CN101292177A - 用于成像器的椭面无间隙微透镜 - Google Patents

用于成像器的椭面无间隙微透镜 Download PDF

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Abstract

椭圆形微透镜将光聚焦在不平衡感光区域上，为无间隙微透镜布局增大区域覆盖范围，并允许成对或另外单独地偏移所述微透镜以考虑不对称像素和像素布局结构。所述微透镜可成组地制造，其中一组的定向不同于另一组的定向，且可用各种图案(例如，以棋盘形图案或放射状图案)来排列所述微透镜。至少一组所述微透镜可大体为椭圆形。为制造第一组微透镜，在载体上图案化第一组微透镜材料，在第一回流条件下将其回流，并固化。为制造第二组微透镜，在所述载体上图案化第二组微透镜材料，在可不同于所述第一回流条件的第二回流条件下将其回流，并固化。

Description

用于成像器的椭面无间隙微透镜
相关申请案的交叉参考
本申请案主张2003年10月9日申请的第10/681,308号申请案的部分接续申请案(C.I.P.)，所述申请案的全文以引用的方式并入本文。
技术领域
本发明大体上涉及使用微透镜的基于半导体的成像器装置的领域，且更具体来说涉及微透镜阵列的制造。
背景技术
半导体工业近来使用不同类型的基于半导体的成像器，例如电荷耦合装置(CCD)、CMOS主动像素传感器(APS)、光电二极管阵列、电荷注入装置和其中使用微透镜阵列的混合式焦平面阵列。还在研发使用微透镜的基于半导体的显示器。
通过使用微透镜从较大集光区域收集光并将所收集的光聚焦在光传感器的较小感光区域上极大地改善了成像装置的感光性。随着成像器阵列和像素感光区域的尺寸不断减小，越加难以提供一种能够将入射光线聚焦在像素的感光区域上的微透镜。此问题部分是由于越加难以为越来越小的成像装置构造具有最佳焦点特征的微透镜。在制造期间微透镜成形对于最优化微透镜焦点是重要的。这接着为下方像素阵列增加量子效率。利用球面形微透镜更利于将入射光聚焦在窄焦点上，其允许所需的光传感器尺寸的减小。然而，球面微透镜存在不合需要的间隙问题(以下描述)。
可经由减成工艺或加成工艺形成微透镜。在加成工艺中，透镜材料在衬底上形成并随后形成为微透镜形状。
在常规加成微透镜制造中，在衬底上沉积中间材料，并使用回流工艺使其形成为微透镜阵列。每一微透镜形成为在相邻微透镜之间通常具有不小于0.3微米的最小距离。比0.3微米更近的任何距离可导致两个相邻微透镜在回流期间发生桥连。在已知工艺中，每一微透镜图案化为具有环绕其的间隙的单一正方形图案。在回流所述经图案化为正方形的微透镜期间，经由表面张力与重力的平衡力的驱动而形成部分球面形状的凝胶滴液。随后所述微透镜以此形状硬化。如果在两个相邻凝胶滴液之间的间隙过窄，那么所述滴液可接触且并合(或桥连)成为一个较大滴液。桥连的效应是其改变透镜的形状，其导致焦距变化，或更准确地说，导致在焦距范围内能量分布的变化。在调焦范围内能量分布的变化导致像素量子效率的损失并导致像素之间的增强串扰。然而，所述间隙允许未聚焦的光子通过所述微透镜阵列中的空间隔，其导致较低量子效率并导致相邻像素各自光传感器之间的增强串扰。
需要形成具有不同形状微透镜的微透镜阵列。然而，如果利用使用单一回流步骤的已知技术来形成所述微透镜，那么不同形状微透镜将具有不同焦点特征，所述特征将导致特定光传感器不良聚焦和/或需要修正某些光传感器的位置、形状或对称性。
需要提高从微透镜接收并聚焦在成像器的光传感器上的光量。还需要形成具有不同尺寸和形状微透镜的微透镜阵列，每一微透镜对于其正在检测的光的色彩或波长具有最优焦距和焦点位置。还需要形成一微透镜阵列，其在微透镜之间具有最小间隙且在微透镜制造的回流工艺期间不引起桥连。
发明内容
本发明的实施例提供一种改善微透镜阵列和形成所述阵列的方法。椭圆形微透镜经形成以将光聚焦在不平衡感光区域上，并为无间隙微透镜布局增大区域覆盖范围。所述椭圆形微透镜允许成对或另外单独偏移所述微透镜以考虑共用像素布局结构的不对称性。所述微透镜可成组地制造，其中一组的定向不同于另一组的定向，且所述微透镜可以不同图案(例如，以棋盘形图案或放射状图案)排列。至少一组所述微透镜可大体为椭圆形。
为制造第一组微透镜，在一载体上图案化第一组微透镜材料，在第一回流条件下将其回流，并固化。为制造第二组微透镜，在所述载体上图案化第二组微透镜材料。在可不同于所述第一回流条件的第二回流条件下将其回流，并固化。
从结合随附图式提供的详细描述，将更容易了解本发明的不同实施例的这些和其他特征。
附图说明
图1是具有不对称形感光区域的像素阵列的俯视图。
图2是根据本发明的示范性实施例在图1中的像素阵列上构造的微透镜阵列的俯视图。
图3a是沿图2中的线X-X截得的截面图。
图3b是沿图2中的线Y-Y截得的截面图。
图4是制造图2中的微透镜阵列的步骤的俯视图。
图5是制造图2中的微透镜阵列的后续步骤的俯视图。
图6是根据本发明的另一示范性实施例在图1中的像素阵列上构造的微透镜阵列的俯视图。
图7是根据本发明的另一示范性实施例在图1中的像素阵列上构造的微透镜阵列的俯视图。
图8是根据本发明的另一示范性实施例构造的微透镜阵列的俯视图。
图9说明制造本发明的微透镜阵列的工艺。
图10是成像装置的示意图，所述成像装置使用具有根据本发明的实施例构造的微透镜阵列的像素。
图11说明包括图10中的成像装置的处理系统的示意图。
具体实施方式
在以下详细描述中，参看随附图式，其形成本文的一部分，且以说明方式展示可实践本发明的特定实施例。充分详细地描述这些实施例以使所属领域的技术人员能够实践本发明，且应了解可利用其他实施例，并在不脱离本发明的精神和范围的情况下进行其结构、逻辑和电性改变。所描述处理步骤的进行过程为本发明实施例的示范；然而，除必须以特定顺序进行的步骤外，并非将步骤顺序限制如本文所述且可将其改变为此项技术中已知的顺序。
本文使用的术语“衬底”，应理解其为包括硅、绝缘体上硅(SOI)或蓝宝石上硅(SOS)技术、掺杂半导体和不掺杂半导体、由基半导体基础承载的外延硅层和其他半导体结构。此外，当以下描述中提到“衬底”时，先前处理步骤可已利用以在基半导体结构或基础之中或之上形成区域、接面或材料层。另外，所述半导体无需为基于硅的，而可为基于硅锗、锗、砷化镓或为其他半导体。
本文使用的术语“像素”是指含有光传感器装置和用于将光子转换为电信号的相关结构的光元件单位晶胞。为达成说明的目的，在本文图式和描述中说明单一的代表性的三色像素和其形成方式；然而，通常同时进行多个相同像素的制造。因此，并非在限制意义上进行以下详细描述，且本发明的范围仅由附加权利要求书限定。
最后，尽管参考基于半导体的成像器(例如，CMOS成像器)描述本发明，但应了解本发明可应用于任何需要高质量微透镜以实现最优性能的微电子装置或微光学装置。可使用本发明的其他示范性微光学装置包括CCD和其中像素采用光电发射体的显示装置，以及其他装置。
现参看图1，其展示具有不对称形感光区域101、102的成像像素阵列100。在像素阵列100的此描绘中，微透镜和用来与行和列驱动器和成像传感器装置的其他电路进行通信的金属线还未在所述像素上形成。由于感光区域101、102是不对称的，因此球面形微透镜将不能将光导向到区域101、102的某些区域，而将大部分入射光传输到感光区域101、102的其他区域。所述光子分布导致量子效率的损失。
现参看图2，其展示在像素阵列100上形成的微透镜阵列110。所述阵列110包括各形成于所述像素阵列100上的多个第一微透镜111和多个第二微透镜112。形成所述第一微透镜111用于感光区域101(图1)并形成所述第二微透镜112用于感光区域102(图1)。第一微透镜111展示为具有大体成椭圆形的形状，而第二微透镜112展示为具有大体成正方形的形状。第二微透镜112的边缘与第一微透镜111的边缘稍重叠。
第一微透镜111的每一者可形成为具有沿纵向轴115的第一焦距和沿横向轴116的第二焦距，其通过调整椭圆形的长轴和短轴来改变。第二微透镜112的每一者可形成为具有与第一微透镜111的第一焦距或第一微透镜111的第二焦距的长度相似的焦距。或者，第二微透镜112可形成为具有第三焦距。在任何情况下，微透镜111、112可形成为具有不同焦距以满足半导体衬底120中的相应感光区域101、102的形状和尺寸的需要。
图3a是沿图2中的交叉线X-X截得的截面图。图2中的线X-X沿第一微透镜111的纵向轴绘制。图3b是沿图2中的交叉线Y-Y截得的截面图。图2中的线Y-Y沿第一微透镜111的横向轴绘制。应注意图3a和图3b并非贯穿成像器的真实截面图，而仅是成像器中微透镜相对于感光区域的位置关系的示意性表示。举例来说，半导体衬底120表示成像器的若干层，包括(但不限于)钝化层、金属化层和彩色滤光片阵列层。
从图2、图3a和图3b可见，第一微透镜111在纵向上比在横向上长。此外，第一微透镜111可经形成以便将来自第一感光区域101外一区域的光聚焦到所述第一感光区域101。
如所展示，第二微透镜112的形状不同于第一微透镜111，从而最大化了由微透镜覆盖的间隔的量。由于未通过微透镜透射的光不能相对于任何感光区域正确聚焦，且可增加像素之间的串扰的发生率，因此最大化由微透镜覆盖的间隔的量具有极大益处。
第一微透镜111由第一微透镜材料11形成。在载体衬底120上沉积并图案化第一微透镜材料11(图4)。所述衬底120由电磁辐射可透过的任何合适的材料形成。所述第一微透镜材料11的每一沉积具有狭长六边形配置，其尺寸大体相等。所述第一微透镜材料11为一种一经回流即形成稳固交联聚合物而不受后续回流工艺的影响的材料。在回流条件下实施回流工艺期间，所述第一微透镜材料11的狭长六边形配置转化为具有椭圆形配置的第一微透镜111，所述配置具有圆形边缘和曲顶。所述可透过电磁辐射的第一微透镜111将保持其形状，即使随后执行回流工艺其仍保持其形状。
在图案化并回流所述第一微透镜材料11形成所述第一稳固交联聚合物微透镜111后，如图5所示，图案化第二微透镜材料12。经图案化为大体成正方形的配置的所述第二微透镜材料12被置于第一微透镜111之间的某些间隔中。另外，如果需要，那么部分第二微透镜材料12可重叠于所述第一微透镜111形成。
可在不同于第一微透镜材料11的回流条件的回流条件下回流并固化第二微透镜材料12，使其形成如图2所示的第二微透镜112。所述第二微透镜112如同所述第一微透镜111一样，不受后续回流的影响。所述第二微透镜112的尺寸和形状不同于所述第一微透镜111，特定来说，其具有较小的尺寸，所述第二微透镜112在配置上各稍成正方形并具有圆形端角和曲顶。更特定来说，所述第二微透镜112具有与所述第一微透镜111相似的曲率和比第一微透镜111小的表面积。应了解，在另一实施例中，第二微透镜112可比第一微透镜111大。
因此形成微透镜阵列110，且其包括两个或两个以上多个微透镜111、112的任何组合。通过(例如)以棋盘式形成间隔开的第一微透镜111，并由以独立工艺形成的第二微透镜112填充所述间隔来制造微透镜阵列110，从而减少相邻第一微透镜111之间和第一微透镜111与第二微透镜112之间的桥连。这是因为第一微透镜111已经过回流工艺使得其不受任何后续回流工艺的影响。因此，随后将第二微透镜材料12回流成为第二微透镜112将不引起第一微透镜111与第二微透镜112之间的桥连或一对第二微透镜112之间的桥连。由于形成的微透镜彼此邻接，因此微透镜阵列110是近似无间隔的。
通过经独立回流工艺形成微透镜111、112，可形成微透镜阵列110以便为通常显示较低信号强度的像素提供较高信号强度。举例来说，由于在感光区域101上具有蓝色滤光片，因此所述感光区域101可趋向于为给定光强度产生固有较低输出信号。因此，可通过制造将收集更多的光并帮助平衡像素阵列的不同色彩像素的像素强度的例如第一微透镜111的较大微透镜来形成微透镜阵列110。色彩之间的平衡信号因其避免了机械地发送一种色彩的像素至饱和而其他像素仅为部分饱和而有助于像素上光传感器的动态范围。
应了解在形成所述第二多个微透镜后，可在衬底上的任何间隔中形成其他形状的微透镜。举例来说，在形成第二微透镜后，必要时，在第一微透镜之间、第一微透镜与第二微透镜之间和/或第二微透镜之间的间隔中图案化第三微透镜材料为大体成正方形、椭圆形或其他形状。在不同于第一微透镜材料和第二微透镜材料的回流条件的回流条件下执行第三微透镜材料的回流和固化。
还应了解第三多个微透镜可与第二多个微透镜以单一回流工艺一起形成。当所述第三微透镜和所述第二微透镜空间上彼此隔开时(例如，第一微透镜在其之间)，桥连是不可能发生的。
可用作微透镜材料的示范性材料包括(但不限于)来自JSR的MFR-401。
在本发明的另一示范性实施例中，微透镜可全部为椭圆形并绕所述阵列的轴旋转，从而使椭圆形状的益处最大化。参看图6，其展示在像素阵列100上形成的微透镜阵列210。所述阵列210包括各自形成于像素阵列100上的多个第一微透镜211和多个第二微透镜212。形成所述第一微透镜211用于第一感光区域101并形成所述第二微透镜212用于第二感光区域102。第一微透镜211展示为具有椭圆形状，其从阵列210的垂直轴旋转约+45°。第二微透镜212也展示为具有椭圆形状，其从阵列210的垂直轴旋转约+45°。第二微透镜212的边缘与第一微透镜211的边缘稍重叠。
第一微透镜211的每一者可形成为具有沿纵向轴的第一焦距和沿横向轴的第二焦距，其通过调整椭圆形的长轴和短轴来改变。第二微透镜212的每一者可形成为具有与第一微透镜211的第一焦距的长度相似的第一焦距和与第一微透镜211的第二焦距的长度相似的第二焦距。或者，第二微透镜212可形成为具有不同焦距。在任何情况下，微透镜211、212可形成为具有不同焦距以满足衬底120中的相应感光区域101、102的形状和尺寸需要。
在另一示范性实施例中，椭圆形微透镜的方向可彼此不同。参看图7，其展示在像素阵列100上形成的微透镜阵列310。所述阵列310包括各自形成于像素阵列100上的多个第一微透镜311和多个第二微透镜312。形成所述第一微透镜311用于第一感光区域101并形成所述第二微透镜312用于第二感光区域102。第一微透镜311展示为具有椭圆形状，其从阵列310的垂直轴旋转约+45°。第二微透镜312也展示为具有椭圆形状，但其从阵列310的垂直轴旋转约-45°。第二微透镜312的边缘与第一微透镜311的边缘稍重叠。
第一微透镜311的每一者可形成为具有沿纵向轴的第一焦距和沿横向轴的第二焦距，其通过调整椭圆形的长轴和短轴来改变。第二微透镜312的每一者可形成为具有与第一微透镜311的第一焦距的长度相似的第一焦距和与第一微透镜311的第二焦距的长度相似的第二焦距。或者，第二微透镜312可形成为具有不同焦距。在任何情况下，微透镜311、312可形成为具有不同焦距以满足衬底120上的相应感光区域101、102的形状和尺寸的需要。
在另一示范性实施例中，椭圆形微透镜的方向可彼此不同。举例来说，微透镜阵列可具有环绕中心点C的放射状配置以便所有椭圆形微透镜的纵向轴的延伸在中心点C相交。参看图8，其展示微透镜阵列410。所述阵列410包括各形成在形成于衬底420中的像素阵列上的多个第一微透镜411、多个第二微透镜412和多个第三微透镜413。第一微透镜411展示为具有椭圆形状，其从微透镜阵列410的垂直轴旋转约0°、+45°、-45°或90°。第二微透镜412也展示为具有椭圆形状，其从阵列410的垂直轴旋转约0°、+45°、45°或90°。第三微透镜413展示为具有球面形状或椭圆形状，其从阵列410的垂直轴旋转+22.5°、-22.5°、+67.5°或-67.5°。第二微透镜412的边缘与第一微透镜411的边缘稍重叠，且第三微透镜413的边缘与第一微透镜411和第二微透镜412的边缘稍重叠。
第一微透镜411的每一者可形成为具有沿纵向轴的第一焦距和沿横向轴的第二焦距，通过调整椭圆形的长轴和短轴来改变所述焦距。第二微透镜412的每一者可形成为具有与第一微透镜411的第一焦距的长度相似的第一焦距和与第一微透镜411的第二焦距的长度相似的第二焦距。同样，第三微透镜413可形成为具有与第一微透镜411或第二微透镜412相似的焦距。或者，第一微透镜411、第二微透镜412和第三微透镜413可形成为具有不同焦距。在任何情况下，微透镜311、312可形成为具有不同焦距以满足衬底420上的相应感光区域的形状和尺寸的需要。
微透镜阵列410的形成与微透镜阵列110的形成相似。通过沉积微透镜材料、图案化、回流和固化来制造每一多个微透镜411、412、413，第一微透镜411不受在第二微透镜412形成期间后续回流的影响，且第二微透镜412不受在第三微透镜413形成期间后续回流的影响。通过(例如)以放射式形成间隔开的第一微透镜411，由以独立工艺形成的第二微透镜412填充所述间隔和由以另一独立工艺形成的第三微透镜413填充所述间隔来制造微透镜阵列410，从而减少在第一微透镜411、第二微透镜412与第三微透镜413之间的桥连。这是因为第一微透镜411已经过回流工艺使得其不受任何后续回流工艺的影响。因此，随后将第二微透镜材料回流成为第二微透镜412将不引起第一微透镜111与第二微透镜112之间的桥连。由于形成的微透镜彼此邻接，因此微透镜阵列410是近似无间隔的。
以下描述回流条件的实例。经历回流条件后微透镜的形状由若干因素限定，所述因素包括用于形成所述微透镜的材料的厚度和类型、回流温度分布和对材料进行的改变其玻璃转换温度Tg的任何预处理。所述预处理的实例包括紫外光曝光或预热所述材料到低于玻璃转换温度Tg的温度。第一回流条件的实例可包括提供具有第一厚度并取自第一类型材料的第一微透镜材料，用紫外线灯以特定量整片曝光所述第一微透镜材料并以第一温度升降速率回流所述第一微透镜材料，接着进行固化。第二回流条件可包括提供具有第二厚度的第一材料类型的第二微透镜材料，并以所述第一温度升降速率回流所述第二微透镜材料，接着进行固化。第三回流条件可包括提供具有第三厚度的第二材料类型的第三微透镜材料，预热所述材料一段设定时间使其达到低于所述第三微透镜材料的玻璃转换温度Tg的温度，然后以第二温度升降速率进行回流，接着进行固化。
参看图9，其描述用来形成微透镜阵列的工艺。在步骤150中，在衬底上图案化第一微透镜材料。如上文所描述所述图案化可为棋盘形图案或放射状图案，其包括在第一微透镜材料的部分之间的间隔。可使用单一光罩来制备第一微透镜材料图案的每一者。在图案化步骤中，在衬底上涂覆第一厚度微透镜材料薄膜，利用合适的掩模曝光所述材料并使其显影以溶解经曝光的微透镜材料(正性抗蚀剂)或溶解未经曝光的微透镜材料(负性抗蚀剂)。在步骤155中，在第一条件下回流所述第一微透镜材料。回流所述第一微透镜材料使所述材料转化为第一微透镜。在步骤160中，固化所述第一微透镜，从而形成棋盘形图案的稳固交联第一微透镜。
在步骤165中，在衬底上所述第一微透镜之间的一些间隔中图案化第二微透镜材料。可使用单一光罩来制备第二微透镜材料沉积的每一者。如果第二微透镜材料图案的尺寸和方向相同于第一微透镜材料图案(如参看图6所描述)，那么曾用于形成第一微透镜材料图案的图案的光罩可同样用于第二微透镜材料图案的图案。对于所述第二微透镜材料的图案，可在步进机作业中移动所述光罩。
在步骤170中，可在第二条件下回流第二微透镜材料以形成第二微透镜。所述第二条件可(例如)通过改变曝光量和/或漂白计量或步进烘焙温度而不同于第一条件。通过使用不同的回流条件，可形成具有相同或不同焦距的第一微透镜和第二微透镜。在步骤175中，执行第二固化。
在具有多个第三微透镜的微透镜阵列的形成中，执行步骤180到190，否则工艺结束。在步骤180中，在第一微透镜与第二微透镜之间的剩余开放间隔中图案化所述第三微透镜材料。在步骤185中，可在第三条件下回流所述第三微透镜材料以形成第三微透镜。所述第三条件可(例如)通过改变曝光量和/或漂白计量或步进烘焙温度而不同于第一和第二条件。通过使用不同的回流条件，可形成第三微透镜，以使其焦距与第一和第二微透镜的焦距相同或不同。在步骤190中，执行第三固化。
图10说明示范性成像装置200，其可利用具有根据本发明构造的微透镜的像素。所述成像装置200具有成像器像素阵列100，所述阵列包括具有如上文所述构造的微透镜的多个像素。由行驱动器202响应行地址解码器203选择性地启动行线。列驱动器204和列地址解码器205同样包括于所述成像装置200中。通过控制所述地址解码器203、205的定时和控制电路206来操作所述成像装置200。所述控制电路206还控制行驱动器电路202和列驱动器电路204。
与列驱动器204关联的取样保持电路207为选定的像素读取像素重设信号Vrst和像素成像信号Vsig。由差动放大器208为每一像素产生差动信号(Vrst-Vsig)且所述差动信号由模拟数字转换器209(ADC)数字化。所述模拟数字转换器209向图像处理器213提供数字化像素信号，所述处理器213形成并输出数字图像。
图11展示系统300，其为经改善以包括本发明的成像装置200(图10)的典型处理器系统。所述基于处理器的系统300是具有数字电路的示范性系统，其可包括图像传感器装置。所述系统不受限制，其可包括计算机系统、静态或视频摄影机系统、扫描器、机器视觉、汽车导航工具、视频电话、监视系统、自动聚焦系统、星体追踪仪系统、运动检测系统、图像稳定系统和数据压缩系统。
基于处理器的系统300(例如相机系统)通常包含例如微处理器的中央处理单元(CPU)395，所述中央处理单元(CPU)395经由总线393与输入/输出(I/O)装置391通信。成像装置200也经由所述总线393与所述CPU 395通信。基于处理器的系统300还包括随机存取存储器(RAM)392，并可包括例如快闪存储器的可移除存储器394，所述可移除存储器394也经由总线393与所述CPU 395通信。成像装置200可与例如CPU、数字信号处理器或微处理器的处理器组合，具有或不具有在单一集成电路上或在与所述处理器不同的芯片上的存储器存储。
尽管已结合当时已知的示范性实施例详细描述了本发明，但应易了解本发明不受所述所揭示的实施例限制。更为确切的为，可改善本发明以并入前文未描述但与本发明的精神和范围相当的任何数目的变化、更改、替代或等效配置。举例来说，虽然微透镜阵列展示为具有彼此邻接的微透镜，但由于执行多个回流工艺，因此后续形成的微透镜可与先前形成的微透镜重叠。此外，尽管某些微透镜展示为从微透镜阵列的垂直轴旋转特定旋转度数(例如，0°、+45°、-45°、90°、+22.5°、-22.5°、+67.5°或-67.5°)，但所述椭圆形微透镜的长轴可在任何合适的方向上旋转。此外，可仅执行两个回流工艺或可执行三个以上回流工艺来代替三个回流工艺。因此，本发明不应理解为由上文描述限制，而仅由附加权利要求书的范围限制。

Claims (29)

1.一种微透镜阵列，其包含：
多个第一微透镜；以及
多个椭圆形第二微透镜，其中所述多个第一微透镜和所述多个第二微透镜彼此相邻排列。
2.根据权利要求1所述的微透镜阵列，其中所述微透镜阵列是大体上无间隙的。
3.根据权利要求1所述的微透镜阵列，其中所述第二微透镜具有纵向轴，所述纵向轴以一角度偏离所述微透镜阵列的垂直轴。
4.根据权利要求1所述的微透镜阵列，其中所述多个第一微透镜的每一者具有与所述多个第二微透镜的每一者不同的形状。
5.根据权利要求1所述的微透镜阵列，其中所述多个第一微透镜的每一者具有椭圆形形状。
6.根据权利要求5所述的微透镜阵列，其中所述多个第一微透镜的每一者具有纵向轴，所述纵向轴以一相同角度偏离所述微透镜阵列的所述垂直轴，如同所述多个第二微透镜的每一者的纵向轴。
7.根据权利要求5所述的微透镜阵列，其中所述多个第一微透镜的每一者具有纵向轴，所述纵向轴以一不同角度偏离所述微透镜阵列的所述垂直轴，如同所述多个第二微透镜的每一者的纵向轴。
8.根据权利要求1所述的微透镜阵列，其进一步包含多个第三微透镜。
9.根据权利要求8所述的微透镜阵列，其中所述第三微透镜为椭圆形。
10.根据权利要求8所述的微透镜阵列，其中所述第一微透镜、所述第二微透镜和所述第三微透镜是以放射状配置排列于中心点四周。
11.一种成像器，其包含：
形成于衬底中的像素阵列，所述像素阵列具有至少第一和第二感光区域的阵列；以及
在所述像素阵列上的第一组微透镜，所述第一组微透镜具有第一焦距和第二焦距。
12.根据权利要求11所述的成像器，其中所述第一组微透镜为椭圆形。
13.根据权利要求12所述的成像器，其中所述椭圆形微透镜具有纵向轴，所述纵向轴以一角度偏离所述第一微透镜阵列的垂直轴。
14.根据权利要求11所述的成像器，其进一步包含第二组微透镜。
15.根据权利要求14所述的成像器，其中所述第二组微透镜大体上为正方形。
16.根据权利要求14所述的成像器，其中所述第二组微透镜的每一微透镜位于所述第一组微透镜的两个微透镜之间。
17.根据权利要求11所述的成像器，其中至少所述第一感光区域是不对称的。
18.根据权利要求14所述的成像器，其中所述微透镜阵列是以棋盘形图案排列。
19.根据权利要求14所述的成像器，其中所述微透镜阵列是以放射状图案排列。
20.根据权利要求14所述的成像器，其进一步包含第三组微透镜，其中所述第三组微透镜的每一微透镜位于所述第一组微透镜和所述第二组微透镜的两个微透镜之间。
21.一种形成成像装置的方法，其包含：
提供具有至少一个不对称感光区域的像素阵列；
在所述像素阵列上图案化第一组微透镜材料；
在第一回流条件下回流所述第一组微透镜材料；
固化所述第一组微透镜材料以形成第一组微透镜；
在所述像素阵列上图案化第二组微透镜材料；
在第二回流条件下回流所述第二组微透镜材料；以及
固化所述第二组微透镜材料以形成第二组微透镜，其中所述第一组微透镜材料经图案化，使得所述第一组微透镜材料在所述第一回流条件下形成椭圆形形状。
22.根据权利要求21所述的方法，其中所述第一回流条件不同于所述第二回流条件。
23.根据权利要求21所述的方法，其中所述图案化所述第一组微透镜材料的步骤包含：
将所述第一组微透镜材料图案化成以棋盘形图案排列的第一多个部分，所述棋盘形图案包括所述部分之间的间隔。
24.根据权利要求23所述的方法，其中所述图案化所述第二组微透镜材料的步骤包含：
将所述第二组微透镜材料图案化成以互补棋盘形图案排列的第二多个部分，从而填充在所述第一多个部分之间的所述间隔的至少一些间隔中。
25.根据权利要求21所述的方法，其中所述图案化所述第一组微透镜材料的步骤包含：
将所述第一组微透镜材料图案化成以放射状图案排列的第一多个部分，所述放射状图案具有在所述第一多个部分之间的间隔。
26.根据权利要求25所述的方法，其中所述图案化所述第二组微透镜材料的步骤包含：
将所述第二组微透镜材料图案化成第二多个部分，从而填充在所述第一多个部分之间的所述间隔的至少一些间隔中。
27.根据权利要求21所述的方法，其进一步包含以下步骤：
在所述像素阵列上图案化第三组微透镜材料；
在第三回流条件下回流所述第三组微透镜材料；以及
固化所述第三组微透镜材料以形成第三组微透镜。
28.根据权利要求27所述的方法，其中所述第三回流条件不同于所述第一回流条件和所述第二回流条件。
29.根据权利要求28所述的方法，其中所述第三组微透镜材料经图案化，使得所述第三组微透镜材料在所述第三回流条件下形成椭圆形形状。
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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