CN101495918A - 光敏性平版印刷版材料 - Google Patents

光敏性平版印刷版材料 Download PDF

Info

Publication number
CN101495918A
CN101495918A CNA2007800270831A CN200780027083A CN101495918A CN 101495918 A CN101495918 A CN 101495918A CN A2007800270831 A CNA2007800270831 A CN A2007800270831A CN 200780027083 A CN200780027083 A CN 200780027083A CN 101495918 A CN101495918 A CN 101495918A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mentioned
printing plate
plate material
compound
photosensitive layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2007800270831A
Other languages
English (en)
Inventor
后藤贤治
松村智之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Original Assignee
Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Medical and Graphic Inc filed Critical Konica Minolta Medical and Graphic Inc
Publication of CN101495918A publication Critical patent/CN101495918A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)

Abstract

本发明提供光敏性平版印刷版材料，其包括支持体和位于支持体上的下述光敏层，所述光敏层含有(A)聚合引发剂、(B)可聚合的含有乙烯性双键的化合物、(C)增感染料以及(D)高分子粘结材料，其中，该光敏层含有下述通式(1)所示增感染料作为(C)增感染料，该光敏性平版印刷版材料适于在发光波长350nm至450nm范围内的激光中曝光，是高敏灵敏度且保存性良好的光敏性平版印刷版材料。

Description

光敏性平版印刷版材料
技术领域
本发明涉及用于计算机直接制版(以下称CTP)的光敏性平版印刷版材料，尤其涉及适于采用350～450nm的激光进行曝光的光敏性平版印刷版材料。
背景技术
近年来，在胶版印刷用的印刷版制作技术方面，开发了通过激光光源将图像的数字信息直接记录于光敏性平版印刷版上的CTP，且正在实用化。
其中，在要求较高耐印刷力的印刷领域，已知可以使用例如特开平1-105238号公报、特开平2-127404号公报所述的印刷版材料那样具有聚合型光敏层的负型光敏性平版印刷版材料，所述聚合型光敏层含有可聚合的化合物。
另外还已知从印刷版处理性方面考虑，提高了光安全性，并且可采用波长390nm～430nm的激光进行图像曝光的印刷版材料。
并且，高输出功率且小型的波长390～430nm的蓝紫色激光器变得易于获得，通过开发适于该激光波长的光敏性平版印刷版可实现明室化(参照专利文献1、2以及3)。
此外，已知使用特殊的吖啶酮类色素作为增感剂来改善灵敏度的图像形成材料(参照专利文献4)。
但在这些印刷版材料中存在下述问题，有时平版印刷版材料随时间推移灵敏度变化大，有时灵敏度不充分，要保持高灵敏度并抑制因保存所引起的灵敏度变化是很困难的。
专利文献1：特开2000-35673号公报
专利文献2：特开2000-98605号公报
专利文献3：特开2001-264978号公报
专利文献4：特开2005-107191号公报
发明内容
发明要解决的问题
本发明的目的为提供适于采用发光波长在350nm至450nm范围内的激光进行曝光的高灵敏度且保存性良好的光敏性平版印刷版材料。
解决问题的方法
通过以下方法，实现本发明的上述目的。
1.一种光敏性平版印刷版材料，其包括支持体和位于支持体上的光敏层，所述光敏层含有(A)聚合引发剂、(B)可聚合的含有乙烯性双键的化合物、(C)增感染料以及(D)高分子粘结材料，其中，该光敏层含有下述通式(1)所示增感染料作为(C)增感染料，
[化学式1]
通式(1)
Figure A20078002708300061
式中，R1、R2分别独立地表示氢原子、烷基、烷氧基，R3、R4分别独立地表示氢原子、烷氧基，但R1～R4不可同时为氢原子，R5表示烷基、芳烷基。
2.上述1所述的光敏性平版印刷版材料，其中，在上述通式(1)中，R1和R2中的至少一个为烷基，R3和R4为氢原子。
3.上述1所述的光敏性平版印刷版材料，其中，在上述通式(1)中，R1、R2、R3以及R4分别表示氢原子或烷氧基，R1、R2、R3以及R4中的至少一个为烷氧基。
4.上述1～3中任一项所述的光敏性平版印刷版材料，其中，上述(A)聚合引发剂为六芳基联二咪唑化合物。
5.上述1～4中任一项所述的光敏性平版印刷版材料，其中，上述(B)可聚合的含有乙烯性双键的化合物为(C1)、(C2)和(C3)的反应产物，所述(C1)为分子内至少含有1个乙烯性双键和1个羟基的化合物，所述(C2)为二异氰酸酯化合物，所述(C3)为分子内具有叔胺结构的二醇化合物或分子内分别具有一个仲胺结构和一个羟基的化合物。
6.上述5所述的光敏性平版印刷版材料，其中，上述(C3)为分子内具有叔胺结构的二醇化合物。
7.上述6所述的光敏性平版印刷版材料，其中，上述反应产物为下述通式(2)所示的二(甲基)丙烯酸酯，
[化学式2]
通式(2)
Figure A20078002708300071
式中，R表示氢原子或甲基，X1表示二价的脂肪族基团，X2表示具有芳香环的二价烃基，X3表示具有叔胺结构的二价连接基团。
8.上述7所述的光敏性平版印刷版材料，其中，在上述通式(2)中，X1表示-CH2CH2-、-CH2CH(CH3)-或-CH(CH3)CH2-，X2表示下述X2-1～X2-10中的任一基团，
[化学式3]
Figure A20078002708300072
X3表示下述X3-1～X3-10中的任一基团，
[化学式4]
Figure A20078002708300081
上述星号*表示结合位点。
9.上述1～8任一项所述的光敏性平版印刷版材料，其中，相对于上述光敏层中的全部固体成分，光敏层中上述增感染料的含量为0.5～8质量％。
10.上述9所述的光敏性平版印刷版材料，其中，相对于光敏层中的全部固体成分，光敏层中上述可聚合的含有乙烯性双键的化合物的含量为30～80质量％，相对于光敏层中的全部固体成分，上述高分子粘结材料的含量为15～70质量％，相对于光敏层中的全部固体成分，上述聚合引发剂的含量为0.05～20质量％。
发明的效果
通过本发明的上述技术方案，可以提供适于采用发光波长在350nm至450nm范围内的激光进行曝光的高灵敏度且保存性良好的光敏性平版印刷版材料。
具体实施方式
下面，就实施本发明的具体实施方式进行说明，但本发明并不限于此。
本发明涉及一种光敏性平版印刷版材料，其在支持体上具有下述光敏层，所述光敏层含有(A)聚合引发剂、(B)可聚合的含有乙烯性双键的化合物、(C)增感染料以及(D)高分子粘结材料，该增感染料(C)以上述通式(1)表示。
本发明通过使用上述通式(1)所示增感染料作为增感染料，可以提供适于采用发光波长在350nm至450nm范围内的激光进行曝光的高灵敏度且保存性良好的光敏性平版印刷版材料。
((C)增感染料)
本发明的光敏层中含有上述通式(1)所示增感染料作为增感染料。
式中，R1、R2分别独立地表示氢原子、烷基、烷氧基，R3、R4分别独立地表示氢原子、烷氧基，但R1～R4不同时为氢原子，R5表示烷基、芳烷基。
作为R1、R2所表示的烷基，可以列举，可被碳原子数1～10的取代基取代的烷基，所述碳原子数1～10的取代基包括甲基、乙基、丙基、正丁基、叔丁基、壬基、正癸基等，特别优选甲基、乙基、丙基、正丁基、叔丁基。
作为R1～R4使用的烷氧基，可以列举，可被碳原子数1～10的取代基取代的烷氧基，所述碳原子数1～10的取代基包括甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、癸氧基等，特别优选甲氧基、乙氧基。
作为通式(1)所示化合物，从灵敏度、保存性的角度考虑，特别优选R3和R4为氢、且R1或R2中的至少一个为烷基的化合物，或者R1～R4分别为氢原子或烷氧基、且R1～R4中的至少一个为烷氧基的化合物。
作为R5表示的烷基，可以列举，可被碳原子数1～10的取代基取代的烷基，所述碳原子数1～10的取代基包括甲基、乙基、丙基、正丁基、叔丁基、壬基、正癸基等，但从灵敏度、保存性等方面来看，特别优选甲基、乙基、丙基、正丁基、叔丁基。
R5所示芳烷基包括例如苯甲基、苯乙基、3-甲基苯甲基等取代、未取代的芳烷基。取代芳烷基的取代基为碳原子数1～10的烷基或烷氧基、碳原子数2～10的烯基以及碳原子数6～10的芳基。作为R5所示芳烷基，从灵敏度、保存性的角度考虑，优选苯甲基、3-甲基苯甲基。
光敏层中含有的通式(1)所示增感染料的含量相对于光敏层优选为0.1质量％～10质量％，特别优选0.5质量％～8质量％。
通式(1)所示增感染料可通过使2-苯基氨基苯甲酸衍生物发生环化，并使N位烷基化来合成。以D-06色素为例，可以以下述反应式所示路线进行合成。
[化学式5]
Figure A20078002708300101
此外，使用相应的原料化合物，以同样的方法还可合成其它色素。
通式(1)所示增感染料的具体例列举如下。
[化学式6]
Figure A20078002708300102
[化学式7]
Figure A20078002708300111
作为增感染料，除上述化合物外，还可组合使用例如特开2000-98605号、特开2000-147763号、特开2000-206690号、特开2000-258910号、特开2000-309724号、特开2001-042524号、特开2002-202598号、特开2000-221790号中所述的增感染料等。
((A)聚合引发剂)
本发明的聚合引发剂可通过图像曝光使可聚合的含有乙烯性双键的化合物开始聚合，作为聚合引发剂，可优选使用例如二茂钛化合物、单烷基三芳基硼酸酯化合物、铁芳烃络合物化合物、多卤化合物、联二咪唑化合物，其中特别优选使用联二咪唑化合物，因为此时本发明的效果明显。
联二咪唑化合物为联二咪唑的衍生物，可以列举特开2003-295426号公报所述的化合物等。
在本发明中，作为联二咪唑化合物，可优选使用六芳基联二咪唑(HABI、三芳基咪唑的二聚体)化合物。
HABI类的制造工艺如DE1,470,154所述，其在可发生光聚合的组合物中的使用如EP24,629、EP107,792、US4,410,621、EP215,453以及DE3,211,312所述。
优选的衍生物例如：2，4，5，2’，4’，5’-六苯基联二咪唑、2，2’-双(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑、2，2’-双(2-溴苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑、2，2’-双(2，4-二氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑、2，2’-双(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四(3-甲氧基苯基)联二咪唑、2，2’-双(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四(3，4，5-三甲氧基苯基)联二咪唑、2，5，2’，5’-四(2-氯苯基)-4，4’-双(3，4-二甲氧基苯基)联二咪唑、2，2’-双(2，6-二氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑、2，2’-双(2-硝基苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑、2，2’-二邻甲苯基-4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑、2，2’-双(2-乙氧基苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑以及2，2’-双(2，6-二氟苯基)4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑，这些化合物可以以市售品的形式得到。
联二咪唑化合物的含量相对于光敏层优选为0.05质量％～20.0质量％，特别优选为1.0质量％～10.0质量％。此外，上述通式(1)所示化合物和联二咪唑化合物的含量比(色素/联二咪唑(质量比))优选为0.01～20，特别优选0.1～10。
作为二茂钛化合物，可以列举，特开昭63-41483、特开平2-291所述的化合物等，作为更优选的具体例，可以列举，二氯·双(环戊二烯基)合钛、双苯基·双(环戊二烯基)合钛、双2，3，4，5，6-五氟苯基·双(环戊二烯基)合钛、双2，3，5，6-四氟苯基·双(环戊二烯基)合钛、双2，4，6-三氟苯基·双(环戊二烯基)合钛、双2，6-二氟苯基·双(环戊二烯基)合钛、双2，4-二氟苯基·双(环戊二烯基)合钛、双2，3，4，5，6-五氟苯基·双(甲基环戊二烯基)合钛、双2，3，5，6-四氟苯基·双(甲基环戊二烯基)合钛、双2，6-二氟苯基·双(甲基环戊二烯基)合钛(IRUGACURE 727L：Ciba Speciality Chemicals公司制)、双(环戊二烯基)·双(2，6-二氟-3-(吡啶-1-基)苯基)合钛(IRUGACURE 784：Ciba SpecialityChemicals公司制)、双(环戊二烯基)·双(2，4，6-三氟-3-(吡啶-1-基)苯基)合钛、双(环戊二烯基)·双(2，4，6-三氟-3-(2-5-二甲基吡啶-1-基)苯基)合钛等。
作为单烷基三芳基硼酸酯化合物，可以列举，特开昭62-150242、特开昭62-143044所述的化合物等，作为更优选的具体例，可以列举，四正丁基铵·正丁基-三萘-1-基-硼酸酯、四正丁基铵·正丁基-三苯基-硼酸酯、四正丁基铵·正丁基-三(4-叔丁基苯基)-硼酸酯、四正丁基铵·正己基-三(3-氯-4-甲基苯基)-硼酸酯、四正丁基铵·正己基-三(3-氟苯基)-硼酸酯等。
作为铁芳烃络合物化合物，可以列举特开昭59-219307所述的化合物等，作为更优选的具体例，可以列举，η-苯·(η-环戊二烯基)合铁六氟磷酸盐、η-枯烯·(η-环戊二烯基)合铁六氟磷酸盐、η-芴·(η-环戊二烯基)合铁六氟磷酸盐、η-萘·(η-环戊二烯基)合铁六氟磷酸盐、η-二甲苯·(η-环戊二烯基)合铁六氟磷酸盐、η-苯·(η-环戊二烯基)合铁四氟硼酸盐等。
作为多卤化合物，优选使用具有三卤代甲基、二卤代甲基或二卤代亚甲基的化合物，特别优选使用下述通式(I)所示的含卤化合物以及噁二唑环上具有上述基团的噁二唑化合物。
通式(I)R1-C(Y)2-(C＝O)-R2
式中，R1表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基、酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、亚氨基磺酰基或氰基。R2表示一价取代基。R1和R2也可结合形成环。Y表示卤素原子。
R2所示的一价取代基表示取代、未取代的烷基，取代、未取代的芳基，取代、未取代的杂环基，取代、未取代的烷氧基，取代、未取代的芳氧基，取代、未取代的氨基，或羟基。
其中，还特别优选下述通式(II)所示的多卤化合物。
通式(II)C(Y)3-(C＝O)-X-R3
式中，R3表示一价取代基。X表示-O-、-NR4-。R4表示氢原子或烷基。X为-NR4-时，R3和R4也可相互结合形成环。Y表示卤素原子。
R3所示的一价取代基表示取代、未取代的烷基，取代、未取代的芳基，或取代、未取代的杂环基。
其中，作为多卤化合物，特别优选使用具有多卤代乙酰胺基的化合物。
此外，还可优选使用多卤代甲基取代在噁二唑环上而成的噁二唑化合物。进一步，还可优选使用特开平5-34904号公报、特开平8-240909号公报所述的噁二唑化合物。
还可并用其它任意的聚合引发剂。可以列举，J.科萨(J.Kosar)著《光敏系统》第五章所述的羰基化合物、有机硫化合物、过硫化物、氧化还原类化合物、偶氮和重氮化合物、卤素化合物、光还原性色素等。进一步，具体的化合物在英国专利1,459,563号中公开。
即，作为可组合使用的聚合引发剂，可使用下述化合物。苯偶姻甲醚、苯偶姻异丙醚、α，α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮等苯偶因衍生物；二苯甲酮、2，4-二氯二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4，4’-双(二甲基氨基)二苯甲酮等二苯甲酮衍生物；2-氯噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等噻吨酮衍生物；2-氯蒽醌、2-甲基蒽醌等蒽醌衍生物；N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮等吖啶酮衍生物；α，α-二乙氧基苯乙酮、苯偶酰、芴酮、呫吨酮、油酰化合物，以及特公昭59-1281号、特公昭61-9621号以及特开昭60-60104号所述的三嗪衍生物；特开昭59-1504号、特开昭61-243807号所述的有机过氧化物；特公昭43-23684号、特公昭44-6413号、特公昭44-6413号、特公昭47-1604号以及美国专利3,567,453号所述的重氮鎓化合物；美国专利2,848,328号、美国专利2,852,379号以及美国专利2,940,853号所述的有机迭氮化合物；特公昭36-22062b号、特公昭37-13109号、特公昭38-18015号以及特公昭45-9610号所述的邻苯醌二叠氮类；特公昭55-39162号、特开昭59-14023号以及“大分子(Macromolecules)”10卷，1307页(1977年)所述的各种鎓类化合物；特开昭59-142205号所述的偶氮化合物；特开平1-54440号、欧洲专利109,851号、欧洲专利126,712号以及“图像科学杂志(J.Imag.Sci.)”30卷，174页(1986年)所述的金属丙二烯络合物；日本专利申请特愿平4-56831号及日本专利申请特愿平4-89535号所述的(氧代)锍有机硼络合物；“配位化学要览(Coordination Chemistry Review)”84卷，85～277页(1988年)以及特开平2-182701号所述的含有钌等过渡金属的过渡金属络合物；特开平3-209477号所述的2，4，5-三芳基咪唑的二聚体；四溴化碳、特开昭59-107344号所述的有机卤素化合物等。
优选本发明聚合引发剂的含量(聚合引发剂的总量)相对于光敏层为0.05质量％～20.0质量％，特别优选为1.0质量％～10.0质量％。
((B)可聚合的含有乙烯性双键的化合物)
本发明(A)可聚合且含有乙烯性双键的化合物可通过经图像曝光的光敏层中的聚合引发剂而聚合得到，是具有乙烯性双键的化合物。
在本发明中，作为可聚合的含有乙烯性双键的化合物，特别优选使用下述(C1)～(C3)化合物的反应产物。
(C1)分子内至少具有1个乙烯性双键和1个羟基的化合物
(C2)二异氰酸酯化合物
(C3)分子内具有叔胺结构的二醇化合物或分子内具有1个仲胺结构和1个羟基的化合物
作为上述C1，可以列举，甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯。
上述C2为具有2个异氰酸酯基的化合物，作为(C2)二异氰酸酯化合物，可以列举，1，3-双(1-异氰酸酯基-1-甲基乙基)苯(2摩尔)、1，3-二异氰酸酯基苯、1，3-二异氰酸酯基-4-甲基苯、1，3-二(异氰酸酯基甲基)苯。
作为上述C3，可以列举，N-正丁基二乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、1，4-二(2-二羟基乙基)、N-乙基二乙醇胺等。
作为上述反应产物，特别优选使用上述通式(2)所示二(甲基)丙烯酸酯化合物。
在上述通式(2)中，R表示氢原子或甲基。X1表示二价脂肪族基。X2表示具有芳香环的二价烃基。X3表示具有叔胺结构的二价取代基。
作为X1，可以列举，-CH2CH2-、-CH2CH(CH3)-、-CH(CH3)CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2CH2-，优选-CH2CH2-、-CH2CH(CH3)-、-CH(CH3)CH2-。
作为X2，可以列举下述X2-1～X2-10的结构。
[化学式8]
Figure A20078002708300161
星号*表示结合位点。
在X2-1～X2-10中，优选X2-3、X2-4、X2-7、X2-9、X2-10。
作为X3，可以列举下述X3-1～X3-10的结构。
[化学式9]
Figure A20078002708300171
星号*表示结合位点。
在X3-1～X3-10中，优选X3-1、X3-2、X3-5、X3-9。
作为通式(2)所示的化合物，可以列举下述化合物。
下述例示化合物中X2、X3所示的二价结合基团的星号*表示结合位点。
[化学式10]
Figure A20078002708300181
[化学式11]
Figure A20078002708300182
[化学式12]
Figure A20078002708300191
[化学式13]
[化学式14]
Figure A20078002708300201
[化学式15]
Figure A20078002708300202
[化学式16]
[化学式17]
Figure A20078002708300212
作为(B)可聚合且含有乙烯性双键的化合物，可进一步组合使用通常的自由基聚合性单体类、紫外线固化树脂通常使用的分子内具有多个可加成聚合的乙烯性双键的多官能单体类、多官能低聚物类。
这些化合物没有特别的限制，作为优选化合物，可以列举，丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸甘油酯、四氢糠基丙烯酸酯、丙烯酸苯氧基乙酯、丙烯酸壬基苯氧基乙酯、四氢糠氧基乙基丙烯酸酯、四氢糠氧基己内酯丙烯酸酯、1，3-二噁烷醇的ε-己内酯加成物的丙烯酸酯、1，3-二氧杂戊环丙烯酸酯等单官能丙烯酸酯类或将这些“丙烯酸酯”替换为甲基丙烯酸酯、衣康酸酯、巴豆酸酯、马来酸酯而得到的甲基丙烯酸酯、衣康酸酯、巴豆酸酯、马来酸酯；例如：乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、氢醌二丙烯酸酯、间苯二酚二丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、羟基三甲基乙酸新戊二醇的二丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯的二丙烯酸酯、羟基三甲基乙酸新戊二醇的ε-己内酯加成物的二丙烯酸酯、2-(2-羟基-1，1-二甲基乙基)-5-羟甲基-5-乙基-1，3-二噁烷二丙烯酸酯、三环癸烷二羟甲基丙烯酸酯、三环癸烷二羟甲基丙烯酸酯的ε-己内酯加成物、1，6-己二醇的二缩水甘油醚的二丙烯酸酯等2官能团丙烯酸酯类、或这些丙烯酸酯被甲基丙烯酸酯、衣康酸酯、巴豆酸酯、马来酸酯取代而得到的甲基丙烯酸酯、衣康酸酯、巴豆酸酯、马来酸酯；例如三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、一缩二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯的ε-己内酯加成物、邻苯三酚三丙烯酸酯、丙酸二季戊四醇三丙烯酸酯、丙酸二季戊四醇四丙烯酸酯、羟基三甲基乙醛改性二羟甲基丙烷三丙烯酸酯等多官能团丙烯酸酯、或这些丙烯酸酯被甲基丙烯酸酯、衣康酸酯、巴豆酸酯、马来酸酯所取代而得到的甲基丙烯酸酯、衣康酸酯、巴豆酸酯、马来酸酯等。
此外，与上述相同还可使用预聚物。作为预聚物，可以列举后述的化合物等，另外，还可优选使用在具有适当分子量的低聚物中导入丙烯酸或甲基丙烯酸，从而赋予光聚合性的预聚物。可以将这些预聚物中的1种或2种以上组合使用，也可以与上述单体和/或低聚物混合使用。
作为预聚物，可以列举，向多元酸与多元醇结合所得的聚酯中导入(甲基)丙烯酸而得到的聚酯丙烯酸酯类，所述多元酸可以列举，己二酸、苯偏三酸、马来酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、腐植酸(hymic acid)、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、衣康酸、苯均四酸、富马酸、戊二酸、庚二酸、癸二酸、十二烷酸、四氢邻苯二甲酸等，所述多元醇可以列举，乙二醇、丙二醇、二乙二醇、环氧丙烷、1，4-丁二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、甘油、三羟甲基丙烷、季戊四醇、山梨醇、1，6-己二醇、1，2，6-己三醇等；向环氧树脂中导入(甲基)丙烯酸而得到的环氧基丙烯酸酯类，例如，双酚A-表氯醇-(甲基)丙烯酸、苯酚酚醛清漆-表氯醇-(甲基)丙烯酸；向聚氨酯树脂中导入(甲基)丙烯酸而得到的聚氨酯丙烯酸酯，例如：乙二醇-己二酸-甲苯二异氰酸酯-丙烯酸2-羟基乙酯、聚乙二醇-甲苯二异氰酸酯-丙烯酸2-羟基乙酯、羟基乙基邻苯二甲酰基甲基丙烯酸酯-二甲苯二异氰酸酯、1，2-聚丁二烯二醇-甲苯二异氰酸酯-丙烯酸2-羟基乙酯、三羟甲基丙烷-丙二醇-甲苯二异氰酸酯-丙烯酸2-羟基乙酯；例如：聚硅氧烷丙烯酸酯、聚硅氧烷-二异氰酸酯-丙烯酸2-羟基乙酯等聚硅氧烷树脂丙烯酸酯类；以及油改性醇酸树脂中导入(甲基)丙烯酰基而得到的醇酸改性丙烯酸酯类、螺环树脂丙烯酸酯类等预聚物。
本发明的光敏层中可含有下述单体以及具有由这些单体形成的构成单元的加成聚合性低聚物以及预聚物，所述单体包括磷腈单体、三乙二醇、三聚异氰酸EO(环氧乙烷)改性二丙烯酸酯、三聚异氰酸EO改性三丙烯酸酯、二羟甲基三环癸烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷丙烯酸苯甲酸酯、亚烷基二醇型丙烯酸改性、氨基甲酸酯改性丙烯酸酯等。
进一步，可以在本发明中组合使用的乙烯性单体，可以列举，至少含有一个(甲基)丙烯酰基的磷酸酯化合物。该化合物为磷酸的至少一部分羟基被酯化而成的化合物，而且只要具有(甲基)丙烯酰基即可，没有特别的限制。
另外还可列举，特开昭58-212994号公报、特开昭61-6649号公报、特开昭62-46688号公报、特开昭62-48589号公报、特开昭62-173295号公报、特开昭62-187092号公报、特开昭63-67189号公报、特开平1-244891号公报等所述的化合物等，另外，“11290的化学商品(11290の化学商品)”化学工业日报社，p.286～p.294所述的化合物、“UV·EB固化手册(原料编)”高分子出版社，p.11～65所述的化合物等也适合在本发明中使用。其中，本发明优选分子内具有2个以上丙烯酰基或甲基丙烯酰基的化合物，更优选分子量10,000以下的化合物，进一步优选分子量5,000以下的化合物。
此外，还可使用特开平1-105238号公报、特开平2-127404号公报所述的丙烯酸酯或烷基丙烯酸酯。
本发明涉及的(B)可聚合且含有乙烯性双键的化合物在光敏层中的含量相对于光敏层优选为20质量％～80质量％，特别优选30～70质量％。
((D)高分子粘结材料)
本发明的高分子粘结材料可以将光敏层中含有的成分担载于支持体上，作为高分子粘结材料，可使用丙烯酸类聚合物、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚氨酯树脂、聚酰胺树脂、聚酯树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚乙烯醇缩甲醛树脂、虫胶、其它天然树脂等。此外，也可组合使用2种以上的这些材料。
优选通过丙烯酸类单体进行共聚所得的乙烯基类共聚物。另外，作为高分子粘结材料的共聚组成，优选(a)含有羧基的单体、(b)甲基丙烯酸烷基酯或丙烯酸烷基酯的共聚物。
作为含有羧基的单体的具体例，可以列举，α，β-不饱和羧酸类，例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、马来酸酐、衣康酸、衣康酸酐等。此外，还优选邻苯二甲酸与2-羟基甲基丙烯酸酯的半酯等羧酸。
作为甲基丙烯酸烷基酯、丙烯酸烷基酯的具体例，可以列举，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸庚酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸壬酯、甲基丙烯酸癸酯、甲基丙烯酸十一烷基酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸己酯、丙烯酸庚酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸壬酯、丙烯酸癸酯、丙烯酸十一烷基酯、丙烯酸十二烷基酯等无取代烷基酯，此外还例如甲基丙烯酸环己酯、丙烯酸环己酯等环烷基酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-氯乙酯、N，N-二甲基氨基乙基甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸-2-氯乙酯、N，N-二甲基氨基乙基丙烯酸酯、丙烯酸缩水甘油酯等取代烷基酯。
另外，关于高分子粘结材料，作为共聚单体，可使用下述(1)～(14)所述的单体等。
1)含有羟基的芳香族单体，例如邻(或对、间)羟基苯乙烯、邻(或对、间)羟基苯基丙烯酸酯等。
2)含有羟基的脂肪族单体，例如2-羟基乙基丙烯酸酯、2-羟基乙基甲基丙烯酸酯、N-羟甲基丙烯酰胺、N-羟甲基甲基丙烯酰胺、4-羟基丁基甲基丙烯酸酯、5-羟基戊基丙烯酸酯、5-羟基戊基甲基丙烯酸酯、6-羟基己基丙烯酸酯、6-羟基己基甲基丙烯酸酯、N-(2-羟基乙基)丙烯酰胺、N-(2-羟基乙基)甲基丙烯酰胺、羟基乙基乙烯基醚等。
3)含有氨基磺酰基的单体，例如：间(或对)氨基磺酰基苯基甲基丙烯酸酯、间(或对)氨基磺酰基苯基丙烯酸酯、N-(对氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺、N-(对氨基磺酰基苯基)丙烯酰胺等。
4)含有磺酰胺基的单体，例如：N-(对甲苯磺酰基)丙烯酰胺、N-(对甲苯磺酰基)甲基丙烯酰胺等。
5)丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺类，例如：丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-己基丙烯酰胺、N-环己基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-(4-硝基苯基)丙烯酰胺、N-乙基-N-苯基丙烯酰胺、N-(4-羟基苯基)丙烯酰胺、N-(4-羟基苯基)甲基丙烯酰胺等。
6)含有氟化烷基的单体，例如：丙烯酸三氟乙酯、甲基丙烯酸三氟乙酯、甲基丙烯酸四氟丙酯、甲基丙烯酸六氟丙酯、丙烯酸八氟戊酯、甲基丙烯酸八氟戊酯、甲基丙烯酸十七氟癸酯、N-丁基-N-(2-丙烯酰氧基乙基)十七氟辛基磺酰胺等。
7)乙烯基醚类，例如：乙基乙烯基醚、2-氯乙基乙烯基醚、丙基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、辛基乙烯基醚、苯基乙烯基醚等。
8)乙烯基酯类，例如：乙酸乙烯酯、氯乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等。
9)苯乙烯类，例如：苯乙烯、甲基苯乙烯、氯甲基苯乙烯等。
10)乙烯基酮类，例如：甲基乙烯基酮、乙基乙烯基酮、丙基乙烯基酮、苯基乙烯基酮等。
11)烯烃类，例如：乙烯、丙烯、异丁烯、丁二烯、异戊二烯等。
12)N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基咔唑、4-乙烯基吡啶等。
13)具有氰基的单体，例如：丙烯腈、甲基丙烯腈、2-戊烯腈、2-甲基-3-丁烯腈、丙烯酸2-氰基乙酯、邻(或间、对)氰基苯乙烯等。
14)具有氨基的单体，例如：N，N-二乙基氨基乙基甲基丙烯酸酯、N，N-二甲基氨基乙基丙烯酸酯、N，N-二甲基氨基乙基甲基丙烯酸酯、聚丁二烯氨基甲酸酯丙烯酸酯、N，N-二甲基氨基丙基丙烯酰胺、N，N-二甲基丙烯酰胺、丙烯酰吗啉、N-异丙基丙烯酰胺、N，N-二乙基丙烯酰胺等。
另外，还可使用能与这些单体发生共聚的其它单体进行共聚。
另外，高分子粘结材料优选侧链上具有羧基和聚合性双键的乙烯基类聚合物。例如，作为高分子粘结材料，还优选下述含有不饱和键的乙烯基类共聚物，所述含有不饱和键的乙烯基类共聚物通过在上述乙烯基类共聚物分子内的羧基上，加成分子内具有(甲基)丙烯酰基和环氧基的化合物而得到。
作为分子内同时含有不饱和键和环氧基的化合物，具体可以列举，丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、特开平11-271969号所述的某些含有环氧基的不饱和化合物等。此外，作为高分子粘结材料，还优选通过在上述乙烯基类聚合物分子内的羟基上加成分子内含有(甲基)丙烯酰基和异氰酸酯基的化合物而得到的含有不饱和键的乙烯基类共聚物。作为分子内同时具有不饱和键和异氰酸酯基的化合物，优选乙烯基异氰酸酯、(甲基)丙烯酰基异氰酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰酸酯、间或对异丙烯基-α，α’-二甲基苄基异氰酸酯，可以列举(甲基)丙烯酰基异氰酸酯、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰酸酯。
侧链上具有羧基和聚合性双键的乙烯基类聚合物优选为全部高分子粘结剂的50～100质量％，更优选为100质量％。
光敏层中高分子粘结材料的含量优选为10～90质量％范围，更优选为15～70质量％范围，从灵敏度角度考虑特别优选为20～50质量％范围。
(各种添加剂)
本发明的光敏层中除了上述成分外，还希望添加聚合抑制剂，用于在制作或保存光敏性平板印刷版材料时阻止可聚合的乙烯性双键单体发生不需要的聚合。
作为适当的聚合抑制剂，可以列举，氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基对甲酚、1，2，3-苯三酚、叔丁基儿茶酚、苯醌、4，4’-硫联双(3-甲基-6叔丁基苯酚)、2，2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟基胺的伯铈盐、2-叔丁基-6-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯等。
相对于光敏层全部固体成分质量，优选聚合抑制剂的添加量为约0.01％～约5％。此外，为了防止因氧产生的聚合障碍，必要时还可添加山萮酸、山萮酸酰胺之类的高级脂肪酸衍生物等，或者通过涂布后的干燥过程，使其较多地存在于光敏性层的表面。高级脂肪酸衍生物的添加量优选为全部组合物的约0.5％～约10％。
此外，还可使用着色剂，作为着色剂，可优选使用包括市售产品的以往公知的着色剂。可以列举，修订新版《颜料便览》，日本颜料技术协会编(诚文堂新光社)、颜料索引便览等中所述的着色剂。
作为颜料的种类，可以列举，黑色颜料、黄色颜料、红色颜料、褐色颜料、紫色颜料、蓝色颜料、绿色颜料、荧光颜料、金属粉颜料等。具体可以列举，无机颜料(二氧化钛、炭黑、石墨、氧化锌、普鲁士蓝、硫化镉、氧化铁以及铅、锌、钡和钙的铬酸盐等)以及有机颜料(偶氮类、硫靛类、蒽醌类、蒽酮垛蒽酮类、三苯夹二噁嗪(トリフエンジオキサジン)类颜料、还原染料颜料、酞菁颜料及其衍生物、喹吖啶颜料等)。
其中，优选选择使用在与所用曝光激光对应的分光增感染料的吸收波长范围内实质上无吸收的颜料，此时优选颜料的反射吸收为0.05以下，该反射吸收使用在所用激光波长下的积分球而得到。此外，作为颜料的添加量，优选相对于上述组合物的固体成分为0.1～10质量％，更优选为0.2～5质量％。
从上述光敏波长范围内颜料吸收以及显影后的图像可见性考虑，优选使用紫色颜料、蓝色颜料。该种颜料，可以列举，钴蓝、赛璐里安蓝、碱性蓝色淀、菲那酮蓝(フオナト一ンブル一)6G、维多利亚蓝色淀、无金属酞菁蓝、酞菁蓝坚牢天蓝、靛蒽醌蓝、靛蓝、二噁烷紫(ジオキサンバイオレツト)、异紫蒽酮染料紫(イソビオランスロンバイオレツト)、阴丹酮蓝(インダンスロンブル一)、阴丹酮BC(インダンスロンBC)等。其中更优选酞菁蓝、二噁烷紫。
此外，在不影响本发明性能的范围内，光敏层可含有表面活性剂作为涂布性改善剂。其中优选氟类表面活性剂。
此外，为了改善固化皮膜的物性，还可添加无机填充剂、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二甲酯、磷酸三甲苯酯等增塑剂等添加剂。其添加量优选为全部固体成分的10％以下。
此外，本发明的光敏层可通过将含有光敏层成分的光敏层涂布液涂布于支持体上，干燥而形成。作为制备光敏层涂布液时使用的溶剂，可以列举，醇类：多元醇类衍生物类中的仲丁醇、异丁醇、正己醇、苯甲醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、1，5-戊二醇；或醚类：丙二醇单丁基醚、二丙二醇单甲基醚、三丙二醇单甲基醚；或酮类、醛类：二丙酮醇、环己酮、甲基环己酮；或酯类：乳酸乙酯、乳酸丁酯、草酸二乙酯、苯甲酸甲酯等。
从敏感度、保存性的角度考虑，本发明的光敏层在支持体上的附着量优选0.1g/m2～10g/m2，特别优选0.5g/m2～5g/m2。
(保护层(氧隔断层))
必要时可在本发明光敏层的上侧设置保护层。
该保护层(氧隔断层)优选在后述显影液(通常为碱水溶液)中的溶解性高，具体可以列举，聚乙烯醇以及聚乙烯基吡咯烷酮。聚乙烯醇具有抑制氧透过的效果，此外聚乙烯基吡咯烷酮具有确保与相邻的光敏层的粘结性的效果。
除上述2种聚合物外，必要时还可以并用多糖、聚乙二醇、明胶、动物胶(膠)、酪蛋白、羟乙基纤维素、羧甲基纤维素、甲基纤维素、羟基乙基淀粉、阿拉伯胶、蔗糖八乙酸酯(サクロ一ズオクタアセテ一ト)、褐藻酸铵、褐藻酸钠、聚乙烯基胺、聚氧化乙烯、聚苯乙烯磺酸、聚丙烯酸、水溶性聚酰胺等水溶性聚合物。
本发明的光敏性平板印刷版材料上设有保护层时，优选光敏层和保护层间的剥离力为35mN/mm以上，更优选50mN/mm以上，进一步优选75mN/mm以上。作为优选的保护层组成，可以列举日本专利申请特愿平8-161645号中所述的组成。
上述剥离力可如下测定，在保护层上贴合粘着力足够大且具有一定宽度的粘着带，以相对于光敏性平版印刷版材料平面成90度的角度将该粘着带与保护层一起剥离，测定剥离时的力。
必要时，保护层中还可含有表面活性剂、消光剂等。将上述保护层组合物溶解于适当的溶剂中，涂布于光敏层上，干燥，形成保护层。涂布溶剂的主成分特别优选水或甲醇、乙醇、异丙醇等醇类。
设置保护层时其厚度优选为0.1～5.0μm，特别优选0.5～3.0μm。
(支持体)
本发明的支持体为可担持光敏层的板状体或膜体，优选在设有光敏层的一侧具有亲水性表面。
作为本发明的支持体，可以列举，铝、不锈钢、铬、镍等金属板、或在聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜等塑料膜上层压或蒸镀上述金属薄膜。
此外，可使用对聚酯膜、氯化乙烯膜、尼龙膜等的表面进行亲水化处理而形成的支持体，优选使用铝支持体。
使用铝支持体时，可使用纯铝或铝合金。
作为支持体的铝合金，可使用多种铝合金，例如可使用硅、铜、锰、镁、铬、锌、铅、铋、镍、钛、钠、铁等金属与铝的合金。此外，为了使铝支持体具有保水性，可使用经表面糙面化处理的铝支持体。
使用铝支持体时，优选在进行糙面化(磨砂处理(砂目立て处理))前实施脱脂处理以除去表面的压延油。作为脱脂处理，可使用以下脱脂处理：采用三氯乙烯、稀释剂等溶剂进行的脱脂处理、用煤油、三乙醇等的乳液进行的乳液脱脂处理等。此外，脱脂处理中可使用氢氧化钠等碱水溶液。脱脂处理中使用氢氧化钠等碱水溶液时，可除去仅通过脱脂处理不能除去的污迹、氧化膜。脱脂处理中使用氢氧化钠等碱水溶液时，由于在支持体表面生成污物，此时优选将其浸渍在磷酸、硝酸、硫酸、铬酸等酸或这些酸的混合酸中，进行去污处理。作为表面粗糙化的方法，可以列举，机械方法、通过电解蚀刻的方法。
使用的机械表面粗糙化法也没有特别的限制，优选钢丝刷研磨法、珩磨研磨法。
电化学表面粗糙化法没有特别的限制，优选在酸性电解液中进行电化学表面粗糙化的方法。
用上述电化学表面粗糙化法进行表面粗糙化后，为了除去表面的铝屑等，优选在酸或碱的水溶液中浸渍。作为酸，例如可以使用硫酸、过硫酸、氢氟酸、磷酸、硝酸、盐酸等，作为碱，例如可使用氢氧化钠、氢氧化钾等。其中优选使用碱的水溶液。
作为表面铝的溶解量，优选为0.5～5g/m2。此外，用碱的水溶液进行浸渍处理后，优选浸渍于磷酸、硝酸、硫酸、铬酸等酸或这些酸的混合酸中，进行中和处理。
可分别单独用机械表面粗糙化处理法、电化学表面粗糙化法进行表面粗糙化处理，也可以在机械表面粗糙化处理法后实施电化学表面粗糙化法进行表面粗糙化处理。
表面粗糙化处理后，可进行阳极氧化处理。可用于本发明的阳极氧化处理方法没有特别的限制，可使用公知的方法。通过进行阳极氧化处理在支持体上形成氧化皮膜。
阳极氧化处理后的支持体必要时可进行封孔处理。这些封孔处理可用热水处理、沸水处理、水蒸气处理、硅酸钠处理、重铬酸盐水溶液处理、亚硝酸盐处理、乙酸铵处理等公知的方法进行。
另外，进行这些处理后，优选底涂水溶性树脂，例如：聚乙烯基膦酸、侧链上具有磺酸基的聚合物以及共聚物、聚丙烯酸、水溶性金属盐(例如：硼酸锌)或黄色染料、胺盐等。更优选使用特开平5-304358号公报公开的共价结合有可引发自由基加成反应的官能团的溶胶-凝胶处理基板。
(涂布)
用以往公知的方法将上述光敏层涂布液涂布于支持体上，干燥，可以制作光敏性平版印刷版材料。
作为涂布液的涂布方法，可以列举，气刀涂布法、刮板涂布法、金属棒法、刮刀涂布法、浸涂法、逆辊涂布法、凹版涂布法、流延涂布法、帘流涂布法以及挤出涂布法等。
光敏层的干燥温度优选在60～160℃范围内进行干燥，更优选80～140℃，特别优选90～120℃的范围。
(图像曝光)
作为对本发明的光敏性平版印刷版材料进行图像记录的光源，使用发光波长为350～450nm的激光，优选使用发光波长为370～440nm的激光。
作为用于曝光本发明的光敏性平版印刷版的光源，可以列举，例如，He-Cd激光(441nm)、作为固体激光的Cr:LiSAF和SHG结晶的组合(430nm)、作为半导体激光类的KNbO3、环形谐振器(430nm)、AlGaInN(350nm～450nm)、AlGaInN半导体激光(市售InGaN类半导体激光400～410nm)等。
激光曝光时，可使光汇聚成光束状，根据图像数据进行扫描曝光，因此可以不使用掩蔽材料而直接进行写入。
此外，使用激光作为光源时，易于将曝光面集中在较小面积，可形成分辨率高的图像。
作为激光的扫描方法，包括圆筒外壁扫描、圆筒内壁扫描、平面扫描等。圆筒外壁扫描是使外壁卷有记录材料的鼓旋转，同时进行激光曝光，以鼓的旋转为主扫描，以激光的移动为副扫描。圆筒内壁扫描是在鼓的内壁上固定记录材料，由内侧照射激光束，使光学系统的一部分或全部旋转，由此在圆周方向上进行主扫描，另外，使光学系统的一部分或全部沿与鼓轴平行的方向直线移动以进行轴方向的副扫描。平面扫描是将多面反射镜、检流计镜(ガルバノミラ)和fθ透镜组合进行激光的主扫描，通过记录介质的移动进行副扫描。圆筒外壁扫描以及圆筒内壁扫描易于提高光学系统的精度，适于高密度记录。
此外，本发明优选以10mJ/cm2以上的版面能量(版材上的能量)进行图像曝光，其上限为500mJ/cm2。更优选10～300mJ/cm2。该能量测定可用例如OphirOptronics公司制造的Laser Power Meter PDGDO-3W进行测定。
(显影液)
经图像曝光的光敏层的曝光部位发生固化。优选通过用碱性显影液对其进行显影处理，从而除去未曝光部分，形成图像。
作为该显影液，可使用以往已知的碱性水溶液。可以列举使用无机碱剂的碱性显影液，所述无机碱剂例如：硅酸钠、硅酸钾、硅酸铵；磷酸氢钠、磷酸氢钾、磷酸氢铵；碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵；碳酸钠、碳酸钾、碳酸铵；碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵；硼酸钠、硼酸钾、硼酸铵；氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铵以及氢氧化锂等。
此外，还可使用单甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、单乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、单异丙基胺、二异丙基胺、三异丙基胺、丁基胺、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、二异丙醇胺、乙抱亚胺、乙二胺、吡啶等有机碱剂。
这些碱剂可单独使用也可将2种以上组合使用。此外，必要时该显影液中还可添加阴离子性表面活性剂、两性活性剂或者醇等有机溶剂。
碱性显影液可由颗粒状、片剂等显影液浓缩物制备而成。
显影液浓缩物，可以暂时制成显影液后再蒸发干固，优选通过混合多种材料时不加水，或加入少量水的方法使材料混合，从而制成浓缩状态的方法。此外，该显影液浓缩物可以用特开昭51-61837号、特开平2-109042号、特开平2-109043号、特开平3-39735号、特开平5-142786号、特开平6-266062号、特开平7-13341号等所述的以往公知的方法制成颗粒状、片剂。此外，也可按照材料种类、材料配比等的不同，将显影液浓缩物分为多个部分。
碱性显影液以及其补充液必要时还可进一步含有防腐剂、着色剂、增粘剂、消泡剂以及硬水软化剂等。
(自动显影机)
使用自动显影机对光敏性平版印刷版材料的显影是非常有利的。作为自动显影机，优选具有自动向显影浴中补充必要量显影补充液的机构，优选具有将超过一定量的显影液排出的机构，优选具有自动向显影液中补充必要量水的机构，优选具有检测印刷板通过的机构，优选具有在检测印刷版通过的同时估算版面的处理面积的机构，优选具有在检测印刷版通过和/或估算处理面积的同时控制需要补充的补充液和/或水的补充量和/或补充时间的机构，优选具有控制显影液温度的机构，优选具有检知显影液pH和/或导电度的机构，优选具有在检测显影液pH和/或导电度的同时控制需要补充的补充液和/或水的补充量和/或补充时间的机构。此外，还优选具有将显影液浓缩物用水稀释、搅拌的功能。显影步骤后有水洗步骤时，可将使用后的水洗水作为显影浓缩物浓缩液的稀释水使用。
自动显影机可以具有在显影步骤前将版浸渍于前处理液中的前处理部。该前处理部优选具有将前处理液喷雾于版面上的机构，优选具有将前处理液温度控制在25～55℃间任意温度的机构，优选具有采用辊状刷子对版面进行刷扫的机构。作为该前处理液，可使用水等。
(后处理)
对用碱性显影液显影处理后的平版印刷版材料用下述淋洗液、整理剂(フイニツシヤ一)、保护胶液(保護ガム液)进行后处理，所述淋洗液含有水洗水、表面活性剂等，所述整理剂以阿拉伯胶、淀粉衍生物等为主成分。可将这些处理进行多种组合来使用，例如经显影→水洗→含有表面活性剂的淋洗液处理、显影→水洗→整理剂液的处理，其中优选淋洗液、整理液，因其疲劳少。更优选的方式为采用淋洗液、整理液的对流多步处理。
这些后处理通常用包括显影部和后处理部的自动显影机进行。后处理液可以采用由喷嘴吹送的方法来输送，也可以采用在装满处理液的处理槽中浸渍的方法来输送。此外，已知的方法还有显影后向版面供给一定量的少量水洗水，再进行水洗，其废液作为显影液原液的稀释水再利用的方法。这种自动处理可根据各处理量、运转时间等向各处理液中分别补充补充液来进行处理。此外，也可以使用如下所谓的一次性处理方式，即实质上使用未使用过的后处理液进行处理。通过这样的处理所得的平版印刷版可用于胶版印刷机，也可用于多张印刷。
实施例
以下，列举实施例对本发明进行详细说明，但本发明的实施方式并不限于此。此外，实施例中的“份”如无特别说明表示“质量份”。
(支持体的制作)
将厚0.3mm的铝板(材质1050，调质H16)浸渍于保持在65℃的5％氢氧化钠水溶液中，进行1分钟脱脂处理，然后水洗。将该脱脂铝板在25℃的10％盐酸水溶液中浸渍1分钟进行中和，然后水洗。
然后，在0.3质量％的硝酸水溶液中，在25℃，电流密度为100A/dm2的条件下以交流电流对该铝板进行60秒电解表面粗糙化，随后在保持于60℃的5％氢氧化钠水溶液中进行10秒钟的去污处理。
在15％硫酸溶液中，于25℃，电流密度为10A/dm2，电压为15V的条件下对进行了去污处理的表面粗糙化铝板进行1分钟阳极氧化处理，进一步用1％的聚乙烯基膦酸在75℃下进行亲水化处理，制作支持体。
此时，表面的中心线平均粗度(Ra)为0.65μm。
(平版印刷版试料的制作)
用金属棒涂布器在上述支持体上涂布下述组成的光敏层涂布液1，使干燥时支持体上的涂布液1为1.5g/m2，在95℃干燥1.5分钟，随后用金属棒涂布法涂布氧隔断层涂布液1，使干燥时氧隔断层涂布液1为1.5g/m2，在75℃干燥1.5分钟，得到本申请的平版印刷版材料1～8、比较平版印刷版材料10～12。
(光敏层涂布液1)
N-正丁基二乙醇胺(1摩尔)、1，3-二(1-异氰酸酯-1-甲基乙基)苯(2摩尔)、甲基丙烯酸2-羟基乙酯(2摩尔)反应产物的50质量％PMA(丙二醇甲基醚乙酸酯)溶液                                                    84.0份
三乙二醇二甲基丙烯酸酯                                   6.0份
甲基丙烯酸和甲基丙烯酸甲酯的质量比为25∶75的共聚物(分子量36000)
                                                         35.0份
表1所述的增感染料                                        4.0份
2，2’-双(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑        3.0份
2-巯基苯并噻唑                                           0.3份
N-苯基甘氨酸苄酯                                         4.0份
酞菁颜料(MHI#454：御国色素公司制)                        3.5份
2-叔丁基-6-(3-叔丁基-2-羟基-5-甲基苄基)-4-甲基苯基丙烯酸酯
(Sumilizer(スミライザ一)GS：住友3M公司制)
                                                0.2份
2，4，6-三(二甲基氨基甲基)苯酚                  1.0份
双(2，2，6，6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯          0.1份
氟类表面活性剂(F-178K；大日本油墨公司制)        0.5份
硅氧烷类表面活性剂(BYK337；BYK Chemie公司制)    0.9份
甲基乙基酮                                      80份
丙二醇甲基醚                                    820份
(氧隔断层涂布液1)
聚乙烯醇(萨尔博尔(セルボ一ル)103：Celanese公司制)
                                                5.0份
乙烯基吡咯烷酮/乙酸乙烯酯共聚物(Luvitec VA64W：BASF制)
                                                15.0份
Safinol 465(Air Products公司制)                 0.2份
水                                              900份
进一步，将上述感光层涂布液1的2，2’-双(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联二咪唑换为(η6-枯烯)(η5-环戊二烯基)合铁(II)六氟磷酸盐，其余均按照与上述平版印刷版材料试料5同样的方法制作平版印刷版材料试料9。
(平版印刷版材料的评价)
(灵敏度)
用具有405nm，60mW光源的Plate setter(NewsCTP：ECRM公司制造)以2400dpi(dpi表示每2.54cm的点数)对平版印刷版材料进行曝光。
曝光图案使用如下原稿图像数据：其具有100％图像部，Times NewRohman字体、字号为3点～10点、大写字母和小写字母的活字(抜き文字)。
然后，用CTP自动显影机(RaptorPolymer：Glunz&Jensen公司制)进行显影处理，得到平版印刷版，所述CTP自动显影机设有下述机构：设定为105℃的预热部、用于除去氧隔断层的预水洗部、充填有下述组成的显影液且温度调节为30℃的显影部、除去附着于版面的显影液的水洗部、用于保护着墨部份的胶液(GW-3的2倍稀释液：三菱化学公司制)处理部。
(显影液组成(含有下述添加剂的水溶液)
A硅酸钾(含有25.5～27.5质量％的SiO2、12.5～14.5质量％的K2O)
                                             8.0份
Nuchal B-13SN：日本乳化剂(株)制            3.0份
水                                         89.0份
氢氧化钾                                   使pH＝12.3的添加量
以平版印刷版的版面上记录的100％图像部中观察不到膜降低的最低量曝光能量作为记录能量，以此为灵敏度指标。记录能量越低表示灵敏度越高。
(保存性、保存时的灵敏度变化)
将平版印刷版材料在55℃的恒温槽保存3天后，按照与上述同样的方法测定灵敏度，算出该灵敏度与保存前灵敏度的百分比，作为保存性的指标。
越接近于100％变化越少，表示保存性良好。
结果如表1所示。
  试料No.   增感染料   灵敏度   保存时的灵敏度   备注
  1   D-01   20μJ/cm2   120％   本发明
  2   D-02   20μJ/cm2   120％   本发明
  3   D-04   30μJ/cm2   150％   本发明
  4   D-06   15μJ/cm2   110％   本发明
  5   D-08   20μJ/cm2   120％   本发明
  6   D-10   20μJ/cm2   100％   本发明
  7   D-18   20μJ/cm2   125％   本发明
  8   D-20   20μJ/cm2   115％   本发明
  9   D-8   25μJ/cm2   125％   本发明
  10   DR-01   80μJ/cm2   无图像   比较例
  11   DR-02   65μJ/cm2   无图像   比较例
  12   DR-03   50μJ/cm2   200％   比较例
[化学式18]
Figure A20078002708300351
由表1可发现本发明的光敏性平版印刷版材料灵敏度高，而且保存性良好。

Claims (10)

1.一种光敏性平版印刷版材料，其包括支持体和位于支持体上的光敏层，所述光敏层含有(A)聚合引发剂、(B)可聚合的含有乙烯性双键的化合物、(C)增感染料以及(D)高分子粘结材料，其中，该光敏层含有作为(C)增感染料的下述通式(1)所示增感染料，
通式(1)
式中，R1、R2分别独立地表示氢原子、烷基、烷氧基，R3、R4分别独立地表示氢原子、烷氧基，但R1～R4不同时为氢原子，R5表示烷基、芳烷基。
2.权利要求1所述的光敏性平版印刷版材料，其中，在上述通式(1)中，R1和R2中的至少一个为烷基，R3和R4为氢原子。
3.权利要求1所述的光敏性平版印刷版材料，其中，在上述通式(1)中，R1、R2、R3以及R4分别表示氢原子或烷氧基，R1、R2、R3以及R4中的至少一个为烷氧基。
4.权利要求1～3中任一项所述的光敏性平版印刷版材料，其中，上述(A)聚合引发剂为六芳基联二咪唑化合物。
5.权利要求1～4中任一项所述的光敏性平版印刷版材料，其中，上述(B)可聚合的含有乙烯性双键的化合物为(C1)、(C2)和(C3)的反应产物，所述(C1)为分子内至少含有1个乙烯性双键和1个羟基的化合物，所述(C2)为二异氰酸酯化合物，所述(C3)为分子内具有叔胺结构的二醇化合物或分子内分别具有一个仲胺结构和一个羟基的化合物。
6.权利要求5所述的光敏性平版印刷版材料，其中，上述(C3)为分子内具有叔胺结构的二醇化合物。
7.权利要求6所述的光敏性平版印刷版材料，其中，上述反应产物为下述通式(2)所示的二(甲基)丙烯酸酯，
通式(2)
式中，R表示氢原子或甲基，X1表示二价的脂肪族基团，X2表示具有芳香环的二价烃基，X3表示具有叔胺结构的二价连接基团。
8.权利要求7所述的光敏性平版印刷版材料，其中，在上述通式(2)中，X1表示-CH2CH2-、-CH2CH(CH3)-或-CH(CH3)CH2-，X2表示下述X2-1～X2-10中的任一基团：
X3表示下述X3-1～X3-10中的任一基团：
Figure A2007800270830004C1
上述星号*表示结合位点。
9.权利要求1～8中任一项所述的光敏性平版印刷版材料，其中，相对于上述光敏层中的全部固体成分，上述增感染料在光敏层中的含量为0.5～8质量％。
10.权利要求9所述的光敏性平版印刷版材料，其中，相对于光敏层中的全部固体成分，光敏层中上述可聚合的含有乙烯性双键的化合物的含量为30～80质量％；相对于光敏层中的全部固体成分，上述高分子粘结材料的含量为15～70质量％；相对于光敏层中的全部固体成分，上述聚合引发剂的含量为0.05～20质量％。
CNA2007800270831A 2006-07-20 2007-06-29 光敏性平版印刷版材料 Pending CN101495918A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006197837 2006-07-20
JP197837/2006 2006-07-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101495918A true CN101495918A (zh) 2009-07-29

Family

ID=38956735

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2007800270831A Pending CN101495918A (zh) 2006-07-20 2007-06-29 光敏性平版印刷版材料

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20080020323A1 (zh)
JP (1) JPWO2008010400A1 (zh)
CN (1) CN101495918A (zh)
WO (1) WO2008010400A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103064254A (zh) * 2011-10-20 2013-04-24 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图形的形成方法以及印刷电路板的制造方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2007129576A1 (ja) * 2006-05-09 2009-09-17 コニカミノルタエムジー株式会社 感光性平版印刷版材料
WO2009087862A1 (ja) * 2008-01-10 2009-07-16 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 平版印刷版の作製方法
CN108912211A (zh) * 2012-02-15 2018-11-30 爱勒让治疗公司 三唑交联的和硫醚交联的拟肽大环化合物

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4131529A (en) * 1976-06-05 1978-12-26 Basf Aktiengesellschaft Photoinitiators for photopolymerizable coating compositions
JPS60159742A (ja) * 1984-01-30 1985-08-21 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US7074546B2 (en) * 2002-06-24 2006-07-11 Konica Corporation Light sensitive planographic printing plate precursor and its processing method
JP2005070767A (ja) * 2003-08-04 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写シート
JP4096857B2 (ja) * 2003-09-30 2008-06-04 三菱化学株式会社 青紫色レーザー感光性画像形成材料、青紫色レーザー感光性画像形成材及び画像形成方法
JP2005115210A (ja) * 2003-10-10 2005-04-28 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 感光性平版印刷版の製版方法及び現像液
KR100599810B1 (ko) * 2004-11-30 2006-07-12 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이의 제조방법 및 이를 포함하는드라이 필름 레지스트

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103064254A (zh) * 2011-10-20 2013-04-24 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图形的形成方法以及印刷电路板的制造方法
CN103064254B (zh) * 2011-10-20 2017-11-17 日立化成株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图形的形成方法以及印刷电路板的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2008010400A1 (fr) 2008-01-24
US20080020323A1 (en) 2008-01-24
JPWO2008010400A1 (ja) 2009-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1882879B (zh) 可光聚合的组合物
CN104985914B (zh) 包含两层感光层的可水显影的光聚合型平版印刷版材料及其应用
JP2007310057A (ja) 感光性組成物、感光性平版印刷版材料、及びそれらの製造方法
JP3969109B2 (ja) 感光性平版印刷版及びその記録方法
CN101438209A (zh) 光敏性平版印刷板材料
CN101495918A (zh) 光敏性平版印刷版材料
JP2007025220A (ja) 感光性平版印刷版
JP2007233127A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP2009229499A (ja) 感光性平版印刷版材料および平版印刷版材料の製版方法
JP2008076948A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP4174993B2 (ja) 感光性平版印刷版材料及び感光性平版印刷版材料の製造方法
JP2008129132A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP4106986B2 (ja) 感光性平版印刷版材料及び感光性平版印刷版材料の製造方法
JPWO2007102322A1 (ja) 感光性平版印刷版材料
JP4085644B2 (ja) 感光性平版印刷版の作製方法
US20080038667A1 (en) Light sensitive planographic printing plate material
JP2008256769A (ja) 感光性平版印刷版材料および平版印刷版の製版方法
JP2008009116A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP4032167B2 (ja) 感光性平版印刷版材料用支持体及び感光性平版印刷版材料並びにその製造方法
JP2009086493A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP2009047796A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP2008175873A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP2009063870A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP2009075205A (ja) 感光性平版印刷版材料
JP4168636B2 (ja) 感光性平版印刷版材料及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20090729