CN101277576A - 双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统 - Google Patents

双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统 Download PDF

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Abstract

本发明公开一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,包括一个高频电源,一个电机马达,放电电极和电极壳体等,其放电电极是多组平行的、被玻璃管或陶瓷管包覆的、之间有相同间隙的上下金属管电极构成,该包覆上下金属管电极的两个绝缘材料管在电极之间形成双介质,上下电极管的两端分别与轴承连接,上电极管通过电机马达带动自转,下电极管由穿过两个电极之间的薄膜带动自转,上下金属管分别与一个高频电源连接,上下电极管放置在一个壳体中,当薄膜材料通过上下金属管电极之间时,其表面得到等离子体的改性处理。

Description

双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统
技术领域
本发明涉及一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,尤指多组金属管电极分别用玻璃管或陶瓷管包覆的、在放电进行时电极自身转动的,在电极之间可以穿过薄膜材料的放电装置。
背景技术
等离子体技术是在近年才迅速发展起来的,并已得到广泛的应用,例如可用于:(1)微电子工业硅片清洗,替代目前的酸和去离子水清洗。(2)清洗所有的生化污染表面,包括被生化武器污染的表面和空间。(3)替代湿化学法,可用于制药和食品行业原位消毒。(4)用于医疗器件消毒和皮肤病的治疗。(5)食品保鲜杀菌。(6)薄膜材料的表面改性。(7)纺织企业衣料改性。(8)刻蚀金属、半导体和电介质材料等。
在空气中进行的介质阻挡放电一般是在两个电极之间放置一个绝缘介质,放电是直接击穿的空气,放电所产生的局部微电弧电流比较大,在用于处理高分子材料时,容易在材料表面产生局部烧蚀,对材料表面的局部破坏比较大,对材料表面的处理也不均匀,从而影响了材料表面的性质。
发明内容
本发明的目的在于提供一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,尤指多组金属管电极分别用玻璃管或陶瓷管包覆的、在放电进行时电极自身转动的,在电极之间可以穿过薄膜材料的放电装置。
本发明提供一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,包括一个高频电源,一个电机马达,放电电极和电极壳体等,其放电电极是多组平行的、被玻璃管或陶瓷管包覆的、之间有相同间隙的上下金属管电极构成,该包覆上下金属管电极的两个绝缘材料管在电极之间形成双介质,上下电极管的两端分别与轴承连接,上电极管通过电机马达带动自转,下电极管由穿过两个电极之间的薄膜带动自转,上下金属管分别与一个高频电源连接,上下电极管放置在一个壳体中,当薄膜材料通过上下金属管电极之间时,其表面得到等离子体的改性处理。
所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:在壳体的上板面上设有多组平行的、具有相同间隙的、被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极和在多组电极两侧的传导辊轴。
所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:多组上下金属管电极的两端分别固定在绝缘支架上,多组上金属管电极用步进电机带动自转,多组下金属管电极被薄膜材料带动形成自转。
所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:多组上下金属管电极的两端分别与电源的高压输出端连接,放电是在常压下进行。
所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:在多组上下金属管电极的两侧安装有薄膜材料传动轴。
所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:在壳体的上面设有一个排气罩。
本发明双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其优点是:1、电极管被分别被玻璃管或陶瓷管包覆,电极之间所形成的是均匀准辉光放电间隙。2、在两个放电间隙之间存在双介质。3、在两个电极之间放电进行时,电极本身被马达或薄膜带动自转,这避免了电极局部受热不均匀。
本发明是在大气压下产生低温均匀等离子体放电缝隙,主要用途是:对穿过该缝隙的各种薄膜材料进行表面改性处理。
附图说明
图1为本发明实施例双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统侧面结构示意图;
图2为本发明实施例双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统正面结构示意图;
图3为本发明实施例双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统放电主体和电源连接示意图;
图4为本发明实施例双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统放电主体侧面结构示意图。
具体实施方式
下面参照附图,结合具体的实施例对本发明进行详细的描述。参阅图1和图2,分别为本发明实施例的正面结构示意图和侧面结构示意图;如图1和图2所示,双介质阻挡放电处理薄膜材料表面装置,包括一个安装高频高压电源108的壳体107,在壳体的上面板106设有多组平行的、被玻璃管或陶瓷管包覆的、之间有相同间隙的上金属管电极101和下金属管电极102,其中上金属管电极101用马达109带动自转,下金属管电极102被薄膜材料105带动形成自转,当薄膜材料105通过上下金属管电极之间100时,其表面得到放电处理。在上下金属管电极101和102的两侧设有传导辊轴103和104。
图3和图4分别为等离子体放电主体示意图。上金属管电极101和下金属管电极102分别被玻璃管101-1和102-1包覆,上金属管电极101通过轴承101-2固定在支架101-3上,马达109通过皮带205和齿轮204带动上金属管电极101转动;下金属管电极102通过轴承102-2固定在支架102-3上。高频高压电源108通过导线206分别与上下金属管电极101和102连接。
在控制壳体107的四个角上设有脚轮203,在壳体上面的等离子体放电主体上方设有排气罩201,在排气罩上方的中部设有排气孔202。
高频高压电源108的频率选择范围为:1-100KHz,放电电压范围为:4-15KV。
壳体107由金属材料制成,例如由不锈钢、铝、铜等加工制成;排气罩201由金属材料,例如由不锈钢、铝、铜等加工制成,也可以用塑料制成;壳体的上面板106可以用塑料面板制成;电极101和102用铝管或铁管制成,包覆上金属管电极101和下金属管电极102的绝缘材料管可以选用玻璃管、石英管或陶瓷管。
上面参考附图结合具体的实施例对本发明进行了描述,然而,需要说明的是,对于本领域的技术人员而言,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,可以对上述实施例作出许多改变和修改,这些改变和修改都落在本发明的权利要求限定的范围内。

Claims (7)

1. 一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,包括一个高频电源,一个电机马达,放电电极和电极壳体等,其放电电极是多组平行的、被玻璃管或陶瓷管包覆的、之间有相同间隙的上下金属管电极构成,该包覆上下金属管电极的两个绝缘材料管在电极之间形成双介质,上下电极管的两端分别与轴承连接,上电极管通过电机马达带动自转,下电极管由穿过两个电极之间的薄膜带动自转,上下金属管分别与一个高频电源连接,上下电极管放置在一个壳体中,当薄膜材料通过上下金属管电极之间时,其表面得到等离子体的改性处理。
2. 如权利要求1所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:高频电源是频率选择范围为:1-100KHz,放电电压范围为:4-15KV,是安装在一个控制壳体上,在控制壳体的板面上安装有电源控制开关。
3. 如权利要求1所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:在壳体的上板面上设有多组平行的、具有相同间隙的、被玻璃管或陶瓷管包覆的上下金属管电极,上下多组电极通过轴承固定在上板面上。
4. 如权利要求1和3所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:多组上下金属管电极的两端分别固定在绝缘支架上,多组上金属管电极用步进电机带动自转,多组下金属管电极被薄膜材料带动形成自转。
5. 如权利要求1或4所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:多组上下金属管电极的两端分别与电源的高压输出端连接,放电是在常压下进行。
6. 如权利要求1所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:在多组上下金属管电极的两侧安装有薄膜材料传动轴。
7. 如权利要求1所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统,其特征在于:在上下电极管的上面设有一个排气罩。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102307425A (zh) * 2011-06-24 2012-01-04 北京大学 一种可组合式阵列等离子体发生装置
CN102056390B (zh) * 2009-10-28 2012-10-03 中国科学院微电子研究所 一种组合等离子体放电装置
CN102896115A (zh) * 2011-07-26 2013-01-30 中国科学院微电子研究所 一种新型的常压介质阻挡型活性自由基清洗设备
CN103978675A (zh) * 2014-05-30 2014-08-13 北京振戎融通通信技术有限公司 一种医用材料表面改性系统及其方法
CN105908484A (zh) * 2016-06-21 2016-08-31 孙世元 一种纺织加工用常压等离子体处理装置
CN110035594A (zh) * 2019-03-18 2019-07-19 西安交通大学 基于介质阻挡放电等离子体的材料改性装置、系统及方法
CN110523734A (zh) * 2019-09-20 2019-12-03 江苏新宏大集团有限公司 一种轻量化无吊挂吸排气罩
CN112509907A (zh) * 2020-11-30 2021-03-16 中船重工安谱(湖北)仪器有限公司 一种介质阻挡辉光放电离子源结构
CN115066080A (zh) * 2022-07-14 2022-09-16 佛山科学技术学院 一种基于二氧化碳气氛的低温常压等离子体表面亲水改性装置及方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102056390B (zh) * 2009-10-28 2012-10-03 中国科学院微电子研究所 一种组合等离子体放电装置
CN102307425A (zh) * 2011-06-24 2012-01-04 北京大学 一种可组合式阵列等离子体发生装置
CN102896115A (zh) * 2011-07-26 2013-01-30 中国科学院微电子研究所 一种新型的常压介质阻挡型活性自由基清洗设备
CN103978675A (zh) * 2014-05-30 2014-08-13 北京振戎融通通信技术有限公司 一种医用材料表面改性系统及其方法
CN105908484A (zh) * 2016-06-21 2016-08-31 孙世元 一种纺织加工用常压等离子体处理装置
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CN110523734A (zh) * 2019-09-20 2019-12-03 江苏新宏大集团有限公司 一种轻量化无吊挂吸排气罩
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