CN101359117A - 液晶显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种液晶显示面板及其制造方法，液晶显示面板包括对盒的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积有偏光膜。所述偏光膜至少包括依次设置的支持层、偏光层、防眩层和保护层。制造方法包括：将彩膜基板和阵列基板对盒形成面板；在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜。本发明在彩膜基板和阵列基板的表面分别沉积具有偏光性能的物质，将偏光膜和液晶显示面板一体化，减少偏光膜工艺和贴附偏光膜工艺引起的不良，一方面可以提高液晶显示面板的显示质量和良品率，另一方面可以降低液晶显示面板的生产成本。

Description

液晶显示面板及其制造方法

技术领域

本发明涉及一种液晶显示器及其制造方法，特别是一种将偏光膜和液晶显示面板一体化的液晶显示面板及其制造方法。

背景技术

近年来，液晶显示器(liquid crystal display，简称LCD)产品发展十分迅猛，越来越多高品质的液晶显示器逐渐上市，其应用领域也不断拓宽，但同时也出现了不少问题，其中偏光膜(偏光膜arizing Film，简称POL)的贴附带来的一系列问题是造成液晶显示面板光透过率和良品率不高的重要因素之一。

现有技术中，液晶显示面板和偏光膜制作通常是分开进行的，偏光膜由偏光膜生产厂家直接提供，液晶显示面板在完成分割和对盒工艺后，直接在后续工艺中完成偏光膜贴附，即将制造好的偏光膜(上偏光膜和下偏光膜)贴附在液晶显示面板表面。实际生产中，现有技术这种工艺对液晶显示面板的显示效果存在多种不利影响，造成良品率不高，同时使生产成本上升，具体体现在：

(1)由于偏光膜制作和贴附过程中都存在拉伸工序，因而在贴附到面板上后偏光膜存在着收缩现象，使贴附偏光膜后的面板可能存在弯曲现象；

(2)在贴附偏光膜过程中存在着对位情况，如果对位情况不好则会影响显示效果；

(3)出于设计考虑，贴附的偏光膜增加了一些接触层，这些接触层影响光透过率，进而影响显示效果；

(4)偏光膜外层附着一层黏着剂，该黏着剂在温度较高和使用时间较长情况下会存在老化等现象；

(5)在贴附偏光膜时，如果偏光膜没有伸展开就会存在气泡现象，在后续剥离偏光膜外侧的保护膜时则会带来不必要的异物，对液晶显示面板的良品率有较大影响；贴附偏光膜精度不够时，会影响显示效果；

(6)目前，偏光膜通常是采用9层形式，分别为异型膜(Release film)、粘着层(PSA)、光补偿层(WV DLC)、支持层(TAC Film)、偏光层(PVA Film)、支持层(TAC Film)、防眩层(AG Layer)、低反射层(LR/AR Layer)和保护膜(Protective Film)；偏光膜的制作工艺通常采用预固化(Pre-cure)、延伸&拓展(Laminating)、沉积(Coating)、切割(Cutting)、检查和包装等工艺，由于层数多、工艺复杂而难以有效控制，导致良品率不高，同时使生产成本上升。另外，由于沉积膜的层数较多，对液晶显示面板的光透过率有重大不利影响。

发明内容

本发明的目的是提供一种液晶显示面板及其制造方法，通过偏光膜和液晶显示面板一体化设置，有效解决现有技术由于偏光膜生产工艺和贴附工艺不良导致的影响显示效果、良品率不高和生产成本上升等技术缺陷。

本发明第一方面提供了一种液晶显示面板，包括对盒的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积有偏光膜。

所述偏光膜至少包括依次沉积的支持层、偏光层、防眩层和保护层。

其中，所述支持层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～8000nm的三乙酰基纤维素。所述偏光层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～50000nm的含光敏取代基聚乙烯醇，并经紫光照射或紫外光照射取向处理。所述防眩层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～8000nm的无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，所述无水硅酸的微粒子半径为0.5μm～2.5μm。

在上述液晶显示面板技术方案基础上，所述偏光膜的厚度为100～80000nm。

本发明第二方面提供了一种液晶显示面板的制造方法，包括步骤：

将彩膜基板和阵列基板对盒形成面板；

在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜。

其中，在所述彩膜基板和阵列基板上分别沉积偏光膜具体为：在彩膜基板或阵列基板表面上沉积偏光膜，面板翻转或倾转180度，在阵列基板或彩膜基板表面上沉积偏光膜。

其中，在彩膜基板或阵列基板表面上沉积偏光膜具体为：

在基板表面沉积一层支持层；

在所述支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

在所述偏光层上沉积一层防眩层；

在所述防眩层上沉积一层保护层。

其中，在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜具体为：

在彩膜基板表面沉积一层支持层，面板翻转或倾转180度，在阵列基板表面沉积一层支持层；

面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的偏光层上沉积一层防眩层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的低反射层上沉积一层防眩层；

面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的防眩层上沉积一层保护层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的防眩层上沉积一层保护层。

本发明提出了一种新型的液晶显示面板及其制造方法，在彩膜基板和阵列基板的表面分别沉积具有偏光性能的物质，将偏光膜和液晶显示面板一体化，减少偏光膜工艺和贴附偏光膜工艺引起的不良。因不需要粘结剂和延伸等工艺，可减少粘合剂的老化问题，偏振片的收缩现象以及其他原因造成的不良现象的发生。本发明技术方案中，阵列基板和阵列基板上偏光膜的制作都直接采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)或者其他工艺制备，不需要进传统偏光膜制作的拉伸和粘合工艺，这样可以减少偏光膜的收缩和老化现象，另外也不需要黏着剂，这样会贴附的弯曲问题和其他相关问题发生。另外偏光膜制作是通过先沉积偏光层，然后通过光致取向获得所需要的偏光性能，这样可以更精确的控制偏光膜对光的偏振现象。在制作偏光膜中节省了很多不必要的透过层，可以增强光的透过率，对液晶显示面板的光强和相应的对比度等光学性能都有不同程度的提高。偏光膜和液晶显示面板一体化一方面可以提高液晶显示面板的显示质量和良品率，另一方面可以降低液晶显示面板的生产成本。

下面通过附图和实施例，对本发明的技术方案做进一步的详细描述。

附图说明

图1为本发明液晶显示面板一实施例的结构示意图；

图2a为彩膜基板上形成彩膜支持层的示意图；

图2b为彩膜基板上形成彩膜偏光层的示意图；

图2c为彩膜基板上形成彩膜防眩层的示意图；

图2d为彩膜基板上形成彩膜保护层的示意图；

图3a为阵列基板上形成阵列支持层的示意图；

图3b为阵列基板上形成阵列偏光层的示意图；

图3c为阵列基板上形成阵列防眩层的示意图；

图3d为阵列基板上形成阵列保护层的示意图；

图4为本发明液晶显示面板另一实施例的结构示意图；

图5为本发明液晶显示面板的制造方法的流程图；

图6为本发明在彩膜基板表面上沉积偏光膜的流程图；

图7为本发明在阵列基板表面上沉积偏光膜的流程图；

图8为本发明同时在彩膜基板和阵列基板表面沉积偏光膜的流程图。

附图标记说明：

1-彩膜基板；         2-阵列基板；       10-彩膜偏光膜；

20-阵列偏光膜；      11-彩膜支持层；    12-彩膜偏光层；

13-彩膜低反射层；    14-彩膜防眩层；    15-彩膜保护层；

21-阵列支持层；      22-阵列偏光层；    23-阵列低反射层；

24-阵列防眩层；      25-阵列保护层。

具体实施方式

图1为本发明液晶显示面板一实施例的结构示意图。液晶显示面板的主体结构包括对盒在一起形成面板的彩膜基板1和阵列基板2，彩膜基板1表面上设置有通过化学沉积或物理沉积的彩膜偏光膜10，阵列基板2表面上设置有通过化学沉积或物理沉积的阵列偏光膜20，使彩膜基板1及其彩膜偏光膜10和阵列基板2及其阵列偏光膜20成为偏光膜和面板一体化的本发明液晶显示面板。

如图1所示，彩膜偏光膜10至少包括依次沉积的彩膜支持层11、彩膜偏光层12、彩膜防眩层14和彩膜保护层15；彩膜支持层11为通过化学沉积或物理沉积的三乙酰基纤维素或是具有类似性能的化学物质，其厚度为100～8000nm；彩膜偏光层12为通过化学沉积或物理沉积的含光敏取代基聚乙烯醇或是具有光致取向的类似物质，并经紫光照射或紫外光照射取向处理，其厚度为100～50000nm；彩膜防眩层14为通过化学沉积或物理沉积的无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，其中无水硅酸的微粒子半径为0.5μm～2.5μm，彩膜防眩层14的厚度为100～8000nm；彩膜保护层15的厚度为100～8000nm；上述各层依次沉积，使彩膜偏光膜10的厚度为100～80000nm，满足液晶显示面板的工作需要。

如图1所示，阵列偏光膜20至少包括依次沉积的阵列支持层21、阵列偏光层22、阵列防眩层24和阵列保护层25；阵列支持层21为通过化学沉积或物理沉积的三乙酰基纤维素或是具有类似性能的化学物质；阵列偏光层22为通过化学沉积或物理沉积的含光敏取代基聚乙烯醇或是具有光致取向的类似物质，并经紫光照射或紫外光照射取向处理，其厚度为100～50000nm；阵列防眩层24为通过化学沉积或物理沉积的无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，其中无水硅酸的微粒子半径为0.5μm～2.5μm，阵列防眩层24的厚度为100～8000nm；阵列保护层25的厚度为100～8000nm；上述各层依次沉积，使阵列偏光膜20的厚度为100～80000nm，满足液晶显示面板的工作需要。

本发明液晶显示面板针对现有技术由于偏光膜生产工艺和贴附工艺不良导致的影响显示效果、良品率不高和生产成本上升等技术缺陷，提出了一种偏光膜和面板一体化的新型液晶显示面板，即在彩膜基板和阵列基板的表面分别沉积具有偏光性能的物质，将偏光膜和面板一体化，减少偏光膜工艺和贴附偏光膜工艺引起的不良。因不需要粘结剂和延伸等工艺，可减少粘合剂的老化问题，偏振片的收缩现象以及其他原因造成的不良现象的发生。一方面可以提高液晶显示面板的显示质量和良品率，另一方面可以降低液晶显示面板的生产成本。

下面通过本发明液晶显示面板的制造过程进一步说明上述技术方案。

图2a～图2d为本发明彩膜基板上形成彩膜偏光膜的制造示意图。

图2a为彩膜基板上形成彩膜支持层的示意图，首先在彩膜基板1表面沉积一层彩膜支持层11，彩膜支持层11的化学成分为三乙酰基纤维素或者是具有类似性能的化学物质，制作过程可以通过化学沉积或物理沉积等工艺完成，工艺控制条件根据实际要求确定，彩膜支持层11的厚度为100～8000nm。彩膜支持层的作用一方面是使偏光层不与彩膜基板表面直接接触，另一方面可以保证沉积偏光层之前的平面平整且支撑偏光层。

图2b为彩膜基板上形成彩膜偏光层的示意图，在已经沉积的彩膜支持层11上沉积一层彩膜偏光层12，彩膜偏光层12的物质是有含光敏取代基聚乙烯醇或者是具有光致取向的类似物质，彩膜偏光层12的制作可以通过化学沉积或者物理沉积等工艺完成，工艺控制条件根据实际要求确定；之后通过紫光照射或者紫外光照射取向处理，具体照射光的波长根据实际需要选取，其照射条件根据偏光膜的实际需要确定，彩膜偏光层12的厚度为100～50000nm。彩膜偏光层是整个彩膜偏光膜的核心部分，其作用是使透过偏光层的光得到光调制，以获得沿着某固定方向的平行光源，控制光的取向。

图2c为彩膜基板上形成彩膜防眩层的示意图，在已经形成的彩膜偏光层12上沉积一层彩膜防眩层14，彩膜防眩层14的化学物质是无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，其中无水硅酸物质的微粒子半径为0.5μm～2.5μm，彩膜防眩层14的制作可以通过化学沉积或者物理沉积等工艺完成，工艺条件控制根据实际要求确定，彩膜防眩层14的厚度为100～8000nm。彩膜防眩层的作用是使光透过后，不会因为界面中光的反射和折射产生微粒间光的衍射和干涉现象，以避免不必要的着色。

图2d为彩膜基板上形成彩膜保护层的示意图，在已经沉积的彩膜防眩层14上沉积一层彩膜保护层15，彩膜保护层15的厚度为100～8000nm。彩膜保护层一方面可以保证上述各层不与外界接触，防止发生不必要的反应，另一方面可以防止物理因素或机械原因造成的偏光膜损害。

图2a～图2d所示流程中，每个工艺完成后均需进行现有技术普遍采用的清洗、固化、热处理等处理工艺，从而形成了本发明彩膜偏光膜。

图3a～图3d为本发明阵列基板上形成阵列偏光膜的制造示意图。

图3a为阵列基板上形成阵列支持层的示意图，首先在阵列基板2表面沉积一层阵列支持层21，阵列支持层21的化学成分为三乙酰基纤维素或者是具有类似性能的化学物质，制作过程可以通过化学沉积或物理沉积等工艺完成，工艺控制条件根据实际要求确定，阵列支持层21的厚度为100～8000nm。阵列支持层21的作用一方面是使偏光层不与阵列基板表面直接接触，另一方面可以保证沉积偏光层之前的平面平整且支撑偏光层。

图3b为阵列基板上形成阵列偏光层的示意图，在已经沉积的阵列支持层21上沉积一层阵列偏光层22，阵列偏光层22的物质是有含光敏取代基聚乙烯醇或者是具有光致取向的类似物质，阵列偏光层22的制作可以通过化学沉积或者物理沉积等工艺完成，工艺控制条件根据实际要求确定；之后通过紫光照射或者紫外光照射取向处理，具体照射光的波长根据实际需要选取，其照射条件根据偏光膜的实际需要确定，阵列偏光层22的厚度为100～50000nm。阵列偏光层是整个阵列偏光膜的核心部分，其作用是使透过偏光层的光得到光调制，以获得沿着某固定方向的平行光源，控制光的取向。

图3c为阵列基板上形成阵列防眩层的示意图，在已经形成的阵列偏光层22上沉积一层阵列防眩层24，阵列防眩层24的化学物质是无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，其中无水硅酸物质的微粒子半径为0.5μm～2.5μm，阵列防眩层24的制作可以通过化学沉积或者物理沉积等工艺完成，工艺条件控制根据实际要求确定，阵列防眩层24的厚度为100～8000nm。阵列防眩层的作用是使光透过后，不会因为界面中光的反射和折射产生微粒间光的衍射和干涉现象，以避免不必要的着色。

图3d为阵列基板上形成阵列保护层的示意图，在已经沉积的阵列防眩层24上沉积一层阵列保护层25，阵列保护层25的厚度为100～8000nm。阵列保护层一方面可以保证上述各层不与外界接触，防止发生不必要的反应，另一方面可以防止物理因素或机械原因造成的偏光膜损害。

图3a～图3d所示流程中，每个工艺完成后均需进行现有技术普遍采用的清洗、固化、热处理等处理工艺，从而形成了本发明阵列偏光膜。

从上述过程可以看出，阵列基板和阵列基板上偏光膜的制作是先沉积偏光层，然后通过光致取向获得所需要的偏光性能，这样可以更精确的控制偏光膜对光的偏振现象。同时结构中只有四层，节省了很多不必要的透过层，可以增强光的透过率，对液晶显示面板的光强和相应的对比度等光学性能都有不同程度的提高。

图4为本发明液晶显示面板另一实施例的结构示意图，与图1所示实施例不同的是，本实施例在彩膜偏光层12和彩膜防眩层14之间还设置了彩膜低反射层13，在阵列偏光层22和阵列防眩层24之间还设置了阵列低反射层23，其厚度为100～8000nm。本实施例设置低反射层可以减低界面对光的反射作用，以提高光的透过率。

图5为本发明液晶显示面板的制造方法的流程图，具体为：

步骤1、将彩膜基板和阵列基板对盒形成面板；

步骤2、在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜。

针对现有技术由于偏光膜生产工艺和贴附工艺不良导致的影响显示效果、良品率不高和生产成本上升等技术缺陷，本发明提出了一种偏光膜和面板一体化的液晶显示面板的制造方法，在彩膜基板和阵列基板的表面分别沉积具有偏光性能的物质，将偏光膜和面板一体化，减少偏光膜工艺和贴附偏光膜工艺引起的不良。因不需要粘结剂和延伸等工艺，可减少粘合剂的老化问题，偏振片的收缩现象以及其他原因造成的不良现象的发生。一方面可以提高液晶显示面板的显示质量和良品率，另一方面可以降低液晶显示面板的生产成本。

具体地，在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜可以是先处理彩膜基板，也可以是先处理阵列基板，还可以是同时处理彩膜基板和阵列基板。其中先处理彩膜基板的流程为：在彩膜基板表面上沉积偏光膜；面板翻转或倾转180度；在阵列基板表面上沉积偏光膜。先处理阵列基板的流程为：在阵列基板表面上沉积偏光膜；面板翻转或倾转180度；在彩膜基板表面上沉积偏光膜。

图6为本发明在彩膜基板表面上沉积偏光膜的流程图，具体为：

步骤211、在彩膜基板表面沉积一层支持层；

步骤212、在所述支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

步骤213、在所述偏光层上沉积一层防眩层；

步骤214、在所述防眩层上沉积一层保护层。

步骤211中，支持层的化学成分为三乙酰基纤维素或者是具有类似性能的化学物质，制作过程可以通过化学沉积或物理沉积等工艺完成，工艺控制条件根据实际要求确定，沉积的厚度为100～8000nm。支持层的作用一方面是使偏光层不与彩膜基板表面直接接触，另一方面可以保证沉积偏光层之前的平面平整且支撑偏光层。

步骤212中，偏光层物质是有含光敏取代基聚乙烯醇或者是具有光致取向的类似物质，偏光层的制作可以通过化学沉积或者物理沉积等工艺完成，工艺控制条件根据实际要求确定；之后通过紫光照射或者紫外光照射取向处理，具体照射光的波长根据实际需要选取，其照射条件根据偏光膜的实际需要确定，沉积的厚度为100～50000nm；偏光层是整个偏光膜的核心部分，其作用是使透过偏光层的光得到光调制，以获得沿着某固定方向的平行光源，控制光的取向。

步骤213中，防眩层的化学物质是无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，其中无水硅酸物质的微粒子半径为0.5μm～2.5μm，防眩层的制作可以通过化学沉积或者物理沉积等工艺完成，工艺条件控制根据实际要求确定，沉积的厚度为100～8000nm。防眩层的作用是使光透过后，不会因为界面中光的反射和折射产生微粒间光的衍射和干涉现象，以避免不必要的着色。

步骤214中，保护层的厚度为100～8000nm。保护层一方面可以保证上述各层不与外界接触，防止发生不必要的反应，另一方面可以防止物理因素或机械原因造成的偏光膜损害。

在上述技术方案基础上，步骤212～步骤213之间还可以增加沉积低反射层的步骤，设置低反射层可以减低界面对光的反射作用，以提高光的透过率。步骤211～步骤214中，每个步骤完成后均需进行现有技术普遍采用的清洗、固化、热处理等处理工艺，从而形成了本发明彩膜偏光膜。

图7为本发明在阵列基板表面上沉积偏光膜的流程图，具体为：

步骤221、在阵列基板表面沉积一层支持层；

步骤222、在所述支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

步骤223、在所述偏光层上沉积一层防眩层；

步骤224、在所述防眩层上沉积一层保护层。

步骤221中，支持层的化学成分为三乙酰基纤维素或者是具有类似性能的化学物质，制作过程可以通过化学沉积或物理沉积等工艺完成，工艺控制条件根据实际要求确定，沉积的厚度为100～8000nm。支持层的作用一方面是使偏光层不与阵列基板表面直接接触，另一方面可以保证沉积偏光层之前的平面平整且支撑偏光层。

步骤222中，偏光层物质是有含光敏取代基聚乙烯醇或者是具有光致取向的类似物质，偏光层的制作可以通过化学沉积或者物理沉积等工艺完成，工艺控制条件根据实际要求确定；之后通过紫光照射或者紫外光照射取向处理，具体照射光的波长根据实际需要选取，其照射条件根据偏光膜的实际需要确定，沉积的厚度为100～50000nm；偏光层是整个偏光膜的核心部分，其作用是使透过偏光层的光得到光调制，以获得沿着某固定方向的平行光源，控制光的取向。

步骤223中，防眩层的化学物质是无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，其中无水硅酸物质的微粒子半径为0.5μm～2.5μm，防眩层的制作可以通过化学沉积或者物理沉积等工艺完成，工艺条件控制根据实际要求确定，沉积的厚度为100～8000nm。防眩层的作用是使光透过后，不会因为界面中光的反射和折射产生微粒间光的衍射和干涉现象，以避免不必要的着色。

步骤224中，保护层的厚度为100～8000nm。保护层一方面可以保证上述各层不与外界接触，防止发生不必要的反应，另一方面可以防止物理因素或机械原因造成的偏光膜损害。

在上述技术方案基础上，步骤222～步骤223之间还可以增加沉积低反射层的步骤，设置低反射层可以减低界面对光的反射作用，以提高光的透过率。步骤221～步骤224中，每个步骤完成后均需进行现有技术普遍采用的清洗、固化、热处理等处理工艺，从而形成了本发明阵列偏光膜。

图8为本发明同时在彩膜基板和阵列基板表面沉积偏光膜的流程图，具体为：

步骤231、在彩膜基板表面沉积一层支持层，面板翻转或倾转180度，在阵列基板表面沉积一层支持层；

步骤232、面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

步骤233、面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的偏光层上沉积一层防眩层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的偏光层上沉积一层防眩层；

步骤234、面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的防眩层上沉积一层保护层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的防眩层上沉积一层保护层。

在上述技术方案基础上，步骤232～步骤233之间还可以增加沉积低反射层的步骤。步骤231～步骤234中，每个步骤完成后均需进行现有技术普遍采用的清洗、固化、热处理等处理工艺，从而形成了本发明阵列偏光膜。上述步骤中各层材料及参数与图6、图7所示方案相同，不再赘述。

图8所示技术方案基础上，同时在彩膜基板和阵列基板表面沉积偏光膜还存在多种变形，例如先进行阵列基板沉积、在进行彩膜基板沉积的等同方案，又如减少翻转次数的等同方案等等。

先进行阵列基板沉积、在进行彩膜基板沉积的流程具体为：

步骤241、在阵列基板表面沉积一层支持层，面板翻转或倾转180度，在彩膜基板表面沉积一层支持层；

步骤242、面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理，面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

步骤243、面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的偏光层上沉积一层低反射层，面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的偏光层上沉积一层低反射层；

步骤244、面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的低反射层上沉积一层防眩层，面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的低反射层上沉积一层防眩层；

步骤245、面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的防眩层上沉积一层保护层，面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的防眩层上沉积一层保护层。

减少翻转次数的沉积流程具体为：

步骤251、在彩膜基板表面沉积一层支持层，面板翻转或倾转180度，在阵列基板表面沉积一层支持层；

步骤252、在所述阵列基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理，面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

步骤253、在所述彩膜基板的偏光层上沉积一层低反射层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的偏光层上沉积一层低反射层；

步骤254、在所述阵列基板的低反射层上沉积一层防眩层，面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的低反射层上沉积一层防眩层；

步骤255、在所述彩膜基板的防眩层上沉积一层保护层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的防眩层上沉积一层保护层。

本发明上述技术方案中，阵列基板和阵列基板上偏光膜的制作都直接采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)或者其他工艺制备，不需要进传统偏光膜制作的拉伸和粘合工艺，这样可以减少偏光膜的收缩和老化现象，另外也不需要黏着剂，这样会贴附的弯曲问题和其他相关问题发生。另外偏光膜制作是通过先沉积偏光层，然后通过光致取向获得所需要的偏光性能，这样可以更精确的控制偏光膜对光的偏振现象。在制作偏光膜中节省了很多不必要的透过层，可以增强光的透过率，对液晶显示面板的光强和相应的对比度等光学性能都有不同程度的提高。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板，包括对盒的彩膜基板和阵列基板，其特征在于，所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积有偏光膜。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述偏光膜至少包括依次沉积的支持层、偏光层、防眩层和保护层。

3.根据权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述支持层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～8000nm的三乙酰基纤维素。

4.根据权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述偏光层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～50000nm的含光敏取代基聚乙烯醇，并经紫光照射或紫外光照射取向处理。

5.根据权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述防眩层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～8000nm的无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，所述无水硅酸的微粒子半径为0.5μm～2.5μm。

6.根据权利要求1～5中任一权利要求所述的液晶显示面板，其特征在于，所述偏光膜的厚度为100～80000nm。

7.一种液晶显示面板的制造方法，其特征在于，包括步骤：

将彩膜基板和阵列基板对盒形成面板；

在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜。

8.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，在所述彩膜基板和阵列基板上分别沉积偏光膜具体为：在彩膜基板或阵列基板表面上沉积偏光膜，面板翻转或倾转180度，在阵列基板或彩膜基板表面上沉积偏光膜。

9.根据权利要求8所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，在彩膜基板或阵列基板表面上沉积偏光膜具体为：

在基板表面沉积一层支持层；

在所述支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

在所述偏光层上沉积一层防眩层；

在所述防眩层上沉积一层保护层。

10.根据权利要求7所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜具体为：

在彩膜基板表面沉积一层支持层，面板翻转或倾转180度，在阵列基板表面沉积一层支持层；

面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的偏光层上沉积一层防眩层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的低反射层上沉积一层防眩层；

面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的防眩层上沉积一层保护层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的防眩层上沉积一层保护层。

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