CN201134421Y - 光掩模充气柜结构 - Google Patents

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CN201134421Y CNU2007201273162U CN200720127316U CN201134421Y CN 201134421 Y CN201134421 Y CN 201134421Y CN U2007201273162 U CNU2007201273162 U CN U2007201273162U CN 200720127316 U CN200720127316 U CN 200720127316U CN 201134421 Y CN201134421 Y CN 201134421Y
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Abstract

本实用新型涉及一种光掩模充气柜结构,尤指一种使得光掩模移转容器内部保持较佳洁净度的充气柜结构,其包含有一中空的柜体,且柜体内设有至少一供光掩模的移转容器定位放置的循环单元,该循环单元具有至少一充气元件与至少一排气元件,其中充气元件可选择性对密合的移转容器内部注入干净气体,而排气元件可将密合的移转容器内部的气体排出,使得该移转容器内部的气体形成进、出的流动状态,而能长时间维持移转容器内相邻光掩模环境的洁净度,以减少光掩模与光掩模护膜表面产生微粒附着与雾化等现象,进而提升储存光掩模的洁净度。

Description

光掩模充气柜结构
技术领域
本实用新型涉及一种用于保持光掩模储存洁净度的技术领域,特别是涉及一种可长时间维持与光掩模相邻空间环境的光掩模充气柜结构,借以进一步增进晶圆制造良率。
背景技术
受到电子产品不断朝向轻薄短小、高频、高效能等特性发展的影响,用于电子产品中的核心晶片就必需更进一步的微小化与高效能化,而欲使晶片微小化与具高效能则需使晶片上的集成电路线径微细化,以容入更多的集成电路及元件,因此现有的集成电路线径已由早期的0.25微米往90~45纳米等工艺发展,而晶片上集成电路线径微细化的成败关键,主要是在于半导体工艺中的黄光微影工艺技术,而其关键设备是在扫描步进机(Scanner)与光掩模(Reticle)的使用;
但目前光掩模于制作、清洗、操作与储存、运输的过程中,不论是置于容置光掩模的移转容器或无尘室的环境中,均存在有不少的微粒、水气、气体、化学溶剂分子等有害物质,这些有害物质会附着于光掩模表面,且在经长时间储存或晶圆曝光工艺的加热后,会于光掩模表面产生微粒附着、结晶、又或雾化等现象,而直接影响到光掩模于黄光微影工艺中的透光率,进而使光掩模上的图形失真,其会造成晶圆良率降低,且增加清理与改善的时间,造成生产量降低,相对上也会提高营运的成本;
因此,为了解决这个问题,业界开发有如美国专利第US 4,532,970号与美国专利第US 4,534,389号的晶圆、光置密闭移转系统,以确保周圆环境的微粒不致进入紧邻光掩模与晶圆的环境中。但以其中光掩模为例,造成光掩模污损的原因除了微粒外,更进一步包含环境中的水气、有毒气体、塑胶制移载容器所释出的硫化物和制作光掩模工艺中残留或是光掩模上图形材质本身释出的氨(NH4)、以及光掩模清洗过程中残留的化学分子等有害物质,以结晶为例,其化学式为(NH4)2SO4,此一结晶物由前述不同原因释出的氨(NH4)及硫酸根离子(SO4)经高能量光源与环境水气等化合而成,因此经常发生光掩模于清洗后,再经一段时间的储存后,只要一经黄光微影工艺中的紫外线照射曝光就会产生结晶的现象;
而造成此一问题的主要原因来自于储存容器的气密性不足,使移载容器外的环境空气中的微粒、水分子不断的渗入,进而提供其化学反应所需的元素。再者该移载容器主要以塑胶制成,塑胶材料会不断的释出硫化物等有害物质,且外部气体会渗透进入光掩模,和光掩模图形材质本身或是移载容器内氨气产生反应,造成有害物质附着于光掩模正反两面与光掩模护膜表面。又光掩模护膜主要以铝框为主,其需进行铝合金的硫酸阳极处理,使铝框表面产生硫酸根离子残留的问题。
故为了解决这些问题,业界开发有于光掩模的移载容器内加设不锈钢内罩,以吸收硫化物,并于移载容器上加装充、填气结构,用以将干净的惰性气体注入该移载容器内,以挤出移载容器内的有害气体,同时进一步提升该移载容器的气密性,以防止外部微粒进入、且防止干净的惰性气体流失,如中国台湾专利公告第223680号及第I262164号等,其均在通过该移载容器结构的改变,来提高移载容器的气密性;
但于结构上进行气密性的改良是一项重大的工程,不仅需要增加开发、制模与组装的成本,且受到材质、盖合力量与盖合接触面积等因素的影响,移载容器并无法达到完全气密的效果,因此移载容器内的气体仍然会渐渐向外流失,由于微粒与水分子极小,因此移载容器在经长时间储存后,外部环境中如微粒与水分子等有害物质仍会渐渐渗入该移载容器内部,而失去维持光掩模洁净度的作用。再者移载容器因其材质中存在有部份的有害物质,其会不断的释出,一但时间较久之后,这些有害物质会影响到移载容器内部的光掩模,其一样会造成光掩模与光掩模护膜的污损、雾化与结晶等,进一步影响到后续晶圆加工的良率、产量与成本。
为了进一步提高光掩模储存的洁净度与延长储存时间,业界开发有如中国台湾专利公告第M304619号与公告第M309206号等专利前案的不同充气柜,以其中第M309206号案为例,其包含有一气体柜本体,其内部供有一惰性气体;一控制单元,其配置于该气体柜本体之上,用于控制该气体柜本体内惰性气体的流量及惰性气体的进出;及多个冲孔层板,置于该气体柜本体内,用以放置光掩模盒,各冲孔层板上形成有冲孔。这些充气柜的设计,主要是将容置光掩模的移转容器置于气体柜本体内部,再将惰性气体充注于本体内部,使微粒或有害物质不致进入该气体柜本体内部,使光掩模获得间接的保护。但其实际使用时,在启闭该气体柜本体时,仍然会将部份微粒或有害物质带入本体内,此时因本体内的气体压力大于移载容器,反而有将微粒或有害物质挤入移载容器的问题。再者当移载容器因材质问题释出有害物质时,其更因前述气压问题而被局限于移载容器内,进而使移载容器内的光掩模与光掩模护膜产生污损、结晶与雾化的现象,影响到后续工艺的良率。
于是,本发明人针对上述光掩模充气柜无法长时间保持光掩模移载容器内部洁净度的问题深入探讨,且利用本发明人长期从事相关产业的研发与制作的经验,积极寻求解决之道,在经不断努力研究与试作,终于成功的开发出一种光掩模充气柜结构,使得光掩模充气柜可有效防止有害物质进入光掩模移载容器,且将释出的有害物质导出移载容器,而能长时间维持光掩模移载容器内部的洁净度。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于,克服现有的光掩模充气柜存在的缺陷,而提供一种新型结构的光掩模充气柜结构,所要解决的技术问题是使其可将有害物质隔离于外、且将释出的有害物质导出,以长时间维持光掩模移载容器内的的洁净度,避免微粒或有害物质接触或附着于光掩模与光掩模护膜表面,进一进提升后续晶圆制作的良率,从而更加适于实用。
本实用新型的另一目的在于,提供一种新型结构的光掩模充气柜结构,所要解决的技术问题是使其可控制光掩模移载容器内环境,借以加速光掩模移载容器内有害物质的释出,且有效控制或改变移载容器内部的环境条件,从而更加适于实用。
本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本实用新型提出的一种光掩模充气柜结构,其用于容置光掩模的移载容器,该充气柜包含有:一柜体,其具有一供摆置移载容器的容置空间,该柜体的容置空间可选择性启闭;至少一循环单元,其设于前述柜体的容置空间内,各循环单元供对应一移载容器,循环单元具有至少一对应连通移载容器内部与光掩模相邻环境的充气元件,且循环单元具有至少一对应连通移载容器内部与光掩模相邻环境的排气元件,使得移载容器内部气体通过循环单元产生循环流动。
本实用新型的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的光掩模充气柜结构,其中所述的柜体由一利用多个纵、横杆组成的框架所构成,框架外围周面设有封闭形成容置空间的侧板,再者柜体于框架异于侧板开口设有至少一可选择性启闭的门板,供移载容器进、出该柜体。
前述的光掩模充气柜结构,其中所述的柜体于底部设有多个移动滚轮,便于移动该光掩模充气柜的柜体,且柜体底部并具有多个可调式的定位元件,让柜体稳固的定位于固定位置。
前述的光掩模充气柜结构,其中所述的柜体内设有多层供摆置移载容器的承载隔板,各层承载隔板上具有网孔,以防止微粒沉积于承载隔板表面。
前述的光掩模充气柜结构,其中所述的循环单元上设有至少一检知元件,供感应移载容器是否定位置设于柜体内。
前述的光掩模充气柜结构,其中所述的循环单元具有一无线射频识别系统的读取元件,而移载容器内设有对应的储存元件,使得该读取元件供传输与读取移载容器内光掩模的相关资讯。
前述的光掩模充气柜结构,其中所述的循环单元的充、排气元件可选择性启闭的功能。
前述的光掩模充气柜结构,其中所述的移转容器具有一容置光掩模、且可选择性启闭的容置空间,该移转容器上设有至少一连通容置空间与充气元件的进气元件,移转容器上另设有至少一连通容置空间与排气元件的出气元件,其中进、出气元件具有防止移转容器闭合时气体溢出的选择性气密功能。
前述的光掩模充气柜结构,其中所述的循环单元的充、排气元件分别具有一管体、一活动件、一复位弹簧及一活塞垫圈,管体内部中段形成有一供气体流经的中空隔片,又活动件两端分别形成有一较大径的抵顶端与一较小径的闭合端,使活动件可以闭合端穿套前述复位弹簧后、穿经隔片,并利用前述的活塞垫圈嵌套于该闭合端上,使活动件可于管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力产生浮动,供利用活动件的活塞垫圈相对远离或靠近管体隔片,供阻隔气体或使气体连通,再者充、排气元件的活动件具有一对应作动移载容器进、出气元件的抵顶凸柱。
前述的光掩模充气柜结构,其中所述的移转容器的进、出气元件分别具有一管体、一活动件、一复位弹簧及一活塞垫圈,管体内部中段形成有一供气体流经的中空隔片,又活动件两端分别形成有一较大径的抵顶端与一较小径的闭合端,使活动件可以闭合端穿套前述复位弹簧后、穿经隔片,并利用前述的活塞垫圈嵌套于该闭合端上,使活动件可于管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力产生浮动,供利用活动件的活塞垫圈相对远离或靠近管体隔片,供阻隔气体或使气体连通。
经由上述可知,本实用新型涉及一种光掩模充气柜结构,尤指一种使得光掩模移转容器内部保持较佳洁净度的充气柜结构,其包含有一中空的柜体,且柜体内设有至少一供光掩模的移转容器定位放置的循环单元,该循环单元具有至少一充气元件与至少一排气元件,其中充气元件可选择性对密合的移转容器内部注入干净气体,而排气元件可将密合的移转容器内部的气体排出,使得该移转容器内部的气体形成进、出的流动状态,而能长时间维持移转容器内相邻光掩模环境的洁净度,以减少光掩模与光掩模护膜表面产生微粒附着与雾化等现象,进而提升储存光掩模的洁净度。
借由上述技术方案,本实用新型光掩模充气柜结构至少具有下列优点:
1、本实用新型充气柜利用各循环单元的充、排气元件与光掩模移载容器的进、出气元件,使移载容器内部可保持正压状态,使得外部的微粒、水分子等无法进入,因此可解决现有技术的不断提升移转容器气密度的困扰与不便,并可长时间维持移转容器内部环境的洁净度。
2、本实用新型光掩模充气柜可对移载容器提供循环流动的干净气体,而能加速移转容器材质中硫化物与光掩模图形中氨等有害物质的释出,进一步可因应不同工艺的需要,预先通过循环单元控制其内部环境,如湿度、温度、乃至特殊工艺气体或物质等,以减少后续工艺处理的时间与成本。
3、本实用新型充气柜可将移载容器内水分子、微粒与有害物质迅速带出,并不断注入干净的气体,使该光掩模移载容器的内部环境能长时间维持洁净度,减少光掩模表面的微粒附着与雾化、结晶等现象,而能提升晶圆制作的良率。
4、本实用新型充气柜可长时间维持与控制该移载容器内部的洁净度与环境条件,故在储存光掩模时不需受限于早进早出的原则,能增进光掩模管理的便利性,进一步并可降低光掩模清洗与重新制作的成本。
本实用新型具有上述诸多优点及实用价值,其不论在结构或功能上皆有较大的改进,在技术上有显著的进步,并产生了好用及实用的效果,且较现有的光掩模充气柜具有增进的多项功效,从而更加适于实用,并具有产业的广泛利用价值,诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本实用新型的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是本实用新型光掩模充气柜的外观立体图。
图2是本实用新型光掩模充气柜的内部局部单元示意图,用以说明充气柜内循环单元的态样及其相对关系。
图3是本实用新型光掩模充气柜的循环单元分解图。
图4是本实用新型光掩模充气柜的应用移载容器的分解图。
图4A是本实用新型光掩模充气柜的应用移载容器另一视角的分解图。
图5是本实用新型光掩模充气柜循环单元于实际使用的外观示意图。
图6是本实用新型光掩模充气柜于实际使用时,移载容器置于循环单元前的剖面示意图。
图7是本实用新型光掩模充气柜于实际使用时,循环单元对应移载容器形成循环的动作示意图。
10:柜体    11:框架
12:侧板            13:门板
14:移动滚轮        15:定位元件
16:承载隔板        20:循环单元
21:定位块          22:检知元件
23:读取元件        30:充气元件
31:管体            310:隔片
311:第一槽孔       312:第二槽孔
33:活动件          34:抵顶端
35:闭合端          36:复位弹簧
37:活塞垫圈        38:抵顶凸柱
40:排气元件        41:管体
410:隔片           411:第一槽孔
412:第二槽孔       43:活动件
44:抵顶端          45:闭合端
46:复位弹簧        47:活塞垫圈
48:抵顶凸柱        49:固定板
490:升降件         50:移载容器
51:底座            52:承托件
520:通气孔         53:抵持件
54:螺孔柱          55:壳罩
56:内衬            560:通孔
57:螺孔柱          58:储存元件
6:进气元件         60:管体
600:隔片           601:第一槽孔
602:第二槽孔       62:活动件
63:抵顶端          64:闭合端
65:复位弹簧           66:活塞垫圈
67:滤片               68:压抵垫圈
7:出气元件            70:管体
700:隔片              701:第一槽孔
702:第二槽孔          72:活动件
73:抵顶端             74:闭合端
75:复位弹簧           76:活塞垫圈
80:光掩模
具体实施方式
为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本实用新型提出的光掩模充气柜结构其具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。
本实用新型是一种用于容置光掩模移载容器的光掩模充气柜,请参照图1、图2所示,其包含有一中空的柜体10、至少一设于柜体10内的循环单元20,而各循环单元20供对应一设于柜体10内的光掩模移载容器50,使得移载容器50内部气体可利用循环单元20产生循环流动;
至于本实用新型较佳实施例的详细构成,则仍请参阅图1、2、3及4所示,其中柜体10由一利用多个纵、横杆组成的框架11所构成,且于框架11外围周面设有封闭形成容置空间的侧板12,再者柜体10于框架11异于侧板12开口设有至少一门板13,门板13可选择性启闭柜体10内部容置空间,以供移载容器50进、出该柜体10,又柜体10于底部设有多个移动滚轮14,便于移动该光掩模充气柜的柜体10,且柜体10底部并具有多个可调式的定位元件15,让柜体10可稳固的定位于固定位置,再者柜体10内利用框架11设有多层的承载隔板16,以供摆置前述的移载容器50,各层承载隔板16上具有网孔,以防止微粒沉积于承载隔板16表面,进一步保持充气柜柜体10内部的洁净度;
而循环单元20设于柜体10各层承载隔板16上,各循环单元20具有至少一充气元件30与至少一排气元件40,循环单元20于承载隔板16上设有至少一定位块21,使得对应的移载容器50可稳固定位于该循环单元20,又各循环单元20于承载隔板16上设有至少一检知元件22,供感应移载容器50是否定位置设于柜体10承载隔板16上,再者各循环单元20并具有一典型无线射频识别系统(RFID)的读取元件23,该读取元件23可供传输与读取移载容器50内光掩模80相关资讯(如第五、六图所示);
前述循环单元20的充、排气元件30、40具选择性启闭的功能,充、排气元件30、40分别具有一管体31、41、一活动件33、43、一复位弹簧36、46及一活塞垫圈37、47。其中管体31、41内部中段形成有一供气体流经的中空隔片310、410,使管体31、41内部于隔片310、410两侧分别形成一第一槽孔311、411与一第二槽孔312、412,且充、排气元件30、40的管体31、41第一槽孔311、411对应前述的移载容器50,又活动件33、43两端分别形成有一较大径的抵顶端34、44与一较小径的闭合端35、45,使活动件33、43可以闭合端35、45穿套前述复位弹簧36、46后,由管体31、41第一槽孔311、411穿经隔片310、410进入第二槽孔312、412,并利用前述的活塞垫圈37、47嵌套于该闭合端35、45上,使活动件33、43可于管体31、41内浮动。该复位弹簧36、46将提供一弹性偏压力,以推抵活动件33、43上的活塞垫圈37、47密闭该管体31、41隔片310、410,供阻隔气体于第一槽孔311、411与第二槽孔312、412间流动,且当活动件33、43受外力推抵时,可让活动件33、43活塞垫圈37、47远离隔片310、410,使得管体31、41的第一槽孔311、411与第二槽孔312、412相互连通,再者充、排气元件30、40活动件33、43的抵顶端34、44对应移载容器50的表面分别凸伸有一抵顶凸柱38、48;
又进一步配合图4及图4A所示,前述移载容器50具有至少一进气元件6与至少一出气元件7,移载容器50由可相对选择性盖合与开启的一底座51与一壳罩55所组成,其中底座51表面设有由两承托件52与一抵持件53所组成的“ㄇ”支撑体,供支撑置设光掩模80,其中中空的承托件52上形成有多个导气用的通气孔520,而底座51底面形成有至少一对应承托件52内部的螺孔柱54,螺孔柱54可供锁设前述的进气元件6,而壳罩55内面锁设有一金属制的内衬56,内衬56适当位置形成有排气用的通孔56,再者壳罩55顶面形成有至少一连通内部的螺孔柱57,螺孔柱57供锁设前述的出气元件7,再者移载容器50于壳罩55上设有一无线射频识别系统的储存元件58,该储存元件58供记录移载容器2内光掩模30的相关资讯,且储存元件58对应柜体10循环单元20的读取元件23,以便于移载时读取之用;
至于前述设于移载容器50的进、出气元件6、7具选择性启闭的功能,该进、出气元件6、7分别具有一管体60、70、一活动件62、72、一复位弹簧65、75及一活塞垫圈66、76。其中管体31、41外径适可嵌插于循环单元20充、排气元件30、40的管体31、41内,且可推抵充、排气元件30、40的活动件33、43(如图7所示),又管体60、70内部中段分别形成有一供气体流经的中空隔片600、700,使管体60、70内部于隔片600、700两侧分别形成一第一槽孔601、701与一第二槽孔602、702,且进、出气元件6、7的管体60、70第一槽孔601、701对应前述的循环单元20的充、排气元件30、40。又活动件62、72两端分别形成有一较大径的抵顶端63、73与一较小径的闭合端64、74,使活动件62、72可以闭合端64、74穿套前述复位弹簧65、75后,由管体60、70第一槽孔601、701穿经隔片600、700进入第二槽孔602、702,并利用前述的活塞垫圈66、76嵌套于该闭合端64、74上,使活动件62、72可于管体60、70内浮动。该复位弹簧65、75将提供一弹性偏压力,以推抵活动件62、72,使其上的活塞垫圈66、76相对开启或密闭该管体60、70的隔片600、700,供阻隔气体于第一槽孔601、701与第二槽孔602、702间流动,且当活动件62、72受外力推抵时,可让活动件62、72的活塞垫圈66、76远离隔片600、700,使得管体60、70的第一槽孔601、701与第二槽孔602、702相互连通,让气体可顺利流动。再者进气元件6由移载容器50外部锁设于底座51螺孔柱54时,可依序压掣一压抵垫圈68与一滤片67,以进一步过滤进入移载容器50内的干净气体,防止微粒或有害物质进入移载容器50内;
经由上述的说明,光掩模充气柜的柜体10可利用各循环单元20的充、排气元件30、40相对接合移载容器50的进、出气元件6、7,使移载容器50内部的气体可产生循环流动,让干净气体可不断的注入移载容器50内形成正压,以避免外部微粒与有害物质进入,同时可将释出的有害物质利用流动气体不断的带出,
可而组构成一可控制移载容器50内部环境的光掩模充气柜结构。
通过上述的设计,本实用新型于实际运用时,则如图2及图5~图7所显示,将容置有光掩模80的移载容器20置入柜体10对应的循环单元20上,当循环单元20的检知元件22感应移载容器50定位后,可启动读取元件23对应存取该移载容器250的储存元件58内的光掩模80相关资讯,当移载容器50置于柜体10承载隔板16上时,移载容器50的进气元件6可与循环单元20的充气元件30同时相对插接,使得进气元件6的管体60可推抵充气元件30的活动件34,而充气元件30活动件34的抵顶凸柱38可同步推抵进气元件6的活动件62,使充气元件30与进气元件6可同步开启,让干净气体可充注进入承载容器50内部。同时循环单元20的排气元件40与移载容器50的出气元件7可相对插接,令出气元件7的管体70可推抵排气元件40的活动件44,而排气元件40活动件44的抵顶凸柱48可同步推抵出气元件7的活动件72,让排气元件40与出气元件7可同步开启,让承载容器50内部气体可不断排出。让移载容器50与光掩模80相邻的内部环境具有一循环流动的气体,如此可使移载容器50内部环境形成正压,有效防止外部微粒与有害物质进入,同时可带走环境中的有害物质,而能加速有害物质的释出,进一步可控制移载容器50内部的环境条件,如湿度、温度等。
综上,本实用新型光掩模充气柜可利用循环单元20的注气与排气作用,使得移载容器50内部环境可通过流动的气体形成正压,以防止微粒、水分子等外部有害物质进入该移载容器50内,因此可效地确保移转容器内环境的洁净度。又由于本实用新型充气柜的循环单元20可将移载容器50内原有或释出的有害物质迅速带出,故该移载容器50内部可长时间维持洁净,并能依不同工艺的需要,预先控制移载容器50的内部环境,进一步降低管理与营运的成本,有进达到提升晶圆良率与增加产量的目的。
以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制,虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本实用新型,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (9)

1、 一种光掩模充气柜结构,其用于容置光掩模的移载容器,其特征在于该充气柜包含有:
一柜体,其具有一供摆置移载容器的容置空间,该柜体的容置空间可选择性启闭;
至少一循环单元,其设于前述柜体的容置空间内,各循环单元供对应一移载容器,循环单元具有至少一对应连通移载容器内部与光掩模相邻环境的充气元件,且循环单元具有至少一对应连通移载容器内部与光掩模相邻环境的排气元件,使得移载容器内部气体通过循环单元产生循环流动。
2、 根据权利要求1所述的光掩模充气柜结构,其特征在于其中所述的柜体由一利用多个纵、横杆组成的框架所构成,框架外围周面设有封闭形成容置空间的侧板,再者柜体于框架异于侧板开口设有至少一可选择性启闭的门板,供移载容器进、出该柜体。
3、 根据权利要求1所述的光掩模充气柜结构,其特征在于其中所述的柜体于底部设有多个移动滚轮,便于移动该光掩模充气柜的柜体,且柜体底部并具有多个可调式的定位元件,让柜体稳固的定位于固定位置。
4、 根据权利要求1或2或3所述的光掩模充气柜结构,其特征在于其中所述的柜体内设有多层供摆置移载容器的承载隔板,各层承载隔板上具有网孔,以防止微粒沉积于承载隔板表面。
5、 根据权利要求1所述的光掩模充气柜结构,其特征在于其中所述的循环单元上设有至少一检知元件,供感应移载容器是否定位置设于柜体内。
6、 根据权利要求1所述的光掩模充气柜结构,其特征在于其中所述的循环单元具有一无线射频识别系统的读取元件,而移载容器内设有对应的储存元件,使得该读取元件供传输与读取移载容器内光掩模的相关资讯。
7、 根据权利要求1所述的光掩模充气柜结构,其特征在于其中所述的移转容器具有一容置光掩模、且可选择性启闭的容置空间,该移转容器上设有至少一连通容置空间与充气元件的进气元件,移转容器上另设有至少一连通容置空间与排气元件的出气元件,其中进、出气元件具有防止移转容器闭合时气体溢出的选择性气密功能。
8、 根据权利要求1或7所述的光掩模充气柜结构,其特征在于其中所述的循环单元的充、排气元件分别具有一管体、一活动件、一复位弹簧及一活塞垫圈,管体内部中段形成有一供气体流经的中空隔片,又活动件两端分别形成有一较大径的抵顶端与一较小径的闭合端,使活动件可以闭合端穿套前述复位弹簧后、穿经隔片,并利用前述的活塞垫圈嵌套于该闭合端上,使活动件可于管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力产生浮动,供利用活动件的活塞垫圈相对远离或靠近管体隔片,供阻隔气体或使气体连通,再者充、排气元件的活动件具有一对应作动移载容器进、出气元件的抵顶凸柱。
9、 根据权利要求8所述的光掩模充气柜结构,其特征在于其中所述的移转容器的进、出气元件分别具有一管体、一活动件、一复位弹簧及一活塞垫圈,管体内部中段形成有一供气体流经的中空隔片,又活动件两端分别形成有一较大径的抵顶端与一较小径的闭合端,使活动件可以闭合端穿套前述复位弹簧后、穿经隔片,并利用前述的活塞垫圈嵌套于该闭合端上,使活动件可于管体内受复位弹簧提供的弹性偏压力产生浮动,供利用活动件的活塞垫圈相对远离或靠近管体隔片,供阻隔气体或使气体连通。
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CN104241164A (zh) * 2013-06-14 2014-12-24 家登精密工业股份有限公司 一种晶圆/光罩密封式载具的充气净化系统

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