳体连接；运输件，所述运输件设置于所述工作腔内，所述运输件用于携带基板在所述工作腔内运动。由于采用筒状的工作腔，其用于镀膜的表面积大于常规的伞具和行星轮结构所获得镀膜面积，有利于提高镀膜效率。另外，内筒体中间区域无需保持真空，为常压状态，有利于大幅降低泵体和加热的能耗，从而降低生产成本，提高经济效益。

Description

离子溅射镀膜装置

技术领域

本实用新型涉及镀膜机技术领域，特别是涉及一种离子溅射镀膜装置。

背景技术

随着自动加工技术的发展，出现了镀膜机技术。现有的镀膜机主要有以下几种类型：PVD(Physical Vapor Deposition，物理气象沉积)设备，主要有磁控溅射镀膜机，离子溅射镀膜机和电子枪蒸发镀膜机。还有传统的CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)镀膜机以及CVD的一类特殊分支—ALD(Atomic Layer Deposition，原子层沉积)镀膜机。

传统技术中，其中传统的离子溅射镀膜机的一般结构包括圆形离子溅射源、靶材和基板，工作时圆形离子溅射源轰击靶材，使得膜层沉积在平面基板上，这种情况，受限于离子源的尺寸与圆形基板，导致机台的镀膜面积小，镀膜速率低。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种离子溅射镀膜装置，能够有效提高镀膜效率。

其技术方案如下：一种离子溅射镀膜装置，所述离子溅射镀膜装置包括：腔体组件，所述腔体组件包括外壳体与内筒体，所述内筒体设置于所述外壳体内，所述内筒体的外壁与所述外壳体的内壁围成有工作腔，所述外壳体的侧壁开设有第一开口，所述第一开口与所述工作腔连通，工作状态下，所述工作腔为真空环境；离子溅射组件，所述离子溅射组件与所述外壳体连接，所述离子溅射组件包括第一离子源与靶材件，所述靶材件与所述第一开口对应设置，所述第一离子源与所述靶材件呈夹角设置；运输件，所述运输件设置于所述工作腔内，所述运输件用于携带基板在所述工作腔内运动。

上述离子溅射镀膜装置，在工作过程中，将一个或两个以上基板同时放置在工作腔内的运输件上，运输件带动基板绕工作腔的周向转动，在第一开口处，靶材件放置在溅射离子源和基板之间，三者之间形成三角关系。第一离子源对靶材件进行轰击，靶材件的膜层反射并沉积至基板上，从而对基板进行镀膜。由于采用筒状的工作腔，其用于镀膜的表面积大于常规的伞具和行星轮结构所获得镀膜面积，有利于提高镀膜效率。另外，由于内筒体的存在，内筒体中间区域无需保持真空，为常压状态，使得工作腔的实际体积缩小，有利于大幅降低泵体和加热的能耗，从而降低生产成本，提高经济效益。

在其中一个实施例中，所述内筒体的开口轮廓为圆形，所述外壳体的开口为圆形，所述工作腔的外轮廓为圆环形，所述运输件用于携带所述基板沿所述工作腔周向运动。

在其中一个实施例中，所述离子溅射组件还包括安装件，所述安装件与所述外壳体连接，所述安装件开设有安装腔及分别连通于所述安装腔的第二开口与第三开口，所述第一离子源与所述安装件连接，且所述第一离子源通过所述第二开口与所述安装腔连通，所述第三开口通过所述第一开口与所述工作腔连通，所述靶材件设置于所述安装腔内。

在其中一个实施例中，所述靶材件包括转轴、固定板、第一靶材及第二靶材，所述固定板通过所述转轴与所述安装腔的腔壁转动连接，所述第一靶材与所述第二靶材分别连接于所述固定板的相背对的两侧面。

在其中一个实施例中，所述离子溅射组件为两个以上，所述第一开口为两个以上并在所述外壳体的周向间隔设置，所述第一开口与所述离子溅射组件为一一对应设置。

在其中一个实施例中，所述离子溅射镀膜装置还包括辅助离子源，所述外壳体开设有第四开口，所述第四开口与所述第一开口在所述外壳体的周向侧壁上间隔设置，所述辅助离子源与所述外壳体连接并与所述第四开口对应设置，所述辅助离子源用于辅助镀膜。

在其中一个实施例中，所述辅助离子源为两个以上，所述第四开口为两个以上并在所述外壳体的周向间隔设置，所述辅助离子源与所述第四开口为一一对应设置。

在其中一个实施例中，所述离子溅射镀膜装置还包括光学监控件，所述外壳体的外壁还开设有第五开口，所述光学监控件通过所述第五开口与所述工作腔连通，所述光学监控件用于监控基板的镀膜厚度。

在其中一个实施例中，所述离子溅射镀膜装置还包括机架及供气室，所述供气室连接于所述外壳体与机架之间，且所述供气室与所述工作腔连通，所述供气室用于向所述工作腔提供隔离气体和/或工艺气体。

在其中一个实施例中，所述离子溅射镀膜装置还包括盖板组件，所述盖板组件可开闭式盖设于所述工作腔的腔口上，所述盖板组件具有第一工作位置和第二工作位置，所述第一工作位置时，所述盖板组件与所述工作腔的腔口密封配合，所述第二工作位置时，所述盖板组件与所述工作腔脱离密封配合。

在其中一个实施例中，所述离子溅射镀膜装置还包括抽气管，所述内筒体开设有抽气孔，所述抽气管设置于所述内筒体背向所述工作腔的一侧，所述抽气管通过所述抽气孔与所述工作腔连通。

附图说明

构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为一实施例中所述的离子溅射镀膜装置的整体结构示意图；

图2为图1中所述的离子溅射镀膜装置的另一视角结构示意图；

图3为图1中所述的离子溅射镀膜装置的第一工作位置的结构示意图；

图4为图1中所述的靶材件的具体结构示意图。

附图标记说明：

100、离子溅射镀膜装置；110、腔体组件；111、外壳体；112、内筒体；113、工作腔；120、离子溅射组件；121、第一离子源；122、靶材件；123、安装件；124、转轴；125、固定板；126、第一靶材；127、第二靶材；130、辅助离子源；140、光学监控件；150、机架；151、移动轮；160、供气室；170、盖板组件；171、盖板本体；172、驱动件；180、抽气管；200、基板。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

离子溅射镀膜法是一种由离子溅射形成干涉膜增进相间衬度显示组织的方法，其工作原理是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极(靶)和阳极(试样)间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。受限于离子源的尺寸与圆形基板200，导致机台的镀膜面积小，镀膜速率低。基于此，有必要提供一种离子溅射镀膜装置100，能够有效提高镀膜效率。

请参阅图1与图2，图1示出了本实用新型一实施例中所述的离子溅射镀膜装置100的整体结构示意图；图2示出了图1中所述的离子溅射镀膜装置100的另一视角结构示意图，本实用新型一实施例提供了的一种离子溅射镀膜装置100，离子溅射镀膜装置100包括：腔体组件110，离子溅射组件120及运输件(图中未示出)。腔体组件110包括外壳体111与内筒体112，内筒体112设置于外壳体111内，内筒体112的外壁与外壳体111的内壁围成有工作腔113，外壳体111的侧壁开设有第一开口(图中未示出)，第一开口与工作腔113连通。工作状态下，工作腔113为真空环境。离子溅射组件120与外壳体111连接，离子溅射组件120包括第一离子源121与靶材件122，靶材件122与第一开口对应设置，第一离子源121与靶材件122呈夹角设置。运输件设置于工作腔113内，运输件用于携带基板200在工作腔113内运动。

上述离子溅射镀膜装置100，在工作过程中，将一个或两个以上基板200同时放置在工作腔113内的运输件上，运输件带动基板200绕工作腔113的周向转动，在第一开口处，靶材件122放置在溅射离子源和基板200之间，三者之间形成三角关系。第一离子源121对靶材件122进行轰击，靶材件122的膜层反射并沉积至基板200上，从而对基板200进行镀膜。由于采用筒状的工作腔113，其用于镀膜的表面积大于常规的伞具和行星轮结构所获得镀膜面积，有利于提高镀膜效率。另外，由于内筒体112的存在，内筒体112中间区域无需保持真空，为常压状态，使得工作腔113的实际体积缩小，有利于大幅降低泵体和加热的能耗，从而降低生产成本，提高经济效益。

可选地，内筒体112与外壳体111内壁的连接方式可以为固定连接，还可以为可拆卸连接。

在一个实施例中，请参阅图1与图2，内筒体112与外壳体111的底壁可拆卸连接，内筒体112拆卸后，外壳体111的内部为真空状态。例如，内筒体112与外壳体111通过卡接、插接、销接、螺纹连接、螺栓连接、磁吸连接等方式与外壳体111的底壁可拆卸连接。如此，使得离子溅射镀膜装置100具有两种工作模式：内筒体112安装在外壳体111内部时，能够实现上述技术方案的旋转式正常工作方式。内筒体112从外壳体111的内壁取出时，也能够对基板200进行正常的离子溅射镀膜工艺，形成常规离子溅射镀膜设备，从而实现一机两用。

可选地，外壳体111的外轮廓可以为圆形、矩形、三角形、正多边形或其它不规则形状。内筒体112的外轮廓可以为圆形、矩形、三角形、正多边形或其它不规则形状。

可选地，运输件在工作腔113内的安装方式可以为运输件设置在工作腔113的底壁上，内筒体112与运输件相邻或间隔设置。例如，运输件为具有夹具的传送带，每个基板200设置在相应的夹具上。又或者是运输件安装在内筒体112上，在内筒体112的周向外壁上运动，从而带动基板200运动。还可以为运输件设置在外壳体111的内壁上，在外壳体111的周向内壁上运动，从而带动基板200运动。

具体地，请参阅图1与图2，内筒体112的开口轮廓为圆形，外壳体111的外轮廓为圆形，内筒体112的外轮廓为圆形，工作腔113的外轮廓为圆环形，运输件用于携带基板200在环形的工作腔113内周向运动。如此，多个基板200沿着内筒体112的周向排列并转动，从而能够先后对多个基板200进行离子溅射镀膜工艺，并且其用于镀膜的表面积大于常规的伞具和行星轮结构所获得镀膜面积，有利于进一步提高镀膜效率，降低生产成本。本实施例仅提供一种工作腔113的具体形状选择，但并不以此为限。

在一个实施例中，请参阅图1与图2，离子溅射组件120还包括安装件123。安装件123与外壳体111连接，安装件123开设有安装腔及分别连通于安装腔的第二开口与第三开口，第一离子源121与安装件123连接，且第一离子源121通过第二开口与安装腔连通，第三开口通过第一开口与工作腔113连通，靶材件122设置于安装腔内。因此，通过安装件123能够固定第一离子源121和靶材件122的相对位置，有利于提高结构紧凑性，并且保证工作腔113的密封性。

请参阅图1与图4，图4示出了图1中所述的靶材件122的具体结构示意图。具体地，靶材件122包括转轴124、固定板125、第一靶材126及第二靶材127。固定板125通过转轴124与安装腔的腔壁转动连接，第一靶材126与第二靶材127分别连接于固定板125的相背对的两侧面。其中，第一靶材126与第二靶材127可以为同种靶材，可也以为不同种靶材。如此，通过转轴124的转动，能够增大镀膜面积，通过第一靶材126与第二靶材127的切换，能够实现不同材料镀膜的沉积，进一步提高镀膜效率。

在上述实施例中，固定板125具有两个面分别安装第一靶材126与第二靶材127，进一步地，在其他实施例中，固定板125还可以具有三面、四面、或其它数量用于安装靶材的案子面，从而实现多种靶材的切换。

在一个实施例中，请参阅图1与图2，离子溅射组件120为两个以上，第一开口为两个以上并在外壳体111的周向间隔设置，第一开口与离子溅射组件120为一一对应设置。例如，在图1与图2中，离子溅射组件120为两个，两个离子溅射组件120分别设置于外壳体111的相对两侧，呈180°角设置。如此，两个或更多离子溅射组件120同时工作，能够对两组基板200同时进行镀膜工艺，有利于进一步提高镀膜效率。

在一个实施例中，请参阅图1与图2，离子溅射镀膜装置100还包括辅助离子源130，外壳体111开设有第四开口，第四开口与第一开口在外壳体111的周向侧壁上间隔设置，辅助离子源130与外壳体111连接并与第四开口对应设置，辅助离子源130用于辅助镀膜。如此，通过辅助离子源130进行辅助镀膜，有利于改善膜层质量，降低消光系数和膜层应力。

例如，辅助离子源130通过离子辅助沉积(IAD)技术进行工作，当膜料从电阻加热蒸发源或电子束加热蒸发源蒸发时，沉积分子或原子(沉积粒子)在基板200表面不断受到来自离子源的荷能离子的轰击，通过动量转移，使沉积粒子获得较大的动能。这一简单的过程使薄膜生长发生了根本的变化，从而使薄膜性能得到了改善。

可选地，辅助离子源130种类可以为克夫曼(Kaufman)离子源、霍尔(Hall)离子源、空心阴极离子源、微波离子源等。

在一个实施例中，请参阅图1与图2，辅助离子源130为两个以上，第四开口为两个以上并在外壳体111的周向间隔设置，辅助离子源130与第四开口为一一对应设置。进一步地，辅助离子源130与离子溅射组件120为一一对应设置。因此，每一离子溅射组件120能够对应有一组辅助离子源130，从而两组或多组离子溅射组件120能够单独完成镀膜工艺，有利于提升镀膜效率。

在一个实施例中，离子溅射镀膜装置100还包括光学监控件140，外壳体111的外壁还开设有第五开口，光学监控件140通过第五开口与工作腔113连通，光学监控件140用于监控基板200的镀膜厚度。具体地，第一开口、第四开口、第五开口在外壳体111的周向侧壁上间隔设置。因此，通过光学监控件140，能够在镀膜过程中监控镀膜厚度，保证离子溅射镀膜的工艺品质。

需要说明的是，光学监控件140监控镀膜厚度有多种检测方法，具体在本实施例中，利用光学干涉法，发射一束白光至薄膜表面，当白光入射到薄膜样品内部，来自样品的反射或透射光谱与其厚度有直接关系，通过检测反射光的干涉条纹，即可测量出薄膜的厚度。

在一个实施例中，请参阅图1与图2，离子溅射镀膜装置100还包括机架150及供气室160，供气室160连接于外壳体111与机架150之间，且供气室160与工作腔113连通，供气室160用于向工作腔113提供隔离气体和/或工艺气体。因此，在离子溅射镀膜工艺中，通过供气室160能够为工作腔113提供相应的工作环境，且设置于外壳体111与机架150之间的结构有利于提高结构紧凑性，缩小离子溅射镀膜装置100的整体体积。

离子溅射镀膜，多半是在反应气体存在下进行的，化合物沉积膜的稳定性和光学常数，依赖于气体的类型和阴极材料。常用的反应气体为氧气，常用的阴极材料有铁、镍、铜铅等，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属。反应溅射形成的氧化物是属于有吸收而折射率不是很高的镀膜材料。

请参阅图1与图3，图3为图1中所述的离子溅射镀膜装置100的第一工作位置的结构示意图。在一个实施例中，离子溅射镀膜装置100还包括盖板组件170，盖板组件170可开闭式盖设于工作腔113的腔口上，盖板组件170具有第一工作位置和第二工作位置，第一工作位置时，盖板组件170与工作腔113的腔口密封配合，第二工作位置时，盖板组件170与工作腔113脱离密封配合。如此，设置可开闭式的盖板组件170有利于放置和取出基板200时的操作便利性，提高工作效率。

具体地，请参阅图1，盖板组件170包括盖板本体171及驱动件172，驱动件172设置于机架150上并与外壳体111间隔设置，盖板本体171连接于驱动件172的输出端，驱动件172驱使盖板本体171在第一工作位置及第二工作位置之间运动。因此，通过驱动件172的驱动作用，能够使得盖板本体171运动，从而实现盖板本体171的自动开闭。

可选地，驱动件172的驱动方式可以为电机驱动、气缸驱动、液压驱动或其它驱动方式。

具体地，请参阅图1，驱动件172为气泵。因此，通过气泵驱动盖板本体171转动的方式，使得盖板本体171在外壳体111上实现打开与关闭状态，操作简单，有利于保证盖板本体171与工作腔113的密封性。本实施例仅提供一种驱动件172的具体实施方式，但并不以此为限。

在一个实施例中，请参阅图1与图2，离子溅射镀膜装置100还包括抽气管180，内筒体112开设有抽气孔，抽气管180设置于内筒体112背向工作腔113的一侧，抽气管180通过抽气孔与工作腔113连通。如此，通过抽气管180能够对工作腔113抽真空，且抽气管180设置于内筒体112的内壁一侧有利于充分利用内筒体112的内部空间，提高结构紧凑性，缩小装置整体体积。

在一个实施例中，离子溅射镀膜装置100还包括移动轮151，移动轮为多个，多个移动轮151间隔连接于机架150的底壁上。如此，方便离子溅射镀膜装置100的整体移动，提高安装便利性。具体地，移动轮为万向轮。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述离子溅射镀膜装置包括：

腔体组件，所述腔体组件包括外壳体与内筒体，所述内筒体设置于所述外壳体内，所述内筒体的外壁与所述外壳体的内壁围成有工作腔，所述外壳体的侧壁开设有第一开口，所述第一开口与所述工作腔连通，工作状态下，所述工作腔为真空环境；

离子溅射组件，所述离子溅射组件与所述外壳体连接，所述离子溅射组件包括第一离子源与靶材件，所述靶材件与所述第一开口对应设置，所述第一离子源与所述靶材件呈夹角设置；

运输件，所述运输件设置于所述工作腔内，所述运输件用于携带基板在所述工作腔内运动。

2.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述内筒体的开口轮廓为圆形，所述外壳体的开口为圆形，所述工作腔的外轮廓为圆环形，所述运输件用于携带所述基板沿所述工作腔周向运动。

3.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述离子溅射组件还包括安装件，所述安装件与所述外壳体连接，所述安装件开设有安装腔及分别连通于所述安装腔的第二开口与第三开口，所述第一离子源与所述安装件连接，且所述第一离子源通过所述第二开口与所述安装腔连通，所述第三开口通过所述第一开口与所述工作腔连通，所述靶材件设置于所述安装腔内。

4.根据权利要求3所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述靶材件包括转轴、固定板、第一靶材及第二靶材，所述固定板通过所述转轴与所述安装腔的腔壁转动连接，所述第一靶材与所述第二靶材分别连接于所述固定板的相背对的两侧面。

5.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述离子溅射组件为两个以上，所述第一开口为两个以上并在所述外壳体的周向间隔设置，所述第一开口与所述离子溅射组件为一一对应设置。

6.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述离子溅射镀膜装置还包括辅助离子源，所述外壳体开设有第四开口，所述第四开口与所述第一开口在所述外壳体的周向侧壁上间隔设置，所述辅助离子源与所述外壳体连接并与所述第四开口对应设置，所述辅助离子源用于辅助镀膜。

7.根据权利要求6所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述辅助离子源为两个以上，所述第四开口为两个以上并在所述外壳体的周向间隔设置，所述辅助离子源与所述第四开口为一一对应设置；和/或，

所述离子溅射镀膜装置还包括光学监控件，所述外壳体的外壁还开设有第五开口，所述光学监控件通过所述第五开口与所述工作腔连通，所述光学监控件用于监控基板的镀膜厚度。

8.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述离子溅射镀膜装置还包括机架及供气室，所述供气室连接于所述外壳体与机架之间，且所述供气室与所述工作腔连通，所述供气室用于向所述工作腔提供隔离气体和/或工艺气体。

9.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述离子溅射镀膜装置还包括盖板组件，所述盖板组件可开闭式盖设于所述工作腔的腔口上，所述盖板组件具有第一工作位置和第二工作位置，所述第一工作位置时，所述盖板组件与所述工作腔的腔口密封配合，所述第二工作位置时，所述盖板组件与所述工作腔脱离密封配合。

10.根据权利要求1-9中任意一项所述的离子溅射镀膜装置，其特征在于，所述离子溅射镀膜装置还包括抽气管，所述内筒体开设有抽气孔，所述抽气管设置于所述内筒体背向所述工作腔的一侧，所述抽气管通过所述抽气孔与所述工作腔连通。