CN101760633A - 减少铝合金压铸件析出性气孔的五种工艺方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种铝合金压铸工艺方法,尤其是适用于减少铝合金压铸件析出性气孔的工艺方法。本发明结合现行除气工艺方法的经验与存在问题,分别采用原辅材料工艺处理、熔炼设备处理、精炼除气工艺处理、氩气除气工艺处理和熔液处理等五种工艺方法,从而有效减少铝合金压铸件析出性气孔的产生。
Description
所属技术领域
本发明涉及一种铝合金压铸工艺方法,尤其是适用于减少铝合金压铸件析出性气孔的工艺方法。
背景技术
在压铸生产过程中,由于铝合金在由液体凝固成固体时,溶解在铝合金内部的氢会析出形成氢气,这些氢气会留在铸件的内部形成孔洞。剖开检测,内壁光滑,有金属光泽,会存在于铸件的任何地方。铝合金压铸件析出性气孔的存在,对铸件性能的影响主要表现在能使铸件组织致密度降低,力学性能下降。
发明内容
为解决铝合金压铸件中存在大量析出性气孔的问题,我公司在压铸工艺设计过程中,经过大量试制,结合现行除气工艺方法的经验与存在问题,分别采用原辅材料工艺处理、熔炼设备处理、精炼除气工艺处理、氩气除气工艺处理和熔液处理等五种工艺方法,从而有效减少铝合金压铸件析出性气孔的产生。
本发明的有益效果是通过本发明的五种工艺方法,可大大减少铝合金压铸件中的析出性气孔缺陷。
附图说明:
图1所示为精炼除气示意图。
1-坩埚;2-钟罩;3-氯盐类精炼除气剂。
具体实施方式:
1、原辅材料工艺处理:炉料使用前进行吹砂处理,去除炉料表面的锈迹、泥沙等污物,然后进行炉料预热,预热温度:300℃-400℃,保持3h以上,严防带入水分和油污等。
2、熔炼设备的处理:在使用新坩埚或有锈蚀、污物的旧坩埚前进行吹砂清除,坩埚、锭模、熔炼工具,并预热至220-350℃,保温2小时,其中坩埚继续加热至680℃-750℃,保温1小时;新砌的炉子,使用前必须用3天以上的时间进行烘炉干燥处理;熔炼用的工具如浇包、除气用的钟罩等,使用前将表面残余的金属、氧化皮等污物清除干净。
3、精炼除气的处理:精炼除气剂3选用氯盐,精炼设备设计四分之一球型钟罩1,钟罩1球半径SR150mm,钟罩1上均匀设置孔径∮8mm。除气时,将精炼剂3堆放在坩埚内的铝液面上,距离坩埚1内壁约150mm处,然后用钟罩1将除气剂3缓慢压入坩埚3底部100mm,沿坩埚直径1/3处(距坩埚内壁)的圆周匀速移动,去除液面上漂浮的炉渣等杂质。
4、二次除气处理:二次除气选用氩气,精炼除气后,再对接通氩气,用金属导管将氩气压入坩埚底100mm处,对铝液压入氩气,从而进行二次除气。
5、熔液的处理:铝液放置时间不可超过6小时,铝合金熔化温度控制在750℃以下,初始熔炼温度不超过910℃。
Claims (6)
1.一种铝合金压铸工艺方法,其特征是通过采用五种除气工艺处理方法,从而实现减少铝合金压铸件析出性气孔的产生。
2.根据权利要求1所述的铝合金压铸工艺方法,其特征是采用原辅材料工艺处理,炉料使用前进行吹砂处理,去除炉料表面的锈迹、泥沙等污物,然后进行炉料预热,预热温度:300℃-400℃,保持3h以上,严防带入水分和油污等。
3.根据权利要求1所述的铝合金压铸工艺方法,其特征是采用熔炼设备的处理,在使用新坩埚或有锈蚀、污物的旧坩埚前进行吹砂清除,坩埚、锭模、熔炼工具,并预热至220-350℃,保温2小时,其中坩埚继续加热至680℃-750℃,保温1小时;新砌的炉子,使用前必须用3天以上的时间进行烘炉干燥处理;熔炼用的工具如浇包、除气用的钟罩等,使用前将表面残余的金属、氧化皮等污物清除干净。
4.根据权利要求1所述的铝合金压铸工艺方法,其特征是采用精炼除气的处理,精炼除气剂3选用氯盐,精炼设备设计四分之一球型钟罩1,钟罩1球半径SR150mm,钟罩1上均匀设置孔径∮8mm。除气时,将精炼剂3堆放在坩埚内的铝液面上,距离坩埚1内壁约150mm处,然后用钟罩1将除气剂3缓慢压入坩埚3底部100mm,沿坩埚直径1/3处(距坩埚内壁)的圆周匀速移动,去除液面上漂浮的炉渣等杂质。
5.根据权利要求1所述的铝合金压铸工艺方法,其特征是选用氩气,精炼除气后,再对接通氩气,用金属导管将氩气压入坩埚底100mm处,对铝液压入氩气,从而进行二次除气。
6.根据权利要求1所述的铝合金压铸工艺方法,其特征是严格控制熔液,铝液放置时间不可超过6小时,铝合金熔化温度控制在750℃以下,初始熔炼温度不超过910℃。
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Cited By (5)
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CN105296782A (zh) * | 2015-11-03 | 2016-02-03 | 任静儿 | 一种铝合金除气剂及其制备方法 |
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- 2008-10-24 CN CN200810155512A patent/CN101760633A/zh active Pending
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20100630 |