CN101609257A - 应用于移栽容器的稳压系统 - Google Patents

Abstract

本发明是有关一种应用于移载容器的稳压系统，包含一装置及至少一设于装置上的移转容器；该装置上设有至少一连接进气回路的进气阀件及至少一连接排气回路的稳压阀件，该移转容器具有对应装置进气阀件与稳压阀件的气阀，稳压阀件上具有连通移载容器内部空间的流道孔，且流道孔可同步连接移载容器外部空间，使得装置在通过稳压阀件排出移载容器内部气体时，可防止移载容器内部空间因排气量大于进气量而产生负压影响移载容器开启，并能避免因负压开启时产生强力瞬间进气流动而伤及移载容器内部物件表面。本发明可让移载容器在充填气过程中内外部气压保持平衡，避免影响移载容器开启；另可防止移载容器开启时产生瞬间强力气流，而能保护晶圆或光掩膜表面及洁净度。

Description

应用于移载容器的稳压系统

技术领域

本发明涉及一种可确保移载容器内、外气压平衡的技术领域的稳压系统，特别是涉及一种可以防止移载容器内部产生负压的应用于移载容器的稳压系统，藉以进一步保护移载容器内部的物件。

背景技术

受到半导体制程技术不断开发与成熟化的影响，晶圆的尺寸已由早期的3时、4时、6时、8时进展到12时，至于晶片上的集成电路的线径则不断的微细化，其线径已由早期的0.25微米发展至90～45奈米，而使电子产品不断朝向轻薄短小、高频、高效能等的特性发展，这也代表半导体制程中所产生的不良率，对于厂商的损失也大幅的扩大，因此如何进一步的提高制程的优良率，是各半导体厂商不断思考及研发的方向。

而影响其制程优良率的关键在于晶圆(Wafer)表面的微粒附着量与光掩膜(Reticle，光掩膜即光罩，本文均称为光掩膜)表面的微粒、雾化等现象。而目前晶圆或光掩膜在制作、清洗、操作与储存、运输过程中，不论是置于移转容器或无尘室的环境中，均存在有不少的微粒、水气、气体、化学溶剂分子等有害物质，这些有害物质会附着于晶圆或光掩膜的表面，且在经过长时间储存或曝光制程的加热后，会在晶圆或光掩膜的表面产生微粒附着、结晶、又或雾化等现象，这些现象均会造成晶圆良率的降低，且增加了清理与改善的时间，造成生产量降低，相对的也会提高营运的成本。

因此，为了解决上述问题，业界开发有如美国专利第US 4,532,970号与美国专利第US 4,534,389号的晶圆、光置密闭移转系统，以确保周圆环境的微粒或有害物质不致进入紧邻光掩膜与晶圆的环境中。

由于晶圆或光掩膜污损的原因除了微粒之外，更进一步包含环境中的水气、有毒气体、塑胶制移载容器所释出的硫化物和制作过程中的有害物质，其会造成雾化与结晶的现象，故为了解决这些问题，业界则开发出在移载容器上加装充、填气的结构，可将干净的惰性气体注入该移载容器内以挤出有害气体，同时进一步提升该移载容器的气密性，以防止外部微粒进入、且防止干净的惰性气体流失，例如中国台湾专利公告第223680号及第I262164号等，其均是通过对于该移载容器结构的改变，来提高移载容器的气密性，但是在结构上进行气密性的改良是一项重大的工程，不仅需要增加开发、制模与组装的成本，而且受到材质、盖合力与接触面积等因素的影响，其并无法达到完全气密的效果。因此发明人以前曾开发出一种循环气流的光掩膜盒，通过同步注气与排气的循环气流，来保持光掩膜盒内部的洁净度。

然而发明人并未以此自满，仍以寻求更完善产品予客户为志业，进而发现该循环气流系统在使用过程中可能因光掩膜盒内部流道与储存光掩膜的影响，造成进气量小于排气量的现象，而使该光掩膜盒的内部空间与外部环境形成负压，将影响到该光掩膜盒的开启便利性，甚至造成无法有效的开启，如果在机台内运转的过程中发生此一状况，则可能造成制程机台当机或损坏的状况，从而影响到制程效率。再者，当光掩膜盒内部空间形成负压时，其在开启的瞬间，外部气流会形成一股向内的强力气流，此强力气流可能刮伤光掩膜表面或使微粒或有害物质因气流而扬起，进而附着于光掩膜的表面，造成后续制程中的不良品，由于此一问题同时存在于半导体制程中的其他容器中，如密封式的晶圆容置箱等，故确实有必要做进一步的改良。

由此可见，上述现有的移载容器在结构与使用上，显然仍存在有不便与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但是长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型结构的应用于移载容器的稳压系统，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。

有鉴于上述现有的移载容器存在的缺陷，本发明人基于从事相关产业研发、设计与制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研究创新，以期创设一种新型结构的应用于移载容器的稳压系统，能让前述晶圆或光掩膜的移载容器在充、填气的过程中，有效地保持其内、外部气压的平衡，相信即可克服前述问题，能改进一般现有的移载容器，使其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后，终于创设出确具实用价值的本发明。

发明内容

本发明的主要目的在于，克服现有的移载容器存在的缺陷，而提供一种新型结构的应用于移载容器的稳压系统，所要解决的技术问题是使其可以让移载容器在充、填气的过程中其内、外部的气压保持平衡，能够避免影响移载容器的开启，非常适于实用。

本发明的另一目的在于，提供一种新型结构的应用于移载容器的稳压系统，所要解决的技术问题是使其可以防止移载容器在开启时产生瞬间强力气流，而可以保护晶圆或光掩膜的表面及洁净度，从而更加适于实用。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种应用于移载容器的稳压系统，其包含：一装置，其具有至少一进气回路与至少一排气回路，该装置具有至少一摆置单元，该摆置单元上设有至少一连接进气回路的进气阀件与至少一连接排气回路的稳压阀件，其中稳压阀件具有一个或多数流道孔；至少一移转容器，其具有一可选择性启闭的容置空间，且移转容器上设有复数连通容置空间与外部环境的气阀，不同气阀并可同时串接前述装置的进气阀件与稳压阀件，其中对应稳压阀件的气阀是跨设于流道孔上，使得稳压阀件可同步吸排移载容器容置空间与外部环境的气体。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

前述的应用于移载容器的稳压系统，其中所述的装置是选自晶圆或光掩膜的管理系统储存柜、容置柜、运输设备或制程设备的进出料机体。

前述的应用于移载容器的稳压系统，其中所述的装置是为一供承置光掩膜盒的收纳柜，其具有至少一供光掩膜盒放置的摆置单元，该摆置单元具有供支撑光掩膜盒的承座，且该承座上设有至少一对应光掩膜盒的定位元件，而进气阀件与稳压阀件是设置于摆置单元的承座表面。

前述的应用于移载容器的稳压系统，其中所述的移转容器是选自供容置晶圆或光掩膜的密封式箱体或盒体等。

前述的应用于移载容器的稳压系统，其中所述的移转容器可为储存光掩膜的光掩膜盒，其具有一承置光掩膜的底座，该底座顶面并设有组设呈ㄇ形支撑体的两承抵块与一贴抵块，又底座上覆设有一壳罩，供光掩膜盒形成可选择性启闭的密封环境。

前述的应用于移载容器的稳压系统，其中所述的移转容器的气阀具有一中空的阀体，且阀体内部中段形成设有一具有较小通孔的隔片，该阀体内设有一可相对隔片通孔滑动的浮动杆，该浮动杆两端分别具有一较大径的抵顶部与一可穿出隔片的颈部，且颈部上束设有一可选择性封闭隔片通孔的密封垫圈，而浮动杆的抵顶部与隔片间顶撑有一弹簧，让浮动杆的密封垫圈可相对远离或紧贴隔片，达到让气阀可受进气阀件与稳压阀件作用选择性导通或密封的目的。

前述的应用于移载容器的稳压系统，其中所述的装置的进气阀件具有一中空的阀体，且该阀体内部中段形成设有一具有较小通孔的隔片，该阀体内设有一可相对隔片通孔滑动的浮动杆，该浮动杆的两端分别具有一较大径的抵顶部与一可穿出隔片的颈部，且颈部上束设有一可选择性封闭隔片通孔的密封垫圈，而浮动杆的抵顶部与隔片间顶撑有一弹簧，让浮动杆的密封垫圈可相对远离或紧贴隔片，达到让进气阀件可受气阀作用选择性导通或密封。

前述的应用于移载容器的稳压系统，其中所述的装置的稳压阀件具有一中空的阀体，且该阀体的顶面形成设有一道较大径的凸环片，且阀体内部形成设有一隔片，而同步跨接移载容器气阀内、外部的流道孔是设置于隔片上。

前述的应用于移载容器的稳压系统，其中所述的稳压阀件的隔片顶面并具有向上凸出的推杆，供选择性启闭移载容器气阀的气流通道。

本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本发明应用于移载容器的稳压系统至少具有下列优点及有益效果：本发明通过前述技术手段的展现，使得本发明的装置在通过稳压阀件排出移载容器内部气体时，可以有效地防止移载容器内部空间因排气量大于进气量而产生负压，从而不致影响到移载容器的开启，并且能够避免晶圆或光掩膜表面因瞬间强力气流而污损，而可降低整体的制程成本，进而能够增进厂商的竞争力与经济效益。

综上所述，本发明是有关于一种应用于移载容器的稳压系统，尤指一种可避免移载容器因负压而不容易开启的的稳压系统，该系统包含有一装置及至少一设置于装置上的移转容器；其中，该装置上设有至少一连接进气回路的进气阀件及至少一连接排气回路的稳压阀件，而该移转容器则具有对应装置进气阀件与稳压阀件的气阀，其中稳压阀件上具有可连通移载容器内部空间的流道孔，且该流道孔并可同步连接移载容器的外部空间，使得装置在通过稳压阀件排出移载容器内部气体时，可以防止移载容器内部空间因排气量大于进气量而产生负压，而影响到移载容器的开启，并且能够避免移载容器因负压而在开启时产生强力的瞬间进气流动，而伤及移载容器内部物件的表面。因此，本发明可以让移载容器在充、填气的过程中其内、外部的气压保持平衡，能够避免影响移载容器的开启；另外可以防止移载容器在开启时产生瞬间强力气流，而可保护晶圆或光掩膜的表面及洁净度。本发明具有上述诸多优点及实用价值，其不论在产品结构或功能上皆有较大改进，在技术上有显著的进步，并产生了好用及实用的效果，且较现有的移载容器具有增进的突出功效，从而更加适于实用，诚为一新颖、进步、实用的新设计。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。

附图说明

图1是本发明较佳实施例的装置外观立体图。

图2是本发明较佳实施例的装置局部与移载容器的分解外观立体示意图，说明本发明的结构构成及其相对关系。

图3是本发明较佳实施例中装置的进气阀件与稳压阀件的局部分解及剖面示意图。

图4是本发明较佳实施例中移载容器的分解立体示意图。

图5是本发明较佳实施例中移载容器的气阀分解及剖面示意图。

图6是本发明较佳实施例在实际使用时保持移载容器内部稳压的结构剖视图。

图7A、图7B是本发明较佳实施例在实际使用中移载容器气阀与进气阀件及稳压阀件接合前的局部剖面示意图。

图8A、图8B是本发明较佳实施例在实际使用中移载容器气阀与进气阀件及稳压阀件接合后的局部剖面示意图。

图9是本发明另一较佳实施例的装置与移载容器的分解外观立体示意图。

1：装置                10：收纳柜

11：进气回路           12：排气回路

15：摆置单元           16：承座

17：定位元件           18：感应开关

20：进气阀件           21：阀体

22：隔片               23：浮动杆

24：颈部               25：弹簧

26：密封垫圈           27：抵顶部

270：透孔              271：推杆

30：稳压阀件           31：阀体

32：凸环片             33：隔片

34：流道孔             35：推杆

40：进出料机体         5：移载容器

50：光掩膜盒           51：底座

52：承抵块             53：贴抵块

55：壳罩               60：气阀

61：阀体               62：隔片

63：浮动杆             64：抵顶部

65：颈部               66：弹簧

67：密封垫圈           70：晶圆容置箱

75：箱门

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的应用于移载容器的稳压系统其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

有关本发明的前述及其他技术内容、特点及功效，在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中将可清楚呈现。通过具体实施方式的说明，当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效得一更加深入且具体的了解，然而所附图式仅是提供参考与说明之用，并非用来对本发明加以限制。

请参阅图1、图2所示，图1是本发明较佳实施例的装置的外观立体示意图，图2是本发明较佳实施例的装置局部与移载容器的分解外观立体示意图，说明本发明的结构构成及其相对关系。本发明较佳实施例的应用于移载容器的稳压系统，包含有一装置1以及至少一设置于装置1上的移载容器5；其中，该装置1是选自晶圆或光掩膜的管理系统储存柜、容置柜、运输设备或制程设备的进出料机体等，而该移载容器5具有一可选择性启闭的容置空间，该移载容器5是选自容置晶圆或光掩膜的密封式箱体或盒体等，且装置1与移载容器5之间具有可选择性充填与排出的气流回路。

本发明的移载容器5是以光掩膜盒50为主要实施例，而装置1则是以供容置前述光掩膜盒50的收纳柜10为主要实施例，至于该较佳实施例的详细结构构成，则请进一步参阅图1、图2及图3所示，图3是本发明较佳实施例中装置的进气阀件与稳压阀件的局部分解及剖面示意图。该装置1的收纳柜10具有连接厂务端的进气回路11与排气回路12，且收纳柜10内具有至少一供承置光掩膜盒50的摆置单元15，摆置单元15具有供支撑光掩膜盒50的承座16，且该承座16上设有至少一对应光掩膜盒50的定位元件17，让光掩膜盒50可有效限位于摆置单元15的承座16上；再者，承座16另设有感应开关18，供检知与记录光掩膜盒50，再者摆置单元15的承座16上设有至少一连接进气回路11的进气阀件20与至少一连接排气回路12的稳压阀件30；其中：

上述的进气阀件20，具有一中空的阀体21，且阀体21内部中段形成设有一具有较小通孔的隔片22，又阀体21内设有一可相对隔片22通孔滑动的浮动杆23，该浮动杆23的两端分别具有一可穿出隔片22的颈部24与一较大径的抵顶部27，其中颈部24上束设有一可选择性封闭隔片22通孔的密封垫圈26，而浮动杆23的抵顶部27与隔片22之间顶撑有一弹簧25，让浮动杆23的密封垫圈26可利用弹簧25的压缩相对远离或紧贴隔片22，而达到让气流选择性流通的目的；再者，前述的抵顶部27上具有至少一透孔270，而抵顶部27的顶面具有向上凸出的推杆271，供选择性启闭光掩膜盒50的对应气流通道(如图7、图8所示)；

上述的稳压阀件30，具有一中空的阀体31，且阀体31的顶面形成设有一道较大径的凸环片32，且阀体31的内部形成设有一隔片33，该阀体31的隔片33邻近凸环片32内缘处形成设有一个或多数流道孔34，且前述流道孔34并可同时跨越光掩膜盒50对应气流通道的内部与外部(如图6、图8所示，且隔片33的顶面并具有向上凸出的推杆35，供选择性启闭光掩膜盒50的对应气流通道(如图7、图8所示)。

请参阅图4、图5所示，图4是本发明较佳实施例中移载容器分解立体示意图，图5是本发明较佳实施例中移载容器的气阀分解及剖面示意图。本发明上述的移载容器5的光掩膜盒50，具有一承置光掩膜的底座51，且该底座51的顶面并设有组设呈ㄇ形支撑体的两承抵块52与一贴抵块53，供支撑与抵顶光掩膜；又底座51上覆设有一壳罩55，供光掩膜盒50形成可选择性启闭的密封环境；又光掩膜盒50在底座51的底面设有复数连通前述密封环境的气阀60，且该气阀60并分别对应前述收纳柜10摆置单元15的进气阀件20与稳压阀件30；

上述的气阀60，具有一中空的阀体61，且阀体61内部中段形成设有一具有较小通孔的隔片62，又阀体61内设有一可相对隔片62通孔滑动的浮动杆63，该浮动杆63的两端分别具有一较大径的抵顶部64与一可以穿出隔片62的颈部65，其中，该颈部65上束设有一可选择性封闭隔片62通孔的密封垫圈67，而浮动杆63的抵顶部64与隔片62之间顶撑有一弹簧66，让浮动杆63的密封垫圈67可以利用弹簧66的压缩相对远离或紧贴隔片62，而浮动杆63的抵顶部64并对应前述的进气阀件20与稳压阀件30的推杆271、35，达到让气阀60可受进气阀件20与稳压阀件30作用选择性导通的目的(如图7、图8所示)；

藉由上述结构相组合，组构成一可以有效保持移载容器内、外部环境气压平衡的稳压系统。

请参阅图6、图7A、图7B所示，图6是本发明较佳实施例在实际使用时保持移载容器内部稳压的结构剖视图，图7A、图7B是本发明较佳实施例在实际使用中移载容器气阀与进气阀件及稳压阀件接合前的局部剖面示意图。通过前述的设计，本发明在实际使用时，当移载容器5中容置有光掩膜30的光掩膜盒50未置于装置1的收纳柜10摆置单元15(结合参阅图2所示)上时，该光掩膜盒50底座51的不同气阀60由于未受任何外力的推抵，因此气阀60中的浮动杆63受弹簧66回复预力顶撑而向下定位，使浮动杆63上的密封垫圈67贴抵于隔片62，让光掩膜盒50容置光掩膜的内部空间呈气密状(如图7A、图7B所示)。而收纳柜10的进气阀件20亦未受任何外力的推抵，因此进气阀件20中的浮动杆23受弹簧25回复预力顶撑而向下定位，使浮动杆23上的密封垫圈26贴抵于隔片62，让收纳柜10的进气回路11(结合参阅图1所示)无法由进气阀件20排出气体。

反之，如图8A、图8B所示，是本发明较佳实施例在实际使用中移载容器气阀与进气阀件及稳压阀件接合后的局部剖面示意图，并请结合参阅图6所示。当光掩膜盒50放置于摆置单元15的承座16(结合参阅图2所示)上时，该光掩膜盒50的底座51的不同气阀60适好可与承座16上的进气阀件20与稳压阀件30相对接合，其中气阀60的浮动杆63受到进气阀件20的推杆271的推抵，使进气阀件20与气阀60的浮动杆23、63同步压缩弹簧25、66，使进气阀件20与气阀60的浮动杆23、63上的密封垫圈26、67远离隔片22、62，让进气回路11内的洁净空气可由进气阀件20与气阀60注入光掩膜盒50的内部空间。并且光掩膜盒50对应稳压阀件30的气阀60浮动杆63受稳压阀件30的推杆35的推抵，使该气阀60的浮动杆63压缩弹簧66，而令气阀60的浮动杆63上的密封垫圈67远离隔片62，让光掩膜盒50内的空气可经气阀60与稳压阀件30由收纳柜10的排气回路12(结合参阅图1所示)排出，并且由于该稳压阀件30的阀体31流道孔34同时跨越于气阀60的外部，使稳压阀件30可以同步吸入光掩膜盒50外部的气体(如图8A、图8B所示)，如此即可避免因排气量大于进气量而让光掩膜盒50的内部空间形成负压现象，使光掩膜盒50在未开启前，其内、外环境的气压保持平衡，不致影响光掩膜盒50的开启，且进一步的不致发生外部气流瞬间向内强力流动的现象，防止其刮伤光掩膜盒50内部光掩膜的表面或使微粒与有害物质因气流而扬起，进而附着于光掩膜的表面，而可以有效的提升整体制程的效率与优良率。

请参阅图9所示，是本发明另一较佳实施例的装置与移载容器的分解外观立体示意图。本发明另一较佳实施例，如图9中所揭示，本发明的移载容器5可以为容置晶圆的晶圆容置箱70，该晶圆容置箱70并具有可选择性启闭的箱门75，而装置1则可选自制程设备的进出料机体40，其同样具有前述的功效与效能。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (9)

1、一种应用于移载容器的稳压系统，其特征在于其包含：

一装置，其具有至少一进气回路与至少一排气回路，该装置具有至少一摆置单元，该摆置单元上设有至少一连接进气回路的进气阀件与至少一连接排气回路的稳压阀件，其中稳压阀件具有一个或多数流道孔；

至少一移转容器，其具有一可选择性启闭的容置空间，且移转容器上设有复数连通容置空间与外部环境的气阀，不同气阀并可同时串接前述装置的进气阀件与稳压阀件，其中对应稳压阀件的气阀是跨设于流道孔上，使得稳压阀件可同步吸排移载容器容置空间与外部环境的气体。

2、根据权利要求1所述的应用于移载容器的稳压系统，其特征在于其中所述的装置是选自晶圆或光掩膜的管理系统储存柜、容置柜、运输设备或制程设备的进出料机体。

3、根据权利要求1所述的应用于移载容器的稳压系统，其特征在于其中所述的装置是为一供承置光掩膜盒的收纳柜，其具有至少一供光掩膜盒放置的摆置单元，该摆置单元具有供支撑光掩膜盒的承座，且该承座上设有至少一对应光掩膜盒的定位元件，而进气阀件与稳压阀件是设置于摆置单元的承座表面。

4、根据权利要求1所述的应用于移载容器的稳压系统，其特征在于其中所述的移转容器是选自供容置晶圆或光掩膜的密封式箱体或盒体等。

5、根据权利要求1所述的应用于移载容器的稳压系统，其特征在于其中所述的移转容器可为储存光掩膜的光掩膜盒，其具有一承置光掩膜的底座，该底座顶面并设有组设呈ㄇ形支撑体的两承抵块与一贴抵块，又底座上覆设有一壳罩，供光掩膜盒形成可选择性启闭的密封环境。

6、根据权利要求1、4或5所述的应用于移载容器的稳压系统，其特征在于其中所述的移转容器的气阀具有一中空的阀体，且阀体内部中段形成设有一具有较小通孔的隔片，该阀体内设有一可相对隔片通孔滑动的浮动杆，该浮动杆两端分别具有一较大径的抵顶部与一可穿出隔片的颈部，且颈部上束设有一可选择性封闭隔片通孔的密封垫圈，而浮动杆的抵顶部与隔片间顶撑有一弹簧，让浮动杆的密封垫圈可相对远离或紧贴隔片，达到让气阀可受进气阀件与稳压阀件作用选择性导通或密封的目的。

7、根据权利要求1、2或3所述的应用于移载容器的稳压系统，其特征在于其中所述的装置的进气阀件具有一中空的阀体，且该阀体内部中段形成设有一具有较小通孔的隔片，该阀体内设有一可相对隔片通孔滑动的浮动杆，该浮动杆的两端分别具有一较大径的抵顶部与一可穿出隔片的颈部，且颈部上束设有一可选择性封闭隔片通孔的密封垫圈，而浮动杆的抵顶部与隔片间顶撑有一弹簧，让浮动杆的密封垫圈可相对远离或紧贴隔片，达到让进气阀件可受气阀作用选择性导通或密封。

8、根据权利要求1、2或3所述的应用于移载容器的稳压系统，其特征在于其中所述的装置的稳压阀件具有一中空的阀体，且该阀体的顶面形成设有一道较大径的凸环片，且阀体内部形成设有一隔片，而同步跨接移载容器气阀内、外部的流道孔是设置于隔片上。

9、根据权利要求8所述的应用于移载容器的稳压系统，其特征在于其中所述的稳压阀件的隔片顶面并具有向上凸出的推杆，供选择性启闭移载容器气阀的气流通道。

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