CN101597749A - 自动镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
一种自动镀膜装置,其包括:一机体、一支撑架、一基板、一旋转装置及一翻面装置;所述旋转装置包括一第一驱动装置及一与其相连接的第一传动轴;所述翻面装置包括一第二驱动装置及一与其相连接的第二传动轴;所述第一驱动装置与所述第二驱动装置相邻的固定于机体的顶端,且所述第一传动轴与第二传动轴相互平行;所述支撑架的一端可转动的连接在所述机体上,所述基板可转动的连接在所述支撑架上;所述第一驱动装置驱动第一传动轴带动支撑架在水平方向上旋转,所述第二驱动装置驱动第二传动轴带动基板在竖直方向上转动。本发明自动镀膜装置可使位于基板上的待镀膜基片一表面镀膜完成后,无需降温、破真空,自动翻面后对另一面进行镀膜。
Description
技术领域
本发明涉及一种镀膜装置,特别涉及一种自动镀膜装置。
背景技术
目前,光学薄膜制作以物理蒸镀法为主(Physics Vapor Deposition,简称PVD),该方法将膜料由固态转化为气态或离子态材料,由蒸发源穿越空间,抵达玻璃表面,膜料抵达玻璃表面后沉积而逐渐形成薄膜(请参见“真空镀膜技术的现状及发展”,王银川,《现代仪器》,2000年第6期,1-4页)。通常,为使制作的薄膜拥有高纯度,镀膜的制程须于高真空环境下完成。由此延伸出真空镀膜,一般做法为将基片以超声波洗净机洗净,洗净后再将基片排上夹具,送入镀膜机,开始加热和抽真空。达到高真空后,开始镀膜。镀膜时,以电子枪方式或电阻式对蒸镀源加热,将镀膜材料变成离子态,蒸镀时间则视层数和程序不同而有长短。镀膜完毕后,待温度冷却后取出。
但是现有的真空镀膜设备中,一次仅能对基片的一面进行单面镀膜,如欲对其进行双面镀膜,则需打开镀膜机,破坏其真空状态;又因基片蒸镀时真空腔内温度极高,故需降温取出,再翻面然后重新置入真空腔内,此时需重新加热和抽真空,这样将增加镀膜的周期且增加抽真空的次数,且无法保持真空室的真空度的参数一致性,由此将使基片的双面镀膜层的膜特征不一致。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种能实现自动翻面的自动镀膜装置。
一种自动镀膜装置,其包括:一机体、一支撑架、一基板、一旋转装置及一翻面装置;所述旋转装置包括一第一驱动装置及一与其相连接的第一传动轴;所述翻面装置包括一第二驱动装置及一与其相连接的第二传动轴;所述第一驱动装置与所述第二驱动装置相邻的固定于机体的顶端,且所述第一传动轴与第二传动轴相互平行;所述支撑架的一端可转动的连接在所述机体上,所述基板可转动的连接在所述支撑架上;所述第一驱动装置驱动第一传动轴带动支撑架在水平方向上旋转,所述第二驱动装置驱动第二传动轴带动基板在竖直方向上转动。
相较现有技术,本发明自动镀膜装置通过设置一翻面装置和一旋转装置,从而可使基片的一表面镀膜完成后,自动翻面对另一面进行镀膜,无需降温、破真空,取出翻面,同时减少了加热和抽真空次数,且可保证真空腔室内的真空参数固定,从而可减少镀膜的时间。
附图说明
图1是本发明实施方式提供的自动镀膜装置的剖视图;
图2是本发明实施方式提供的自动镀膜装置翻面示意图。
具体实施方式
以下将结合附图对本发明作进一步的详细说明。
请参阅图1及图2,本发明实施方式提供的自动镀膜装置100,其包括一旋转装置10、一翻面装置20、一机体30、一基板40及一支撑架50。
所述旋转装置10,其包括:一第一驱动装置11、一旋转驱动齿轮12、一旋转从动齿轮13、一轴承14、一连接杆15、一固定杆16及一第一传动轴17。所述第一驱动装置11固定于机体30的顶端;所述旋转驱动齿轮12与固定于第一驱动装置11的第一传动轴17另一端相连接,所述第一传动轴17带动旋转驱动齿轮12转动;所述旋转从动齿轮13与旋转驱动齿轮12相啮合,旋转驱动齿轮12带动旋转从动齿轮13旋转,在旋转从动齿轮13上表面设置有多个连接杆15,且该旋转驱动齿轮12为通孔状;所述轴承14为向心推力球轴承,所述固定杆16一端固定于轴承14的内圈,另一端与机体30相连接;该轴承14具有与旋转驱动齿轮12孔径相一致的通孔,在该轴承14的外圈通过连接杆15与旋转从动齿轮13相固定;所述支撑架50固定于旋转从动齿轮13的下表面,当旋转从动齿轮13转动时,可带动支撑架50一起转动。
所述翻面装置20,其包括:一第二驱动装置21、一翻面驱动齿轮22、多个翻面从动齿轮23及一第二传动轴24。所述第二驱动装置21固定于机体30的顶端,且与第一驱动装置11相邻,固定于第二驱动装置21的第二传动轴24与第一传动轴17相互平行,所述第二传动轴24贯穿于旋转装置10中的旋转从动齿轮13与轴承14的通孔;所述翻面驱动齿轮22与固定于第二驱动装置21的传动轴24的另一端相连接,该传动轴24带动翻面驱动齿轮22转动;所述翻面从动齿轮23与翻面驱动齿轮22相啮合,翻面驱动齿轮22带动翻面从动齿轮23旋转;所述翻面驱动齿轮22与翻面从动齿轮23都为轴线正交的锥形齿轮;所述基板40一端与翻面从动齿轮23相固定,另一端可活动的固定于支撑架50上,所述支撑架50的一端可转动的连接在所述机体30上。
工作时,当需要对基片60进行旋转时,第一驱动装置11驱动第一传动轴17带动旋转驱动齿轮12转动,旋转驱动齿轮12带动与其相啮合的旋转从动齿轮13转动,由于轴承14为向心推力球轴承,其外圈通过连接杆15与旋转从动齿轮13相固定,其内圈与机体30相固定,当旋转驱动齿轮12转动时,旋转从动齿轮13可实现转动,又可保持支撑架50在竖直方向上的稳定,旋转从动齿轮13由于固定于支撑架50上,当旋转从动齿轮13转动时,就可实现支撑架50在水平方向上的转动,可保证基片60镀膜均匀;当需要对基片60进行翻面时,第二驱动装置21驱动第二传动轴24带动翻面驱动齿轮22转动,所述的翻面驱动齿轮22为锥形齿轮,就可同时带动多个也为锥形齿轮的翻面从动齿轮23转动,翻面从动齿轮23带动基板在竖直方向上实现转动。当带动基板40旋转180度,则实现基片60的翻面。
本发明自动镀膜装置通过内设置一翻面装置和一旋转装置,从而可使基片的一表面镀膜完成后,自动翻面对另一面进行镀膜,无需降温、破真空,取出翻面,同时减少了加热和抽真空次数,且可保证真空腔室内的真空参数固定,从而可减少镀膜的时间。
另外,本领域技术人员还可在本发明精神内做其它变化,当然,这些依据本发明精神所做的变化,都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
Claims (6)
1.一种自动镀膜装置,其特征在于,该自动镀膜装置包括:一机体、一支撑架、一基板、一旋转装置及一翻面装置;所述旋转装置包括一第一驱动装置及一与其相连接的第一传动轴;所述翻面装置包括一第二驱动装置及一与其相连接的第二传动轴;所述第一驱动装置与所述第二驱动装置相邻的固定于机体的顶端,且所述第一传动轴与第二传动轴相互平行;所述支撑架的一端可转动的连接在所述机体上,所述基板可转动的连接在所述支撑架上;所述第一驱动装置驱动第一传动轴带动支撑架在水平方向上旋转,所述第二驱动装置驱动第二传动轴带动基板在竖直方向上转动。
2.如权利要求1所述的自动镀膜装置,其特征在于:所述旋转装置,其还包括:一旋转驱动齿轮、一轴承、一旋转从动齿轮及一固定杆,所述旋转驱动齿轮与固定于第一驱动装置的第一传动轴的另一端相连接,该旋转驱动齿轮与固定在支撑架上的旋转从动齿轮相配合,所述旋转从动齿轮上表面通过多个连接杆连接于轴承的外圈,所述固定杆一端固定于轴承的内圈,另一端与机体相连接。
3.如权利要求2所述的自动镀膜装置,其特征在于:所述翻面装置,其还包括:一翻面驱动齿轮及多个翻面从动齿轮,所述翻面驱动齿轮与固定于第二驱动装置的第二传动轴的另一端相连接,该翻面驱动齿轮与固定在基板一端的多个翻面从动齿轮相配合,所述基板的另一端活动的连接于支撑架上。
4.如权利要求3所述的自动镀膜装置,其特征在于:所述轴承为向心推力球轴承。
5.如权利要求4所述的自动镀膜装置,其特征在于:所述的翻面驱动齿轮和翻面从动齿轮都为轴线正交的锥形齿轮。
6.如权利要求5所述的自动镀膜装置,其特征在于:所述旋转驱动齿轮为通孔状,所述第二驱动装置通过旋转驱动齿轮及轴承的通孔与翻面驱动齿轮相连接。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2008103019413A CN101597749B (zh) | 2008-06-03 | 2008-06-03 | 自动镀膜装置 |
US12/476,122 US8070146B2 (en) | 2008-06-03 | 2009-06-01 | Support device for sputtering machine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2008103019413A CN101597749B (zh) | 2008-06-03 | 2008-06-03 | 自动镀膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101597749A true CN101597749A (zh) | 2009-12-09 |
CN101597749B CN101597749B (zh) | 2011-12-21 |
Family
ID=41378818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2008103019413A Expired - Fee Related CN101597749B (zh) | 2008-06-03 | 2008-06-03 | 自动镀膜装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8070146B2 (zh) |
CN (1) | CN101597749B (zh) |
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HK1215127A2 (zh) | 2015-06-17 | 2016-08-12 | Master Dynamic Ltd | 製品塗層的設備、儀器和工藝 |
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-
2008
- 2008-06-03 CN CN2008103019413A patent/CN101597749B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-06-01 US US12/476,122 patent/US8070146B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8070146B2 (en) | 2011-12-06 |
US20090295054A1 (en) | 2009-12-03 |
CN101597749B (zh) | 2011-12-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20111221 Termination date: 20150603 |
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