CN216039300U - 一种超高硬度减反射镀膜玻璃 - Google Patents

一种超高硬度减反射镀膜玻璃 Download PDF

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Abstract

本实用新型公开了一种超高硬度减反射镀膜玻璃,包括玻璃基底层和第一防指纹油层,所述玻璃基底层的顶面贴合设置有第一氧化铌层,且第一氧化铌层的顶面贴合设置有第一氧化硅层,所述第一氧化硅层的顶面贴合设置有第二氧化铌层,且第二氧化铌层的顶面贴合设置有第二氧化硅层,所述第二氧化硅层的顶面贴合设置有第一氮化锆层,所述第一防指纹油层贴合设置于第一氮化锆层的顶面,所述玻璃基底层的底面贴合设置有第三氧化铌层,且第三氧化铌层的底面贴合设置有第三氧化硅层。该超高硬度减反射镀膜玻璃在可见光范围内具有较低的反射率及较高的透过率,同时自身表面硬度较高,具有良好的抗划伤性,并且各膜层结构简单,制备容易。

Description

一种超高硬度减反射镀膜玻璃
技术领域
本实用新型涉及磁控溅射镀膜玻璃技术领域,具体为一种超高硬度减反射镀膜玻璃。
背景技术
减反射镀膜玻璃的制作采用了光学薄膜干涉的原理,通过磁控溅射方法在玻璃原片表面沉积特定膜系结构的纳米多层膜,此类产品通常也被人们称作AR玻璃。在近两年较为火热的光伏电池领域,不仅能够有效地提升电池转化效率,同时能够改善基体的力学性能、电学性能、光学性能以及其他物理化学性能。减反射产品在光学仪器、博物馆展台、视觉器件及电子类产品领域有着较为广泛的应用,尤其应用在眼镜片、光学镜头、盖板玻璃表面时,具有超高表面硬度的减反射镀膜玻璃具有较大的优势,拥有广阔的市场前景。
现有的减反射镀膜玻璃不具备良好的抗划伤性能,存在一定的质量缺陷,同时减反射效果不理想,性能不够稳定,为此,我们提出一种超高硬度减反射镀膜玻璃。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种超高硬度减反射镀膜玻璃,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种超高硬度减反射镀膜玻璃,包括玻璃基底层和第一防指纹油层,所述玻璃基底层的顶面贴合设置有第一氧化铌层,且第一氧化铌层的顶面贴合设置有第一氧化硅层,所述第一氧化硅层的顶面贴合设置有第二氧化铌层,且第二氧化铌层的顶面贴合设置有第二氧化硅层,所述第二氧化硅层的顶面贴合设置有第一氮化锆层,所述第一防指纹油层贴合设置于第一氮化锆层的顶面,所述玻璃基底层的底面贴合设置有第三氧化铌层,且第三氧化铌层的底面贴合设置有第三氧化硅层,所述第三氧化硅层的底面贴合设置有第四氧化铌层,且第四氧化铌层的底面贴合设置有第四氧化硅层,所述第四氧化硅层的底面贴合设置有第二氮化锆层,且第二氮化锆层的底面贴合设置有第二防指纹油层。
优选的,所述第一氧化铌层和第三氧化铌层关于玻璃基底层的横向中轴线呈对称分布,且第一氧化铌层和第三氧化铌层的厚度均为20nm,而且第一氧化铌层和第三氧化铌层均由旋转铌靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气。
优选的,所述第一氧化硅层和第三氧化硅层关于玻璃基底层的横向中轴线呈对称分布,且第一氧化硅层和第三氧化硅层的厚度均为36nm,而且第一氧化硅层和第三氧化硅层均由旋转硅铝靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气。
优选的,所述第二氧化铌层和第四氧化铌层关于玻璃基底层的横向中轴线呈对称分布,且第二氧化铌层和第四氧化铌层的厚度均为56nm,而且第二氧化铌层和第四氧化铌层均由旋转铌靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气。
优选的,所述第二氧化硅层和第四氧化硅层关于玻璃基底层的横向中轴线呈对称分布,且第二氧化硅层和第四氧化硅层厚度均为70nm,而且第二氧化硅层和第四氧化硅层均由旋转硅铝靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气。
优选的,所述第一氮化锆层和第二氮化锆层关于玻璃基底层的横向中轴线呈对称分布,且第一氮化锆层和第二氮化锆层厚度均为10nm,而且第一氮化锆层和第二氮化锆层均由旋转硅锆靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氮气。
优选的,所述第一防指纹油层和第二防指纹油层关于玻璃基底层的横向中轴线呈对称分布,且第一防指纹油层和第二防指纹油层的厚度一致。
优选的,所述第一氧化铌层、第一氧化硅层、第二氧化铌层、第二氧化硅层、第一氮化锆层和第一防指纹油层之间均由磁控溅射方法制备,且本底真空度低于6.0×10-6mbar。
本实用新型提供了一种超高硬度减反射镀膜玻璃,具备以下有益效果:该超高硬度减反射镀膜玻璃,第一氧化铌层、第一氧化硅层、第二氧化铌层、第二氧化硅层、第一氮化锆层、第一防指纹油层为一组自下至上依次沉积设置在玻璃基底层上方,第三氧化铌层、第三氧化硅层、第四氧化铌层、第四氧化硅层、第二氮化锆层、第二防指纹油层为一组自上至下依次沉积设置在玻璃基底层下方,且各单层膜均由靶材溅射后与工艺气体反应所得,靶材的纯度均高达99.9%以上,工艺气体纯度99.999%以上,该镀膜玻璃产品在可见光范围内具有较低的反射率及较高的透过率,同时自身表面硬度较高,具有良好的抗划伤性,并且各膜层结构简单,制备容易,具有广阔的市场应用前景,此外第一防指纹油层和第二防指纹油层的设置,是为了防止指纹印痕停留在产品表面,有利于提高玻璃表面的洁净度。
附图说明
图1为本实用新型一种超高硬度减反射镀膜玻璃的整体结构示意图;
图2为本实用新型一种超高硬度减反射镀膜玻璃的工艺参数示意图;
图3为本实用新型一种超高硬度减反射镀膜玻璃的光学参数示意图。
图中:1、玻璃基底层;2、第一氧化铌层;3、第一氧化硅层;4、第二氧化铌层;5、第二氧化硅层;6、第一氮化锆层;7、第一防指纹油层;8、第三氧化铌层;9、第三氧化硅层;10、第四氧化铌层;11、第四氧化硅层; 12、第二氮化锆层;13、第二防指纹油层。
具体实施方式
如图1-3所示,一种超高硬度减反射镀膜玻璃,包括玻璃基底层1和第一防指纹油层7,玻璃基底层1的顶面贴合设置有第一氧化铌层2,玻璃基底层1的底面贴合设置有第三氧化铌层8,第一氧化铌层2和第三氧化铌层8关于玻璃基底层1的横向中轴线呈对称分布,且第一氧化铌层2和第三氧化铌层8的厚度均为20nm,而且第一氧化铌层2和第三氧化铌层8均由旋转铌靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气,且第一氧化铌层2的顶面贴合设置有第一氧化硅层3,且第三氧化铌层8的底面贴合设置有第三氧化硅层9,第一氧化硅层3和第三氧化硅层9关于玻璃基底层1的横向中轴线呈对称分布,且第一氧化硅层3和第三氧化硅层9的厚度均为36nm,而且第一氧化硅层3和第三氧化硅层9均由旋转硅铝靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气,第一氧化硅层3的顶面贴合设置有第二氧化铌层4,第三氧化硅层9的底面贴合设置有第四氧化铌层10,第二氧化铌层4和第四氧化铌层10关于玻璃基底层1的横向中轴线呈对称分布,且第二氧化铌层4 和第四氧化铌层10的厚度均为56nm,而且第二氧化铌层4和第四氧化铌层 10均由旋转铌靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气,且第二氧化铌层4的顶面贴合设置有第二氧化硅层5,且第四氧化铌层10的底面贴合设置有第四氧化硅层11,第二氧化硅层5和第四氧化硅层11关于玻璃基底层1的横向中轴线呈对称分布,且第二氧化硅层5和第四氧化硅层11厚度均为70nm,而且第二氧化硅层5和第四氧化硅层11均由旋转硅铝靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气,第二氧化硅层5的顶面贴合设置有第一氮化锆层6,第四氧化硅层11的底面贴合设置有第二氮化锆层12,第一氮化锆层6和第二氮化锆层12关于玻璃基底层1的横向中轴线呈对称分布,且第一氮化锆层6和第二氮化锆层12厚度均为10nm,而且第一氮化锆层 6和第二氮化锆层12均由旋转硅锆靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氮气,第一防指纹油层7贴合设置于第一氮化锆层6的顶面,且第二氮化锆层12的底面贴合设置有第二防指纹油层13,第一防指纹油层7和第二防指纹油层13关于玻璃基底层1的横向中轴线呈对称分布,且第一防指纹油层7和第二防指纹油层13的厚度一致,第一氧化铌层2、第一氧化硅层3、第二氧化铌层4、第二氧化硅层5、第一氮化锆层6和第一防指纹油层7之间均由磁控溅射方法制备,且本底真空度低于6.0×10-6mbar,第一氧化铌层2、第一氧化硅层3、第二氧化铌层4、第二氧化硅层5、第一氮化锆层6、第一防指纹油层7为一组自下至上依次沉积设置在玻璃基底层1上方,第三氧化铌层8、第三氧化硅层9、第四氧化铌层10、第四氧化硅层11、第二氮化锆层12、第二防指纹油层13为一组自上至下依次沉积设置在玻璃基底层1下方,且各单层膜均由靶材溅射后与工艺气体反应所得,靶材的纯度均高达99.9%以上,工艺气体纯度99.999%以上,该镀膜玻璃产品在可见光范围内具有较低的反射率及较高的透过率,同时自身表面硬度较高,具有良好的抗划伤性,并且各膜层结构简单,制备容易,具有广阔的市场应用前景,此外第一防指纹油层7和第二防指纹油层13的设置,是为了防止指纹印痕停留在产品表面,有利于提高玻璃表面的洁净度。
综上,该超高硬度减反射镀膜玻璃,使用时,首先根据图1-3所示的结构,玻璃基底层1的上下方各设置有六层薄膜,且以对称结构沉积,其中第一氧化铌层2、第一氧化硅层3、第二氧化铌层4、第二氧化硅层5、第一氮化锆层6、第一防指纹油层7为一组自下至上依次沉积设置在玻璃基底层1上方,第三氧化铌层8、第三氧化硅层9、第四氧化铌层10、第四氧化硅层11、第二氮化锆层12、第二防指纹油层13为一组自上至下依次沉积设置在玻璃基底层1下方,各单层膜均由靶材溅射后与工艺气体反应所得,同时靶材的纯度均高达99.9%以上,工艺气体纯度99.999%以上,其中该减反射镀膜玻璃的具体制作过程为,玻璃被传输进入真空腔体后,依次经过上述溅射区域,完成指定厚度膜层制备,获得不同厚度的膜层通过改变玻璃在溅射区域传输速度与靶材溅射功率来实现,玻璃上表面膜层沉积完成后,将玻璃翻面,继续完成玻璃基底下表面各单层膜的制备,制备流程同上,制备完成的减反射镀膜玻璃产品在可见光范围内具有较低的反射率及较高的透过率,同时因自身表面硬度较高,使得具备着良好的抗划伤性,通过表面设置的第一防指纹油层7和第二防指纹油层13能够防止指纹印痕停留在产品表面,有利于提高玻璃表面的洁净度,该减反射镀膜玻璃产品中各膜层结构简单,给产品制备降低了难度。

Claims (8)

1.一种超高硬度减反射镀膜玻璃,包括玻璃基底层(1)和第一防指纹油层(7),其特征在于,所述玻璃基底层(1)的顶面贴合设置有第一氧化铌层(2),且第一氧化铌层(2)的顶面贴合设置有第一氧化硅层(3),所述第一氧化硅层(3)的顶面贴合设置有第二氧化铌层(4),且第二氧化铌层(4)的顶面贴合设置有第二氧化硅层(5),所述第二氧化硅层(5)的顶面贴合设置有第一氮化锆层(6),所述第一防指纹油层(7)贴合设置于第一氮化锆层(6)的顶面,所述玻璃基底层(1)的底面贴合设置有第三氧化铌层(8),且第三氧化铌层(8)的底面贴合设置有第三氧化硅层(9),所述第三氧化硅层(9)的底面贴合设置有第四氧化铌层(10),且第四氧化铌层(10)的底面贴合设置有第四氧化硅层(11),所述第四氧化硅层(11)的底面贴合设置有第二氮化锆层(12),且第二氮化锆层(12)的底面贴合设置有第二防指纹油层(13)。
2.根据权利要求1所述的一种超高硬度减反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第一氧化铌层(2)和第三氧化铌层(8)关于玻璃基底层(1)的横向中轴线呈对称分布,且第一氧化铌层(2)和第三氧化铌层(8)的厚度均为20nm,而且第一氧化铌层(2)和第三氧化铌层(8)均由旋转铌靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气。
3.根据权利要求1所述的一种超高硬度减反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第一氧化硅层(3)和第三氧化硅层(9)关于玻璃基底层(1)的横向中轴线呈对称分布,且第一氧化硅层(3)和第三氧化硅层(9)的厚度均为36nm,而且第一氧化硅层(3)和第三氧化硅层(9)均由旋转硅铝靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气。
4.根据权利要求1所述的一种超高硬度减反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第二氧化铌层(4)和第四氧化铌层(10)关于玻璃基底层(1)的横向中轴线呈对称分布,且第二氧化铌层(4)和第四氧化铌层(10)的厚度均为56nm,而且第二氧化铌层(4)和第四氧化铌层(10)均由旋转铌靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气。
5.根据权利要求1所述的一种超高硬度减反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第二氧化硅层(5)和第四氧化硅层(11)关于玻璃基底层(1)的横向中轴线呈对称分布,且第二氧化硅层(5)和第四氧化硅层(11)厚度均为70nm,而且第二氧化硅层(5)和第四氧化硅层(11)均由旋转硅铝靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氧气。
6.根据权利要求1所述的一种超高硬度减反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第一氮化锆层(6)和第二氮化锆层(12)关于玻璃基底层(1)的横向中轴线呈对称分布,且第一氮化锆层(6)和第二氮化锆层(12)厚度均为10nm,而且第一氮化锆层(6)和第二氮化锆层(12)均由旋转硅锆靶用交流电源溅射后反应所得,所用气体为氩气与氮气。
7.根据权利要求1所述的一种超高硬度减反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第一防指纹油层(7)和第二防指纹油层(13)关于玻璃基底层(1)的横向中轴线呈对称分布,且第一防指纹油层(7)和第二防指纹油层(13)的厚度一致。
8.根据权利要求1所述的一种超高硬度减反射镀膜玻璃,其特征在于,所述第一氧化铌层(2)、第一氧化硅层(3)、第二氧化铌层(4)、第二氧化硅层(5)、第一氮化锆层(6)和第一防指纹油层(7)之间均由磁控溅射方法制备,且本底真空度低于6.0×10-6mbar。
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