CN101364558A

CN101364558A - 移载容器循环气流结构

Info

Publication number: CN101364558A
Application number: CNA2007101435585A
Authority: CN
Inventors: 廖莉雯; 陈俐殷; 卢诗文; 蔡铭贵
Original assignee: E-SUN PRECISION INDUSTRY Inc
Current assignee: E-SUN PRECISION INDUSTRY Inc
Priority date: 2007-08-09
Filing date: 2007-08-09
Publication date: 2009-02-11

Abstract

本发明涉及一种移载容器循环气流结构，特别是指一种可长时间维持及控制移载容器内部洁净度的循环气流结构，该移载容器包含有可相对盖合的一底座与一壳罩，且底座与壳罩上至少设有一进气元件与一出气元件，前述进、出气元件可选择性产生气密作用，当移载容器承置于对应装置时，利用设于装置上具对应充气元件与排气元件的循环单元，以充、排气元件分别与移载容器的进、出气元件对接，而对密合的移转容器内部注入干净气体，并将移转容器内部的气体排出，使得气体可于该移转容器内部形成进、出的循环流动状态，而能长时间维持移转容器内部环境的洁净度，同时加速有害物质的释出，进一步并得以控制该移载容器内部环境的条件，以提升光掩模储存的洁净度。

Description

移载容器循环气流结构

技术领域

本发明涉及一种用于无尘室中容置、移动光掩模、晶圆等物件的移载容器技术，特别是涉及一种可长时间维持与控制内部洁净度及环境条件的移载容器，藉以进一步提升晶圆制造的良率，且降低营运成本。

背景技术

在半导体制造工艺中，环境微粒与水气对于制造工艺良率有极直接的影响，因此其制造工艺需在极高等级的无尘室中进行，再者，半导体制造工艺中，不论清洗、制作、溅镀、黄光微影或蚀刻等，其均需使用到很多的溶剂，再加上诸如塑胶容器等部份材料会自动释出有害物质，而这些有害物质在经制造工艺加热或曝光等动作时，会与环境中的水气等产生化合作用，而于晶圆或光掩模表面产生其他影响良率的附加物，为了解决这些问题，业界开发有如美国专利第US 4,532,970号与美国专利第US 4,534,389号的晶圆、光掩模密闭移转系统，以确保周圆环境的微粒、水气或有害物质不致进入紧邻光掩模与晶圆的环境中。

但受到电子产品不断朝向轻薄短小、高频、高效能等特性发展的影响，用于电子产品中的核心晶片就必需更进一步的微小化与高效能化，而欲使晶片微小化与具高效能则需使晶片上的集成电路线径微细化，以容入更多的集成电路及元件，因此现有的集成电路线径已由早期的0.25微米往90～45纳米等工艺发展，而晶片上集成电路线径微细化的成败关键，主要是在于半导体制造工艺中的黄光微影制造工艺技术，而其关键设备是在扫描步进机(Scanner)与光掩模(Reticle)的使用；

以其中光掩模为例，造成光掩模污损的原因除了微粒外，更进一步包含环境中的水气、有毒气体、塑胶制移载容器所释出的硫化物和制作光掩模制造工艺中残留或是光掩模上图形材质本身释出的氨(NH₄ ⁺)、以及光掩模清洗过程中残留的化学分子等有害物质，以结晶为例，其化学式为(NH₄)₂SO₄，此一结晶物由前述不同原因释出的氨(NH₄ ⁺)及硫酸根离子(SO₄ ^2-)经高能量光源与环境水气等化合而成，因此经常发生光掩模于清洗后，再经一段时间的储存后，只要一经黄光微影制造工艺中的紫外线照射曝光就会产生结晶的现象；

而造成此一问题的主要原因来自于储存容器的气密性不足，使移载容器外的环境空气中的微粒、水分子不断的渗入，进而提供其化学反应所需的元素。再者该移载容器主要以塑胶制成，塑胶材料会不断的释出硫化物等有害物质，且外部气体会渗透进入光掩模，和光掩模图形材质本身或是移载容器内氨气产生反应，造成有害物质附着于光掩模正反两面与光掩模护膜表面。又光掩模护膜主要以铝框为主，其需进行铝合金的硫酸阳极处理，使铝框表面产生硫酸根离子残留的问题。

故为了解决这些问题，业界开发有于光掩模的移载容器内加设不锈钢内罩，除了能产生静电导出的功效外，并可用以吸收塑胶材质所释出的硫化物，同时于移载容器上加装充、填气结构，用以将干净的惰性气体注入该移载容器内，可挤出移载容器内的有害气体，同时进一步提升该移载容器的气密性，以防止外部微粒进入、且防止干净的惰性气体流失，如中国台湾专利公告第TW223680号及第TWI262164号等，其均在通过该移载容器结构的改变，来提高移载容器的气密性。

但于移载容器的结构上进行气密性的改良是一项重大的工程，不仅需要增加开发、制模与组装的成本，且受到材质、盖合力量与盖合接触面积等因素的影响，移载容器并无法达到完全气密的效果，因此移载容器内的气体仍然会渐渐向外流失，由于微粒与水分子极小，因此移载容器在经长时间储存后，外部环境中如微粒与水分子等有害物质仍会渐渐渗入该移载容器内部，而失去维持光掩模洁净度的作用。再者移载容器与光掩模图形因其使用的材质中存在有硫、氨等有害物质，这些有害物质会不断的释出，一但时间较久之后，这些有害物质会影响到移载容器内部的光掩模，其一样会造成光掩模与光掩模护膜的污损、雾化与结晶等，进一步影响到后续晶圆加工的良率、产量与成本。

有鉴于此，本发明人乃针对上述移载容器无法长时间保持移载容器内部洁净度的问题深入探讨，且藉由本发明人长期从事相关产业的研发与制作的经验，积极寻求解决之道，在经不断努力研究与试作，终于成功的开发出一种移载容器循环气流结构，而能克服现有移载容器无法有效防止有害物质进入与排出有害物质的问题，同时进一步可控制该移载容器的内部环境条件。

发明内容

本发明的主要目的在于，克服现有的移载容器存在的缺陷，而提供一种新型结构的移载容器循环气流结构，所要解决的技术问题是使其可避免微粒或水气等有害物质进入内部，以长时间维持移载容器内部的洁净度，减少清洗与重新制作的次数，以降低营运成本，从而更加适于实用。

本发明的另一目的在于，提供一种新型结构的移载容器循环气流结构，所要解决的技术问题是使其可将内部有害物质排出，可加速移载容器中有害物质的释出，防止有害物质接触或附着于光掩模与光掩模护膜表面，以提升后续晶圆制作的良率，从而更加适于实用。

本发明的再一目的在于，提供一种新型结构的移载容器循环气流结构，所要解决的技术问题是使其可控制移载容器内环境，其能改变移载容器内部的环境条件，以节省后续工艺的时间，并降低后续工艺的成本，从而更加适于实用。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本发明提出的一种移载容器循环气流结构，其用于容置晶圆、光掩模等物件的移载容器，移载容器可置于一具充、排气循环单元的装置上，该移载容器包含有：一底座，其可支撑该前述物件；一壳罩，其供选择性相对该底座盖合与开启，该壳罩盖合于底座上形成一容置前述物件的容置空间；至少一进气元件，其具有选择性启闭的功能，该进气元件并与前述容置空间连通，进气元件供连接装置的循环单元，以选择性通过循环单元将气体注入该容置空间；至少一出气元件，其具有选择性启闭的功能，该出气元件并与前述容置空间连通，出气元件供于前述进气元件将气体注入容置空间时、同步将容置空间内的气体通过装置循环单元排出。

本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。

前述的移载容器循环气流结构，其中所述的移载容器内设有对应的储存元件，使得该读取元件供传输与读取移载容器内光掩模的相关资讯，而装置具有一无线射频识别系统的读取元件。

前述的移载容器循环气流结构，其中所述的移载容器的底座具有一连通容置空间的承座，承座内埋设有一螺帽件，供进气元件由移载容器外部螺锁于底座承座上，使得进气元件便于由移载容器外部组装与拆解。

前述的移载容器循环气流结构，其中所述的移载容器的底座上具有由两承托件与一抵持件所组成的“冂”支撑体，供支撑置设光掩模，且中空的承托件周缘与顶面分别形成有多个导气用的通气孔，而进气元件适对应承托件内部，使注入的气体可环绕光掩模流动。

前述的移载容器循环气流结构，其中所述的移转容器的进气元件具有一管体、一活动件、一复位弹簧及一活塞垫圈，管体内部中段形成有一供气体流经的中空隔片，又活动件两端分别形成有一较大径的抵顶端与一较小径的闭合端，使活动件以闭合端穿套前述复位弹簧后、穿经隔片，并利用前述的活塞垫圈嵌套于该闭合端上，使活动件于管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力产生浮动，供利用活动件的活塞垫圈相对远离或靠近管体隔片，供阻隔气体或使气体连通。

前述的移载容器循环气流结构，其中所述的移转容器的进气元件于出气端压设有一滤片与一压抵垫圈，供进一步过滤由进气元件所导入的气体。

前述的移载容器循环气流结构，其中所述的移载容器的壳罩上设有一连通容置空间的承座，承座内埋设有一螺帽件，供出气元件由移载容器外部螺锁于壳罩承座上，使得出气元件便于由移载容器外部组装与拆解。

前述的移载容器循环气流结构，其中所述的移载容器的壳罩由一外壳与一内衬所组成，外壳上设有一连通容置空间的承座，承座内埋设有一螺帽件，供出气元件由移载容器外部螺锁于外壳承座上，又外壳与内衬间形成有一流动间隙，使气体进一步带走移载容器所释出的有害物质。

前述的移载容器循环气流结构，其中所述的移转容器的出气元件具有一管体、一活动件、一复位弹簧及一活塞垫圈，管体内部中段形成有一供气体流经的中空隔片，又活动件两端分别形成有一较大径的抵顶端与一较小径的闭合端，使活动件以闭合端穿套前述复位弹簧后、穿经隔片，并利用前述的活塞垫圈嵌套于该闭合端上，使活动件于管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力产生浮动，供利用活动件的活塞垫圈相对远离或靠近管体隔片，供阻隔气体或使气体连通。

经由上述可知，本发明涉及一种移载容器循环气流结构，特别是指一种可长时间维持及控制移载容器内部洁净度的循环气流结构，该移载容器包含有可相对盖合的一底座与一壳罩，且底座与壳罩上至少设有一进气元件与一出气元件，前述进、出气元件可选择性产生气密作用，当移载容器承置于对应装置时，利用设于装置上具对应充气元件与排气元件的循环单元，以充、排气元件分别与移载容器的进、出气元件对接，而对密合的移转容器内部注入干净气体，并将移转容器内部的气体排出，使得气体可于该移转容器内部形成进、出的循环流动状态，而能长时间维持移转容器内部环境的洁净度，同时加速有害物质的释出，进一步并得以控制该移载容器内部环境的条件，以提升光掩模储存的洁净度。

借由上述技术方案，本发明移载容器循环气流结构至少具有下列优点：

1、本发明移载容器利用进、出气元件的设计，使移载容器内部可保持正压状态，得以防止外部的微粒、水分子等无法进入，以长时间维持移转容器内部环境的洁净度，并可解决现有移载容器需不断提升气密度的困扰与不便。

2、本发明的移载容器可通过不断注入与排出的气体，而将移载容器或光掩模、光掩模图形中，因清洗与制作所释出有害物质排出，使该移载容器的内部环境能长时间维持洁净度，减少光掩模表面的微粒附着与雾化、结晶等现象，而能提升晶圆制作的良率。

3、承前所述，由于本发明的移载容器内部可长时维持其洁净度，故在储存光掩模时不需受限于早进早出的原则，能增进光掩模管理的便利性，进一步并可降低光掩模清洗与重新制作的成本。

4、本发明移载容器可对移载容器提供循环流动的干净气体，除能避免有害物质进入外，更能加速移转容器材质中硫化物与光掩模图形中氨等有害物质的释出，进一步并可因应不同制造工艺的需要，预先通过循环单元控制其内部环境，如湿度、温度、乃至特殊制造工艺气体或物质等，以减少后续制造工艺处理的时间与成本。

本发明具有上述诸多优点及实用价值，其不论在产品结构或功能上皆有较大的改进，在技术上有显著的进步，并产生了好用及实用的效果，且较现有的移载容器具有增进的多项功效，从而更加适于实用，并具有产业的广泛利用价值，诚为一新颖、进步、实用的新设计。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。

附图说明

图1是本发明移载容器的外观立体图。

图2是本发明移载容器的俯视分解示意图，用以说明该移载容器进气单元的构成及其相对关。

图3是本发明移载容器的仰视分解示意图，其揭示该移载容器出气单元的构成及其相对关。

图4是本发明移载容器的局部剖面示意图，其进一步显示进、出气单元的组成态样。

图5是本发明移载容器实际运用于装置单元前的外观示意图。

图6是本发明移载容器实际运用的装置局部分解示意图，用以说明装置充、排气单元的态样。

图7是本发明移载容器于实际使用时的动作示意图。

图8是本发明移载容器与装置接合前的平面剖视图。

图9是本发明移载容器与装置接合后的平面剖视图。

1：移载容器 10：底座

11：承座 12：螺帽件

13：金属板 15：承托件

150：通气孔 16：抵持件

20：壳罩 21：外壳

22：储存元件 23：承座

24：螺帽件 25：内衬

250：通气孔 28：流动间隙

3：进气元件 30：管体

300：隔片 301：第一槽孔

302：第二槽孔 303：螺纹段

32：活动件 33：抵顶端

34：闭合端 35：复位弹簧

36：活塞垫圈 37：滤片

38：压抵垫圈 4：出气元件

40：管体 400：隔片

401：第一槽孔 402：第二槽孔

403：螺纹段 42：活动件

43：抵顶端 44：闭合端

45：复位弹簧 46：活塞垫圈

50：光掩模 6：装置

60：承载体 61：承板

62：定位元件 63：读取元件

64：检知元件 65：循环单元

80：充气元件 81：管体

810：隔片 811：第一槽孔

812：第二槽孔 83：活动件

84：抵顶端 85：闭合端

86：复位弹簧 87：活塞垫圈

88：抵顶凸柱 90：排气元件

91：管体 910：隔片

911：第一槽孔 912：第二槽孔

93：活动件 94：抵顶端

95：闭合端 96：复位弹簧

97：活塞垫圈 98：抵顶凸柱

具体实施方式

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的移载容器循环气流结构其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

本发明一种用于容置或运输工艺中晶圆或光掩模的移载容器，请参照图1、图2及图3所揭示者，本发明以容置光掩模50的移载容器1为主要实施例，该移载容器1包含有一承置光掩模50的底座10、一供盖合底座10形成闭合容置空间的壳罩20、以及至少一对容置空间注气的进气元件30与至少一排出容置空间内气体的出气元件40；

而关于本发明较佳实施例的详细构成，则仍请参看图1～图4所显示者，其中底座10顶面设有一金属板13，再者底座10并于金属板13顶面设有两中空的承托件15与一抵持件16所组成的“ㄇ”支撑体，供支撑置设光掩模50，其中该中空的承托件15周缘与顶面分别形成有多个导气用的通气孔150，而底座10底面形成有至少一对应连通前述承托件15内部的承座11，本发明以一组承座11为主要实施例，承座11内缘可形成一螺纹段或埋设有一螺帽件12，本发明以埋设螺帽件12为主要实施例，以供前述的进气元件3锁设，如此可便于进气元件3的组装与拆解；

又壳罩20由一外壳21与一金属制内衬25所组成，其中外壳21周缘设有一储存元件22，该储存元件22以无线射频识别系统(RFID)为实施例，储存元件22供记录移载容器1内光掩模50的相关资讯，又外壳21顶面形成有至少一连通内部的承座23，本发明以一组承座23为主要实施例，承座23内缘可形成一螺纹段或埋设有一螺帽件24，本发明以埋设螺帽件24为实施例，以供前述的出气元件4锁设，如此可便于进气元件4由移载容器1外部组装与拆解。又内衬25锁设于外壳21内缘，使得内衬25与外壳21间形成有一流动间隙28，再者内衬25于适当位置形成有排气用的通气孔250，该通气孔250的位置适与外壳21承座23的位置呈对角状，且通气孔250位置进一步与前述底座10承座11位置呈对角状，让气流可获得较长的流动距离，以供带出外壳21与内衬25所释出的物质；

至于前述设于底座10的进气元件3具有选择性启闭的功能，该进气元件3具有一管体30、一活动件32、一复位弹簧35及一活塞垫圈36。其中管体30内部中段分别形成有一供气体流经的中空隔片300，使管体30内部于隔片300两侧分别形成一第一槽孔301与一第二槽孔302，且进气元件3的管体30于对应第二槽孔302的外缘形成有一螺纹段303，供进气元件3管体30锁设于底座10承座11的螺帽件12上。又活动件32两端分别形成有一较大径的抵顶端33与一较小径的闭合端34，使活动件32可以闭合端34穿套前述复位弹簧35后，由管体30第一槽孔301穿经隔片300进入第二槽孔302，并利用前述的活塞垫圈36嵌套于该闭合端34上，使活动件32可于管体30内受力浮动。该复位弹簧35可提供一弹性偏压力，以推抵活动件32于位移后自动复位，使其上的活塞垫圈36相对开启或密闭该管体30的隔片300，供阻隔气体于第一槽孔301与第二槽孔302间流动，且当活动件32受外力推抵时，可让活动件32的活塞垫圈36远离隔片300，使得气体可由管体30的第一槽孔301向第二槽孔302流动。再者进气元件3由移载容器1外部锁设于底座10承座11时，可依序压掣一压抵垫圈38与一滤片37，以进一步过滤进入移载容器1内的干净气体，防止微粒或有害物质进入移载容器1内；

再者前述设于壳罩20外壳21的出气元件4具有选择性启闭的功能，该出气元件4具有一管体40、一活动件42、一复位弹簧45及一活塞垫圈46。其中管体40内部中段分别形成有一供气体流经的中空隔片400，使管体40内部于隔片400两侧分别形成一第一槽孔401与一第二槽孔402，且出气元件4的管体40于对应第二槽孔402的外缘形成有一螺纹段403，供出气元件4管体30锁设于外壳21承座23的螺帽件24上。又活动件42两端分别形成有一较大径的抵顶端43与一较小径的闭合端44，使活动件42可以闭合端44穿套前述复位弹簧45后，由管体40第一槽孔401穿经隔片400进入第二槽孔402，并利用前述的活塞垫圈46嵌套于该闭合端44上，使活动件42可于管体40内受力浮动。该复位弹簧45可提供一弹性偏压力，以推抵活动件32于位移后自动复位，使其上的活塞垫圈46相对开启或密闭该管体40的隔片400，供阻隔气体于第二槽孔402与第一槽孔401间流动，且当活动件42受外力推抵时，可让活动件42的活塞垫圈46远离隔片400，使得气体可由管体40的第二槽孔402向第一槽孔401流动，供将移载容器1内部的微粒或有害物质排出；

经由上述的说明，通过移载容器1的进、出气元件3、4的设计，使移载容器1内部的气体可产生循环流动，让干净气体可不断的注入移载容器1内形成正压，以避免外部微粒与有害物质进入，同时可将释出的有害物质利用流动气体不断的带出，可而组构成一可长时间维持洁净度与控制内部环境条件的移载容器循环气流结构者。

通过上述的设计，本发明于实际运用时，则如图5～图7所显示者，本发明可运用于各式容置或运输该移载容器1的装置6中，其中装置6可为光掩模管理系统储存柜、光掩模充气柜、光掩模运输设备、以及制造工艺设备的光掩模进、出单元(Load、Unload)等，该装置6至少包含有一置设移载容器1的承载体60及一供对移载容器1充、排气的循环单元70，其中装置6承载体60具有一摆置移载容器1的承板61，各承板61上具有网孔，以防止微粒沉积，进一步保持装置6内部的洁净度，又承载体60于承板61上设有至少一定位元件62，使得对应的移载容器1可稳固定位于该承载体60上，再者承载体60于承板61并设有一检知元件64，供感应移载容器1是否定位置设于承载体60的承板61上，再者装置6承载体60上并具有一典型无线射频识别系统(RFID)的读取元件63，该读取元件63可对应移载容器1的储存元件22，读取元件23供传输与读取移载容器1内光掩模50相关资讯(如图8所示)；

至于装置6的循环单元70具有至少一充气元件80与至少一排气元件90，循环单元70的充、排气元件80、90可与移载容器1的进、出气元件30、40对应连接。而前述充、排气元件80、90具选择性启闭的功能，充、排气元件80、90分别具有一管体81、91、一活动件83、93、一复位弹簧86、96及一活塞垫圈87、97。其中管体81、91内部中段形成有一供气体流经的中空隔片810、910，使管体81、91内部于隔片810、910两侧分别形成一第一槽孔811、911与一第二槽孔812、912，且充、排气元件80、90的管体81、91第一槽孔811、911对应前述的移载容器1，又活动件83、93两端分别形成有一较大径的抵顶端84、94与一较小径的闭合端85、95，使活动件83、93可以闭合端85、95穿套前述复位弹簧86、96后，由管体81、91第一槽孔811、911穿经隔片810、910进入第二槽孔812、912，并利用前述的活塞垫圈87、97嵌套于该闭合端85、95上，使活动件83、93可于管体81、91内浮动。该复位弹簧86、96将提供一弹性偏压力，以推抵活动件83、93上的活塞垫圈87、97密闭该管体81、91隔片810、910，供阻隔气体于第一槽孔811、911与第二槽孔812、912间流动，且当活动件83、93受外力推抵时，可让活动件83、93活塞垫圈87、97远离隔片810、910，使得管体81、91的第一槽孔811、911与第二槽孔812、912相互连通，再者活动件83、93的抵顶端84、94对应移载容器1的表面分别凸伸有一抵顶凸柱88、98。

于实际操作上，则如图7、8、及9所示，将容置有光掩模50的移载容器1置入装置6承载体60内，当循环单元70的检知元件64感应移载容器1定位后，可启动读取元件63对应存取该移载容器1的储存元件22内的光掩模50相关资讯，同时令移载容器1的进气元件3与循环单元70的充气元件80同时相对插接，使得进气元件3的管体30可推抵充气元件80的活动件84，而充气元件80活动件84的抵顶凸柱88可同步推抵进气元件3的活动件32，使充气元件80与进气元件3可同步开启，让干净气体可充注进入承载容器1的底座10与壳罩20间的空间。同时循环单元70的排气元件90与移载容器1的出气元件4可相对插接，令出气元件4的管体40可推抵排气元件90的活动件94，而排气元件90活动件94的抵顶凸柱98可同步推抵出气元件4的活动件42，让排气元件90与出气元件4可同步开启，让承载容器1内部气体可不断排出，如此让移载容器1内部环境产生一气体的循环流动状态，如此可使移载容器1内部环境形成正压，有效防止移载容器1外部的微粒、水气等有害物质进入；

再者，由于移载容器1的底座10承托件15的两侧与顶面分别形成有多个导气用的通气孔150，且配合内衬25通气孔250与外壳21承座23呈对角状的设计，使注入的干净气体可于光掩模50顶面、底面及护膜内部流动，同时进一步配合内衬25通气孔250与壳罩20承座23位置呈对角状的设计，让气体进一步可带出外壳21与内衬25的流动间隙28内部的物质，并让气流获得较长的流动距离，同时可带走移载容器1、光掩模50或光掩模图形等所释出的有害物质，且能加速有害物质的释出，进一步并可可后续工艺的需要，通过循环流动的气体，预先控制移载容器1内部的环境条件，如湿度、温度等，以节省后续工艺的时间与成本。

综上，本发明移载容器1可利用进、出气元件3、4的注气与排气作用，使得移载容器1内部环境可通过流动的气体形成正压，以防止微粒、水分子等外部有害物质进入该移载容器1内，进一步并可将移载容器1内原有或释出的有害物质迅速带出，因此可长时间、且有效地确保移转容器内环境的洁净度。再者并能依不同制造工艺的需要，预先控制移载容器50的内部环境，进一步降低管理与营运的成本，有进达到提升晶圆良率与增加产量的目的。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims

1.一种移载容器循环气流结构，其用于容置晶圆、光掩模等物件的移载容器，移载容器可置于一具充、排气循环单元的装置上，其特征在于该移载容器包含有：

一底座，其可支撑该前述物件；

一壳罩，其供选择性相对该底座盖合与开启，该壳罩盖合于底座上形成一容置前述物件的容置空间；

至少一进气元件，其具有选择性启闭的功能，该进气元件并与前述容置空间连通，进气元件供连接装置的循环单元，以选择性通过循环单元将气体注入该容置空间；

至少一出气元件，其具有选择性启闭的功能，该出气元件并与前述容置空间连通，出气元件供于前述进气元件将气体注入容置空间时、同步将容置空间内的气体通过装置循环单元排出。

2.根据权利要求1所述的移载容器循环气流结构，其特征在于其中所述的移载容器内设有对应的储存元件，使得该读取元件供传输与读取移载容器内光掩模的相关资讯，而装置具有一无线射频识别系统的读取元件。

3.根据权利要求1所述的移载容器循环气流结构，其特征在于其中所述的移载容器的底座具有一连通容置空间的承座，承座内埋设有一螺帽件，供进气元件由移载容器外部螺锁于底座承座上，使得进气元件便于由移载容器外部组装与拆解。

4.根据权利要求1所述的移载容器循环气流结构，其特征在于其中所述的移载容器的底座上具有由两承托件与一抵持件所组成的“ㄇ”支撑体，供支撑置设光掩模，且中空的承托件周缘与顶面分别形成有多个导气用的通气孔，而进气元件适对应承托件内部，使注入的气体可环绕光掩模流动。

5.根据权利要求1或3或4所述的移载容器循环气流结构，其特征在于其中所述的移转容器的进气元件具有一管体、一活动件、一复位弹簧及一活塞垫圈，管体内部中段形成有一供气体流经的中空隔片，又活动件两端分别形成有一较大径的抵顶端与一较小径的闭合端，使活动件以闭合端穿套前述复位弹簧后、穿经隔片，并利用前述的活塞垫圈嵌套于该闭合端上，使活动件于管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力产生浮动，供利用活动件的活塞垫圈相对远离或靠近管体隔片，供阻隔气体或使气体连通。

6.根据权利要求5所述的移载容器循环气流结构，其特征在于其中所述的移转容器的进气元件于出气端压设有一滤片与一压抵垫圈，供进一步过滤由进气元件所导入的气体。

7.根据权利要求1所述的移载容器循环气流结构，其特征在于其中所述的移载容器的壳罩上设有一连通容置空间的承座，承座内埋设有一螺帽件，供出气元件由移载容器外部螺锁于壳罩承座上，使得出气元件便于由移载容器外部组装与拆解。

8.根据权利要求1所述的移载容器循环气流结构，其特征在于其中所述的移载容器的壳罩由一外壳与一内衬所组成，外壳上设有一连通容置空间的承座，承座内埋设有一螺帽件，供出气元件由移载容器外部螺锁于外壳承座上，又外壳与内衬间形成有一流动间隙，使气体进一步带走移载容器所释出的有害物质。

9.根据权利要求1或7或8所述的移载容器循环气流结构，其特征在于其中所述的移转容器的出气元件具有一管体、一活动件、一复位弹簧及一活塞垫圈，管体内部中段形成有一供气体流经的中空隔片，又活动件两端分别形成有一较大径的抵顶端与一较小径的闭合端，使活动件以闭合端穿套前述复位弹簧后、穿经隔片，并利用前述的活塞垫圈嵌套于该闭合端上，使活动件于管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力产生浮动，供利用活动件的活塞垫圈相对远离或靠近管体隔片，供阻隔气体或使气体连通。