CN101767938B - 一种wo3水合物纳米薄膜的制备方法 - Google Patents

一种wo3水合物纳米薄膜的制备方法 Download PDF

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Abstract

一种WO3水合物纳米薄膜的制备方法,首先将钨粉加入到过氧化氢溶液中待反应结束后,收集烧杯中的过滤液记为溶液A;向A溶液中加入去离子水稀释得溶液B;将基板依次在水和无水乙醇中超声波震荡活化处理;将B溶液倒入微波水热反应釜中,再放入活化处理过的基板,选择控温模式进行反应,反应结束后自然冷却到室温;打开水热反应釜,取出基板,放入电热鼓风干燥箱中干燥即得WO3水合物纳米薄膜。本发明能够快速制备出具有水合分子的WO3水合物纳米薄膜,由于反应一步完成,无后续处理,制备周期短,且工艺设备简单,成本低,所得WO3薄膜形貌规则,结晶性高,纯度高。

Description

一种WO<sub>3</sub>水合物纳米薄膜的制备方法
技术领域
本发明属于材料制备领域,具体涉及一种WO3水合物纳米薄膜的制备方法。
背景技术
作为一种过渡金属氧化物半导体材料,纳米WO3薄膜由于其多样的晶体形态形貌,以及有趣的物理化学性质目前被广泛研究。特别是因为其具有电致变色,热致变色,气致变色和光催化效应,目前已被广泛应用在众多领域中,如智能窗材料,太阳能电池装置,气敏探测器和光催化剂等。
目前为止,传统纳米WO3薄膜的制备方法主要有化学气相沉积法,物理气相沉积法,磁控溅射法,溶胶凝胶法等。上述方法中,大多设备昂贵,工艺复杂,耗费资源或者形貌难以精确控制,所得晶体效果不理想。而近十年来国内兴起的新兴的制备方法如水热,溶剂热法等,给WO3纳米薄膜的制备开拓了新的道路,但其也有制备周期过长,重复性不高的缺点。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的缺点,提供了一种不仅制备成本低,而且操作简单、反应周期短的WO3水合物纳米薄膜的制备方法。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:
1)首先,在烧杯中加入分析纯的体积分数为30%的过氧化氢溶液,并将烧杯置于冷水浴中,缓慢、分次地加入分析纯、颗粒大小为200目的钨粉,待其反应结束后,收集烧杯中的过滤液记为溶液A,其中每5ml过氧化氢溶液中加入1g钨粉;
2)然后,向A溶液中加入去离子水使溶液中W元素的浓度在0.005~1mol/L,得到溶液B;
3)薄膜基板清洗:将基板依次在水和无水乙醇中超声波震荡5-20分钟,然后将体积分数为70%的硝酸和体积分数为30%双氧水按1∶1的体积比混合得混合液,将已洗好的基板在混合液中浸泡活化处理0.5-5小时;
4)将上述B溶液倒入微波水热反应釜中,填充度控制在40%~80%,再放入活化处理过的基板;然后密封微波水热反应釜,将其放入MDS-8型温压双控微波水热反应仪中;选择控温模式进行反应,水热温度控制在80℃~220℃,反应时间控制在1min-480min,反应结束后自然冷却到室温;
5)打开水热反应釜,取出基板,放入电热鼓风干燥箱中在30℃-120℃下干燥即得WO3水合物纳米薄膜。
本发明的基板采用载玻片、ITO玻璃、Si基板或Al2O3玻璃板。
本发明能够快速制备出具有水合分子的WO3水合物纳米薄膜,由于反应一步完成,无后续处理,制备周期短,且工艺设备简单,成本低,所得WO3水合物薄膜形貌规则,结晶性高,纯度高。
附图说明
图1是本发明实施例1制备的WO3水合物纳米薄膜X-射线衍射(XRD)图谱。
具体实施方式
实施例1:1)首先,在烧杯中加入20ml分析纯的体积分数为30%的过氧化氢溶液,并将烧杯置于冷水浴中,缓慢、分次地加入4g分析纯、颗粒大小为200目的钨粉,待其反应结束后,收集烧杯中的过滤液记为溶液A;
2)然后,向A溶液中加入去离子水使溶液中W元素的浓度在0.181mol/L,得到溶液B;
3)薄膜基板清洗:将载玻片依次在水和无水乙醇中超声波震荡10分钟,然后将体积分数为70%的硝酸和体积分数为30%双氧水按1∶1的体积比混合得混合液,将已洗好的基板在混合液中浸泡活化处理3小时;
4)将上述B溶液倒入微波水热反应釜中,填充度控制在60%,再放入活化处理过的基板;然后密封微波水热反应釜,将其放入MDS-8型温压双控微波水热反应仪中;选择控温模式进行反应,水热温度控制在180℃,反应时间控制在60min,反应结束后自然冷却到室温;
5)打开水热反应釜,取出基板,放入电热鼓风干燥箱中在80℃下干燥即得WO3水合物纳米薄膜。
将所得的样品用日本理学D/max2000PCX-射线衍射仪分析样品,发现产物为JCPDS编号为87-1203的属于正交晶系的WO3·0.33H2O晶体(图1)。
实施例2:1)首先,在烧杯中加入20ml分析纯的体积分数为30%的过氧化氢溶液,并将烧杯置于冷水浴中,缓慢、分次地加入4g分析纯、颗粒大小为200目的钨粉,待其反应结束后,收集烧杯中的过滤液记为溶液A;
2)然后,向A溶液中加入去离子水使溶液中W元素的浓度在0.054mol/L,得到溶液B;
3)薄膜基板清洗:将ITO玻璃板依次在水和无水乙醇中超声波震荡20分钟,然后将体积分数为70%的硝酸和体积分数为30%双氧水按1∶1的体积比混合得混合液,将已洗好的基板在混合液中浸泡活化处理1.5小时;
4)将上述B溶液倒入微波水热反应釜中,填充度控制在40%,再放入活化处理过的基板;然后密封微波水热反应釜,将其放入MDS-8型温压双控微波水热反应仪中;选择控温模式进行反应,水热温度控制在130℃,反应时间控制在300min,反应结束后自然冷却到室温;
5)打开水热反应釜,取出基板,放入电热鼓风干燥箱中在50℃下干燥即得WO3水合物纳米薄膜。
实施例3:1)首先,在烧杯中加入20ml分析纯的体积分数为30%的过氧化氢溶液,并将烧杯置于冷水浴中,缓慢、分次地加入4g分析纯、颗粒大小为200目的钨粉,待其反应结束后,收集烧杯中的过滤液记为溶液A;
2)然后,向A溶液中加入去离子水使溶液中W元素的浓度在0.005mol/L,得到溶液B;
3)薄膜基板清洗:将Si基板依次在水和无水乙醇中超声波震荡5分钟,然后将体积分数为70%的硝酸和体积分数为30%双氧水按1∶1的体积比混合得混合液,将已洗好的基板在混合液中浸泡活化处理5小时;
4)将上述B溶液倒入微波水热反应釜中,填充度控制在50%,再放入活化处理过的基板;然后密封微波水热反应釜,将其放入MDS-8型温压双控微波水热反应仪中;选择控温模式进行反应,水热温度控制在220℃,反应时间控制在1min,反应结束后自然冷却到室温;
5)打开水热反应釜,取出基板,放入电热鼓风干燥箱中在30℃下干燥即得WO3水合物纳米薄膜。
实施例4:1)首先,在烧杯中加入20ml分析纯的体积分数为30%的过氧化氢溶液,并将烧杯置于冷水浴中,缓慢、分次地加入4g分析纯、颗粒大小为200目的钨粉,待其反应结束后,收集烧杯中的过滤液记为溶液A;
2)然后,向A溶液中加入去离子水使溶液中W元素的浓度在1mol/L,得到溶液B;
3)薄膜基板清洗:将Al2O3玻璃板依次在水和无水乙醇中超声波震荡15分钟,然后将体积分数为70%的硝酸和体积分数为30%双氧水按1∶1的体积比混合得混合液,将已洗好的基板在混合液中浸泡活化处理0.5小时;
4)将上述B溶液倒入微波水热反应釜中,填充度控制在80%,再放入活化处理过的基板;然后密封微波水热反应釜,将其放入MDS-8型温压双控微波水热反应仪中;选择控温模式进行反应,水热温度控制在80℃,反应时间控制在480min,反应结束后自然冷却到室温;
5)打开水热反应釜,取出基板,放入电热鼓风干燥箱中在120℃下干燥即得WO3水合物纳米薄膜。
本发明采用微波水热工艺,可制备出纯度高、结晶性好的WO3水合物纳米薄膜。本方法制备周期短,工艺简单,重复性高,反应温度低,能耗低,节约生产成本,适合大规模生产制备。

Claims (2)

1.一种WO3水合物纳米薄膜的制备方法,其特征在于:
1)首先,在烧杯中加入分析纯的体积分数为30%的过氧化氢溶液,并将烧杯置于冷水浴中,缓慢、分次地加入分析纯、颗粒大小为200目的钨粉,待其反应结束后,收集烧杯中的过滤液记为溶液A,其中每5ml过氧化氢溶液中加入1g钨粉;
2)然后,向A溶液中加入去离子水使溶液中W元素的浓度在0.005~1mol/L,得到溶液B;
3)薄膜基板清洗:将基板依次在水和无水乙醇中超声波震荡5-20分钟,然后将体积分数为70%的硝酸和体积分数为30%双氧水按1∶1的体积比混合得混合液,将已洗好的基板在混合液中浸泡活化处理0.5-5小时;
4)将上述B溶液倒入微波水热反应釜中,填充度控制在40%~80%,再放入活化处理过的基板;然后密封微波水热反应釜,将其放入MDS-8型温压双控微波水热反应仪中;选择控温模式进行反应,水热温度控制在80℃~220℃,反应时间控制在1min-480min,反应结束后自然冷却到室温;
5)打开水热反应釜,取出基板,放入电热鼓风干燥箱中在30℃-120℃下干燥即得WO3水合物纳米薄膜。
2.根据权利要求1所述的WO3水合物纳米薄膜的制备方法,其特征在于:所述的基板采用载玻片、ITO玻璃、Si基板或Al2O3玻璃板。
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