CN101276716B

CN101276716B - 等离子显示面板及其制造方法

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Publication number: CN101276716B
Application number: CN2008100878985A
Authority: CN
Inventors: 堀川晃宏; 名木野俊文
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2007-03-28
Filing date: 2008-03-27
Publication date: 2010-06-02
Anticipated expiration: 2028-03-27
Also published as: JP4335265B2; JP2008243687A; US20080272684A1; KR20080088500A; KR100927081B1; CN101276716A; US7857675B2

Abstract

本发明提供在将两层结构的总线电极一并曝光及显影而形成电极图案时，抑制电极宽度方向端部的突出，绝缘耐压不良的等离子显示面板的制造方法。在使用掩模的光刻法中，在形成两层结构的电极图案时，遮住形成电极图案的电极材料的糊剂膜的部分表面的一部分，同时，照射光而曝光，由此在显影后的电极表面形成凹部，利用该凹部分离抑制电极宽度方向中央部的热收缩、和端部的热收缩。

Description

等离子显示面板及其制造方法

技术领域

本发明涉及等离子显示面板及其制造方法，尤其涉及前面板的电极的表面形状具有特征的等离子显示面板及其制造方法。

背景技术

等离子显示面板(以下，称为PDP)具有将对置配置的前面板及背面板的周缘部密封的结构，在前面板和背面板之间形成的放电空间中封入有氖(Ne)及氙(Xe)等放电气体。

前面板在玻璃基板的一面具备：由以条纹状形成的扫描电极和维持电极构成的多个显示电极、和覆盖这些显示电极的电介体层及保护层。显示电极分别利用透明电极、及形成于该透明电极上的金属材料构成的总线电极构成。

背面板在玻璃基板的一面具备：在与显示电极正交的方向上以条纹状形成的多个地址电极、覆盖这些地址电极的基底电介体层、按地址电极划分放电空间的条纹状隔壁、和在隔板间的槽依次涂敷的红色、绿色及蓝色的荧光体层。

显示电极和地址电极相互正交，其交叉部成为放电单元。这些放电单元排列为矩阵状，具有在显示电极的方向上排列的红色、绿色及蓝色的荧光体层的三个单元成为用于彩色显示的像素。PDP依次向扫描电极-地址电极间、及扫描电极-维持电极间施加规定的电压，产生气体放电，用该气体放电产生的紫外线激励荧光体层，使其发光，由此显示彩色图像。

在此，作为总线电极，使用铝(Al)电极或铬(Cr)/铜(Cu)/铬(Cr)电极的情况下，将半导体工序作为基础，进行成膜及图案形成而形成。因此，以高精度形成该总线电极，但是成膜需要溅射法等的真空装置，由此导致装置成本变高的缺陷。因此，例如，通过印刷法或辊涂法等不需要特别的真空装置的方法，涂敷使用银(Ag)粉末的电极糊剂，形成银(Ag)电极的总线电极的情况也居多。

使用银(Ag)粉末的电极糊剂中含有作为固态成分的导电剂即银(Ag)粉末、或用于粘接的玻璃料、作为介质成分的纤维素树脂等树脂及萜烯系溶剂等溶剂。

另外，近年来，为了提高画面的对比度，将总线电极形成为作为显示侧的黑层(与透明电极接触的层)、和配置于其上的白层两层结构。黑层通过涂敷黑色的电极糊剂而形成，自层通过在其上涂敷导电性的电极糊剂而形成。在这种情况下，作为黑色的电极糊剂，使用配合了铜-铁(Cu-Fe)系、铜-铬(Cu-Cr)系等黑色复合氧化物的树脂组合物。

具体来说，由这些电极糊剂形成的总线电极可以通过按各层涂敷、形成图案(曝光及显影)，然后进行烧成而形成。另外，为了以更少的工序制造PDP，公开了将构成两层结构的总线电极的两层及黑矩阵一并显影的方法、及将黑层和白层一并曝光显影的方法(例如，参照专利文献1)。在专利文献1中公开的方法被认为能够有效形成电极。

【专利文献1】特开2004-63247号公报

本发明人等经探讨结果得出，如专利文献1中所述，在将黑层和白层一并曝光显影的情况下，光不充分到达下层，下层的固化不充分。其结果，固化不充分的下层与上层相比，显影时被除去的量变多，在显影后的状态下，下层的宽度相对于上层的宽度变小。这样的总线电极的显影后的剖面示意图示于图3中。

若烧成这样的电极，则由于热收缩，如图4所示，在白层及黑层中，各自欲收缩的力发生作用，产生如图5所示的合力。在此，在显影后残留有黑层的区域4中，如图4所示，在烧成时，白层和黑层的界面的力抵消。因此，作为合力，如图5所示，在白层表面部上，朝向玻璃基板的方向的大的力7发生作用。另外，在显影时黑层的被削减的区域5中，如图4所示，不局限于黑层，产生朝向白层内部收缩的力8。

这些力发生的结果，如图5所示，由于在所述白层表面发生作用的、朝向玻璃基板的方向的大的合力7、和朝向所述白层内部收缩的力8的合力，在白层表面部将其端部向宽度方向的中央部牵引的力9发生作用。若该力9发生作用，则在白层上发生大的挠曲，并且电极宽度方向端部被卷起，向上方大大突出。若以这样电极突出的状态制造PDP，则突出部分的电介体变薄，另外，向电极施加电压时，在突出部分的局部集中电荷。其结果，容易发生绝缘耐压不良，降低制造成品率，导致大幅度增大制造成本的问题。

另外，近年来，对进一步的高精细化和低价格化的要求日益变得强烈，为了实现这个，需要在配置更多的电极的情况下，也不发生绝缘耐压不良，成品率良好，以稳定的低成本制造PDP。因此，将能够以更少的工序制造的总线电极两层一并进行曝光及显影，同时，不发生绝缘耐压不良的制造方法还未实现的情况成为课题。

发明内容

本发明是为了解决上述课题而做成的，其目的在于提供将两层结构的电极图案的表面形状设计为抑制电极宽度方向端部的突出，且显示高绝缘耐压性能的PDP及其制造方法。

为了实现上述目的，本发明是一种等离子显示面板的制造方法，在玻璃基板上涂敷成为下层电极的第一材料而形成第一层，在所述第一层的表面上涂敷成为上层电极的第二材料而形成第二层，

通过向形成电极的部分，遮住形成所述电极的部分的表面的一部分而照射光，进行曝光后经显影而形成电极，

所述等离子显示面板的制造方法提供：遮住形成所述电极的部分的表面的一部分的遮光部件的与电极的宽度方向平行的方向的尺寸(以下称为“宽度”)T为2μm≤T≤10μm，

曝光后形成的电极的宽度方向端部、和所述遮光部件的宽度方向的端部的间隔L为1μm≤L≤10μm的PDP的制造方法。

在此，“玻璃基板上”是指包括在玻璃基板的表面直接形成第一层的情况、及在形成于玻璃基板的表面的其他层的表面形成第一层的情况的任一种。另外，“电极的宽度方向”是指在二维上观察电极的情况下(即，忽略电极的厚度时)，与电极较长地延伸的方向正交而较短地延伸的方向。电极较长地延伸的方向被称为“电极的长边方向”。

认为：若利用这样的方法形成具有两层的电极，则能够在显影后的电极表面设置凹部，能够分离抑制在烧成中发生的电极宽度方向中央部和端部的热收缩。其结果，能够形成抑制了上层的挠曲和电极宽度方向端部的突出的电极，能够提供具有高绝缘耐压性能的PDP。该制造方法在形成由白层和黑层构成的总线电极时优选适用。

在所述曝光中，优选遮光部件的宽度T为2μm≤T≤10μm，另外，具有这样的宽度的遮光部件优选以使自曝光后形成的电极的上层表面的宽度方向端部至遮光部件的宽度方向的端部的电极宽度方向距离L为1μm≤L≤10μm的方式覆盖形成电极的部分的表面。若采用这样的遮光部件的位置及宽度，则不会产生导致电极的缺陷及电极性能的降低的程度的大小的凹部，分离抑制电极宽度方向中央部和端部的烧成时的热收缩，而且能够有效抑制白层的挠曲和电极宽度方向端部的突出。

在所述曝光中，优选遮住形成电极的部分的表面(即，第二层的一部分表面)的一部分的遮光部件在与电极长边方向平行的方向上延伸。通过将遮光部件形成为在与电极的长边方向平行的方向上延伸的形状及尺寸，在玻璃基板面内，进一步减少电极宽度方向中央部和端部的烧成时的热收缩的不均，能够稳定地分离控制。其结果，能够在玻璃基板面内，进一步减少不均，更稳定地形成抑制了白层的挠曲和电极宽度方向端部的突出的电极。

在本发明的制造方法中，优选电极是包含于构成前面板的显示电极中的总线电极，所述总线电极具有位于下侧的黑层、和位于上侧的白层两层。

另外，在本发明的PDP的制造方法中，

也可以由如下所述的电极材料形成电极的一侧的层，所述电极材料中，作为导电性微粒，含有至少一种选自银(Ag)、铝(Al)、镍(Ni)、金(Au)、铂(Pt)、铬(Cr)、铜(Cu)、及钯(Pd)的金属或它们的合金构成的粒子。由包含这样的导电性微粒的电极材料构成的电极具有良好的导电性。

另外，在本发明的PDP的制造方法中，也可以由作为黑色成分含有四氧化三钴(Co₃O₄)微粒的电极材料形成电极的一侧的层(在将一方的层作为含有所述导电性微粒的层的情况下为另一方的层)。若将这样的由含有黑色成分的电极材料构成的烧成被膜作为电极、尤其总线电极的黑层形成，则在干燥、曝光、显影、及烧成的各工序中，不会损伤对基板的出色的粘附性、析像性、及烧成性，在烧成后，能够同时满足充分的层间导电性(例如，在总线电极的情况下为透明电极和白层的层间导通)、和充分的黑度。

另外，在本发明的PDP的制造方法中，也可以由如下所述的电极材料形成电极另一侧的层，所述电极材料中，作为黑色成分，含有选自铬(Cr)、钴(Co)、镍(Ni)、铁(Fe)、锰(Mn)、及钌(Ru)中的至少一种金属的氧化物。若将这样的由含有黑色成分的电极材料构成的烧成被膜作为电极、尤其黑层形成，则在干燥、曝光、显影、及烧成的各工序中，不会损伤对基板的出色的粘附性、析像性、及烧成性，在烧成后，能够同时满足充分的层间导电性(例如，透明电极和白层的层间导通)、和充分的黑度。

本发明还提供按照本发明的制造方法制造的等离子显示面板。即本发明的等离子显示面板，

具有夹持放电空间的一对前面板及背面板，

在前面板的基板的内表面上具有相互平行的由扫描电极和维持电极构成的多个显示电极，

在背面板的基板的内表面上具有配置于与所述显示电极交叉的方向上的多个地址电极、按单位发光区域划分所述放电空间的隔壁、和利用放电发光的荧光体，其中，

所述显示电极由透明电极、及形成于该透明电极上的总线电极构成，该总线电极具有位于下侧的黑层、和位于上侧的白层两层，

在将该总线电极的宽度方向端部的突出的高度(在两端部的高度不相同时为较高端部的高度)Te、与将所述总线电极的白层的宽度三等分而分为三个区域时的正中央区域上的总线电极的平均高度Tc之差设为突出量Ec时，Ec小于2.0μm。

在该显示面板中，具有两层的结构的总线电极的两端部的伸长量小，即白层的挠曲小。从而，该显示面板的成品率良好，能够稳定地制造。另外，在该显示面板中，覆盖其的电介体层的厚度局部地变小的情况不存在或被缓和，从而不易发生绝缘耐压不良。

根据本发明的制造方法可知，通过遮住需要构成电极图案的部分的表面的一部分，同时照射光而曝光，进行显影，形成电极图案，由此，能够在显影后的电极表面形成凹部。其结果，能够分离控制电极宽度方向中央部和端部的烧成时的热收缩，能够形成抑制了白层的挠曲和电极宽度方向端部的突出的电极。从而，根据该制造方法可知，能够提供具有高绝缘耐压性能的PDP。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式的PDP的结构的立体图。

图2是表示图1的PDP的前面板的结构的剖面图。

图3是表示利用以往法进行曝光及显影而形成的电极剖面的示意图。

图4是利用以往法进行曝光及显影而形成的电极在烧成时发挥作用的力的示意图。

图5是利用以往法进行曝光及显影而形成的电极在烧成时发挥作用的合力的示意图。

图6是基于本发明的实施方式的PDP的制造方法的总线电极的形成的工序流程图。

图7(a)是图6的步骤S1的工序剖面图。

图7(b)是图6的步骤S2的工序剖面图。

图7(c)是图6的步骤S3的工序剖面图。

图7(d)是图6的步骤S3的工序剖面图。

图7(e)是图6的步骤S3的工序剖面图。

图8是表示实施例中使用的遮光部件的俯视图。

图9是说明突出量的测量方法的剖面图。

图10是表示突出量和电火花不良率的关系的图表。

图中：4-显影后的黑层；5-显影时黑层被削减的区域；6-抵消的白层-黑层间的力；7-朝向玻璃基板的合力；8-向白层内部收缩的力；9-将白层表面部向白层宽度方向中央部牵引的力；12-前面板；13-前面玻璃基板；14-扫描电极；14a、15a-透明电极；14b、15b-总线电极；14c、15c-白层；14d、15d-黑层；15-维持电极；16-显示电极；17-黑条纹(遮光层)；18-电介体层；19-保护层；20-背面板；21-背面玻璃基板；22-地址电极；23-基底电介体层；24-隔壁；25-荧光体层；26-放电空间；31-曝光掩模；32-遮光部件；33-凹部被填埋的部分；100-等离子显示面板。

具体实施方式

使用附图，对本发明的实施方式的PDP的制造方法及利用该方法制造的PDP的结构进行说明。

首先，使用图1及图2，说明利用本发明的实施方式的PDP的制造方法制造的PDP结构。图1是表示本发明的实施方式的PDP的结构的立体图。图2是表示图1的PDP的前面板的结构的剖面图。还有，值得注意的是，图1及图2均表示PDP的一部分。

如图1所示，在PDP100中，对置配置有作为第一基板的前面板12、和作为第二基板的背面板20，其外周部被由玻璃料等构成的密封部件(未图示)保密密封。在密封的PDP100内部的放电空间26中以53200Pa～79800Pa的压力封入有氖(Ne)及氙(Xe)等放电气体。

在构成前面板12的前面玻璃基板13的一表面分别相互平行地配置有多个：一对带状显示电极16，其是第一导电膜，由扫描电极14及维持电极15构成；黑条纹(遮光层)17。所述玻璃基板13的形成有显示电极16、和黑条纹17的表面形成有覆盖它们的发挥电容器的作用的电介体层18。进而，在电介体层18的表面形成有由氧化镁(MgO)等构成的用于保护电极的保护层19。

在构成背面板20的背面玻璃基板21上，作为第二导电膜的多个带状地址电极22相互平行地配置于与前面板12的扫描电极14及维持电极15正交的方向上。该地址电极22被基底电介体层23覆盖。

进而，在地址电极22间的基底电介体层23的表面形成有划分放电空间26的规定的高度的隔壁24。在隔壁24间的槽按地址电极22依次涂敷形成有利用紫外线分别发红色、蓝色及绿色的荧光体层25。在扫描电极14及维持电极15、和地址电极22交叉的位置形成有放电单元，具有在显示电极16上排列的红色、蓝色、绿色的荧光体层25的放电单元成为用于彩色显示的像素。

在图2中，将图1的前面板12上下倒置，以剖面图更详细地示出前面板12的结构。前面玻璃基板13利用浮法等制造。由扫描电极14及维持电极构成的显示电极16、及黑条纹17形成有图案。

扫描电极14及维持电极15分别包括：由氧化铟(ITO)或氧化锡(SnO₂)等构成的透明导电膜即透明电极14a、15a、和形成于透明电极14a、15a上的总线电极14b、15b。总线电极14b、15b是为了在透明电极14a、15a的长边方向上赋予导电性而形成的。总线电极在图示的形态中为两层结构，各层的材料将后述。

电介体层18设置为覆盖形成于前面玻璃基板13的表面的这些透明电极14a、15a、总线电极14b、15b、及黑条纹17。进而，在电介体层18上形成有保护层19。

其次，对PDP100的制造方法进行说明。

首先，在前面玻璃基板13上形成构成扫描电极14及维持电极15的透明电极14a、15a。透明电极14a、15a通过使用光刻法等形成为具有规定的图案。其次，使用光刻法，将黑条纹17形成为具有规定的图案。黑条纹的材料是含有黑色颜料的糊剂。

进而，在透明电极14a、15a上使用电极材料糊剂涂敷构成总线电极14b、15b的层，使用光刻法形成图案，进而烧成，由此形成总线电极14b、15b。在此，总线电极14b、15b的材料是含有导电粒子或银(Ag)材料的电极材料糊剂。本发明的制造方法在将该总线电极如图2所示地形成为两层结构的情况下尤其优选适用。两层结构的总线电极的形成方法的详细情况后述。

其次，以覆盖扫描电极14、维持电极15及黑条纹17的方式，在前面玻璃基板13上，利用模涂法等涂敷电介体玻璃糊剂，进而，将其烧成，形成5μm～50μm的厚度的电介体层18。在此，电介体玻璃糊剂是含有粉末的电介体玻璃料、粘合剂及溶剂的涂料。进而，利用真空蒸镀法，在电介体层18上形成0.3μm～1μm的厚度的由氧化镁(MgO)构成的保护层19。通过以上的工序，在前面玻璃基板13的表面上配置规定的结构部件，完成前面板12。

背面板20如下所述地形成。首先，在背面玻璃基板21上，使用含有银(Ag)材料的糊剂，形成构成地址电极22的材料的层，并使该地址电极具有规定的图案。图案通过网板印刷糊剂的方法、或在玻璃基板的整个面上涂敷糊剂后，使用光刻法形成图案的方法等来形成。然后，以希望的温度烧成该层，形成地址电极22。

其次，利用模涂法等，在形成有地址电极22的背面玻璃基板21的表面以覆盖地址电极22的方式涂敷电介体玻璃糊剂，形成电介体糊剂层。然后，通过烧成电介体糊剂层，形成基底电介体层23。电介体玻璃糊剂是含有粉末的电介体玻璃料、粘合剂及溶剂的涂料。

其次，在基底电介体层23的表面涂敷含有隔壁材料的隔壁形成用糊剂，形成图案为规定的形状，形成隔壁材料层，然后，进行烧成，由此，形成隔壁24。在此，对在基底电介体层23上涂敷的隔壁用糊剂形成图案的方法，可以使用光刻法、或喷砂法。

其次，在相邻接的隔壁24间的基底电介体23的表面及隔壁24的侧面涂敷含有荧光材料的荧光体糊剂，然后，进行烧成，由此形成荧光体层25。通过以上的工序，在背面玻璃基板21上形成规定的结构部件，完成背面板20。

这样，将具备规定的结构部件的前面板12和背面板20以显示电极16和地址电极22正交的方式对置配置，并将其周围用密封部件密封。进而，向放电空间26中封入含有氖(Ne)及氙(Xe)等的放电气体，由此完成PDP100。

在上述中，对等离子显示面板的制造方法的概略进行了说明。其次，对总线电极14b、15b的形成方法进而详细的说明。在该实施方式中，总线电极包括白层和黑层两层结构。图6是用于形成这样的总线电极的工序流程图。

首先，在步骤S1中，涂敷黑层及白层的电极材料糊剂，将其干燥，形成电极糊剂的膜。更具体来说，涂敷黑层，使其干燥后，在其表面涂敷白层，将其干燥。然后，在步骤S2中，根据图案，用掩模遮住步骤S1中形成的电极糊剂的膜的表面，并且遮住需要形成图案的部分的表面的一部分(即，构成的白层的电极的部分的表面的一部分)，同时，照射光进行曝光。步骤S3是将在步骤S2中曝光的电极糊剂的膜进行显影后，烧成的步骤，若该步骤结束，则形成总线电极。

图7是与图6对应的工序剖面图，图7(a)是表示步骤S1的工序剖面图，图7(b)是表示步骤S2的工序剖面图，图7(c)、图7(d)及图7(e)是表示步骤S3的工序剖面图。

图7(a)表示在前面玻璃基板13的表面形成的透明电极14a(或15a)上分别涂敷成为白层14c(或15c)及黑层14d(或15d)的电极材料糊剂，将其在100℃下干燥的状态的电极糊剂的膜。电极糊剂均为感光性糊剂。构成白层14c(或15c)的电极糊剂优选在烧成后形成为具有3～50μm的厚度，构成黑层14d(或15d)的电极糊剂优选在烧成后形成为具有0.5～5μm的厚度。

电极材料糊剂包括：导电性粒子、玻璃料、黑色无机微粒、感光性树脂及有机粘合剂等有机物的树脂、聚合引发剂、单体及有机溶剂等。导电性粒子主要含于白层，黑色无机微粒主要含于黑层。根据情况，白层及黑层在不影响它们的功能的情况下，分别含有黑色无机微粒及导电性粒子也可。在利用辊涂机等涂敷该电极材料糊剂后，将其干燥，由此，使大部分的有机溶剂蒸发。从而，干燥后的电极糊剂的膜包括：除了蒸发的有机溶剂之外的导电性微粒、玻璃料、感光性树脂、有机粘合剂等有机物的树脂(包括单体聚合的树脂)及单体等。

作为涂敷电极材料糊剂的方法，可以使用辊涂法、模涂法、旋涂法、及刮刀涂法等。

如上所述，作为电极材料糊剂，使用分别按规定的比率混合以下所述的物质的糊剂，即：银(Ag)粒子等导电性微粒、以氧化铋(Bi₂O₃)、氧化硼(B₂O₃)、及/或氧化硅(SiO₂)等为主成分的玻璃料；黑色无机微粒(仅黑层)、聚合引发剂、感光性树脂及有机粘合剂等有机物的树脂、单体、及有机溶剂。以下，对成分进行说明。

作为导电性微粒，适合使用粒径0.1μm～50μm的银(Ag)粒子。若银粒子的粒径小于0.1μm，则容易发生银(Ag)粒子之间的凝聚，总线电极14b(或15b)的电阻值也变得不恒定。另外，若银(Ag)粒子的粒径大于50μm，则银(Ag)粒子超出总线电极14b(或15b)的高度，不能形成具有恒定且均一的图案的总线电极14b(或15b)。除了银粒子之外，可以将选自导电性良好的铝(Al)、镍(Ni)、金(Au)、铂(Pt)、铬(Cr)、铜(Cu)、及钯(Pd)中的金属构成的粒子、或它们的合金构成的粒子用作电极材料用导电性微粒。这些导电性微粒在本发明的实施方式中优选含于白层中。或者，这些导电性微粒含于黑层也可。

作为玻璃料，优选使用以氧化铋(Bi₂O₃)、氧化硼(B₂O₃)、及/或氧化硅(SiO₂)等为主成分的低熔点玻璃料。但是，只要是能够形成希望的电极形状的玻璃材料，就不限于以这些为主成分的玻璃，可以使用其他的玻璃料。

其次，对黑色无机微粒进行说明。黑色无机微粒主要含于黑层。或者，黑色无机微粒含于白层也可。作为黑色无机微粒，适合使用四氧化三钴(Co₃O₄)微粒。在作为黑色无机微粒添加四氧化三钴(Co₃O₄)微粒的情况下，即使添加少量，也能得到具有充分的黑色度且致密的烧成被膜，因此，能够以薄的膜厚实现充分的对比度。其结果，尤其，就黑层来说，在干燥、曝光、显影、及烧成的各工序中，不会损伤对基板优越的粘附性、析像性、及烧成性，在烧成后，能够形成烧成被膜，其能够同时满足充分的层间导电性(透明电极和白层的层间导通)及黑度。另外，四氧化三钴(Co₃O₄)微粒的与聚合引发剂、感光性树脂等有机成分或有机溶剂等的亲和性高，因此，通过组合使用四氧化三钴(Co₃O₄)微粒和这些有机成分及有机溶剂，能够得到保存稳定性优越的电极材料糊剂。

作为四氧化三钴(Co₃O₄)微粒，使用粒径5μm以下，优选0.05μm以上，5μm以下的微粒。通过使粒径为5μm以下，即使添加少量，也不会损伤粘附性，能够形成致密的烧成被膜，因此，尤其在黑层的情况下，能够同时满足充分的层间导电性(透明电极和白层的层间导通)及黑度。

另外，作为四氧化三钴(Co₃O₄)微粒，优选表面系数在1.0～20m²/g的范围的粒子。其理由如下，即：若其表面系数小于1.0m²/g，则利用曝光的图案形成的精度降低，即线边缘的直线性变差，另外，难以得到黑度的烧成被膜。另一方面若大于20m²/g，则粒子的表面积变得过大，在显影时，削减量变大。

作为黑色无机微粒，可以与四氧化三钴(Co₃O₄)微粒一同，或取而代之，配合耐热性黑色颜料。耐热性黑色颜料只要是耐热性优越的无机颜料，就不特别限定。通常，选自铬(Cr)、钴(Co)、镍(Ni)、铁(Fe)、么、及钌(Ru)中的金属的氧化物、及复合氧化物相当于耐热性黑色颜料，可以单独使用它们或组合两种以上使用。

感光性树脂是具有在照射光的情况下交联而不熔化的性质的树脂，例如是具有乙烯性不饱和双键的含羧基感光性树脂。具体来说，感光性树脂可以如下，使乙烯性不饱和基作为侧基与具有不饱和羧酸和不饱和双键的化合物的共聚物加成而得到的具有羧基的感光性树脂；使不饱和羧酸与具有环氧基和不饱和双键的化合物和具有不饱和双键的化合物的共聚物反应而生成的二级羟基、与使多价酸酐反应得到的含羧基感光性树脂；使具有羟基和不饱和双键的化合物与具有不饱和双键的酸酐和具有不饱和双键的化合物的共聚反应得到的含羧基感光性树脂；多价酸酐与环氧化合物和不饱和单体羧酸反应生成的二级羟基反应而得到的含羧酸感光性树脂；及使具有环氧基和不饱和双键的化合物、与使多价酸酐与含羟基聚合物反应得到的含羧基树脂进而反应而得到的含羧基感光性树脂等，但不限定于这些。这些感光性树脂可以单独或混合使用。

另外，作为发挥有机粘合剂功能的树脂，例如，可以举出聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁醛、甲基丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯聚合物、丙烯酸酯-甲基丙烯酸酯共聚物、α-甲基苯乙烯聚合物、及甲基丙烯酸丁酯树脂等，但不限定于这些。这些有机粘合剂可以单独或混合使用。

聚合引发剂用于聚合后述的单体而使用。聚合引发剂不特别限定，但可以为苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙基醚等苯偶姻和苯偶姻烷基醚类；苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1，1-二氯苯乙酮等苯乙酮类；2-甲基-1-[4-(甲基硫)苯基]-2-吗啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁酮-1等氨基苯乙酮类；2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌；2-叔丁基蒽醌；1-氯代蒽醌等蒽醌类；2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、2-氯代噻吨酮、2，4-二异丙基噻吨酮等噻吨酮类；苯乙酮二甲基缩酮、苄基二甲基缩酮等缩酮类、二苯甲酮等苯酮类；或呫吨酮类；(2，6-二甲氧基苯甲酰基)-2，4，4-戊基氧化膦、双(2，4，6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、2，4，6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦、乙基-2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基次膦酸盐等氧化膦类；及各种过氧化物类等。

作为单体，例如，可以举出丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸2-羟丙酯、二乙二醇二丙烯酸酯、三乙二醇丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚氨酯二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧乙烷改性三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷环氧丙烷改性三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯及与上述丙烯酸酯反应的各甲基丙烯酸酯类等，但不限定于这些。单独使用单体，生成均聚物也可，或选择多个单体，生成共聚物也可。

作为有机溶剂，可以举出丁酮、环己酮等酮类、三烯、二甲苯、四甲基苯等芳香族烃类；溶纤剂、甲基溶纤剂、卡必醇、甲基卡必醇、丁基卡必醇、丙二醇单甲基醚、二丙二醇单甲基醚、三乙二醇单乙基醚等二醇醚类；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙酸溶纤剂、丁基乙酸溶纤剂、乙酸卡必醇酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯等醋酸酯类；乙醇、丙醇、乙二醇、丙二醇、萜品醇等醇类；辛烷、癸烷等脂肪族烃、石油醚、石油粗汽油、溶剂石脑油等石油系溶剂，可以单独使用它们或组合两种以上使用。

在电极材料糊剂中，各成分的比例可适当选择。例如，希望在形成白层的糊剂中，相对于导电性微粒100质量份，玻璃料以0.5～200质量份，感光性树脂及有机粘合剂等有机物的树脂成分在将糊剂全部的质量设为100质量份时，相对于其以10～80质量份，聚合引发剂在将树脂成分的质量设为100质量份时，相对于其以1～30质量份，单体在将树脂成分的质量设为100质量份时，相对于其以20～100重量份，溶剂在将糊剂全部的质量设为100质量份时，相对于其以1～30质量份的比例含有。在形成黑层的糊剂中，希望相对于黑色无机微粒100质量份，玻璃料以0.5～200质量份，感光性树脂及有机粘合剂等有机物的树脂成分在将糊剂全部的质量设为100质量份时，相对于其以10～80质量份，聚合引发剂在将树脂成分的质量设为100质量份时，相对于其以1～30质量份，单体在将树脂成分的质量设为100质量份时，相对于其以20～100重量份，溶剂在将糊剂全部的质量设为100质量份时，相对于其以1～40质量份的比例含有。

其次，如图7(b)所示，在图7(a)的干燥状态的电极糊剂的膜的表面配置曝光掩模31，并且在需要构成电极图案的部分的表面配置遮光部件32，部分地遮住作为电极表面的表面，同时照射光而曝光。其结果，不仅在配置掩模31的部分，而且在电极图案表面也产生未曝光部分。对这样的状态的电极糊剂的膜剥离曝光掩模31及遮光部件32后，利用碱水溶液进行显影，除去未曝光部分，则显影后，如图7(c)所示，与用掩模31覆盖的部分对应的白层及黑层被除去，形成电极图案，并且能够形成与遮光部件32对应的部分成为凹部的电极。

在该实施方式中，遮光部件32配置两个，分别设置为在与电极长边方向(从表示附图的纸面向背面穿透的方向)平行的方向延伸。从而，与遮光部件32对应而形成的凹部形成沿电极的长边方向延伸的槽部。

在图7(b)中，凹部只形成于白层14c(或15c)。在其他实施方式中，凹部具有贯通白层14c(或15c)而到达黑层14d(或15d)的深度也可。但是，凹部不具有贯通黑层14而到达基板的深度。凹部的深度还取决于白层及黑层的厚度，但优选白层和黑层的总计高度的10％～80％，更优选15～50％。例如，凹部优选具有1～8μm的深度，更优选具有1.5～5μm的深度。若凹部浅，则不能分离电极宽度方向中央部的热收缩、和电极端部的烧成时的热收缩，在白层表面部产生向白层宽度方向中央部牵引白层的力，向电极宽度方向端部突出。另外，若凹部深，则电极容易缺欠，容易多发电极缺陷不良。还有，凹部的深度是指白层的表面(白层的表面不平坦时为最高的部位)和凹部的最深部位之间的厚度方向的距离。

为了得到这样的深度的凹部，遮光部件32如图7(b)所示，优选电极的宽度方向端部和遮光部件的宽度方向的端部的间隔L、即自电极图案宽度方向端部至遮光部件的宽度方向端部的电极宽度方向上的距离L配置为1μm≤L≤10μm，且遮光部件的电极宽度方向的宽度T为2μm＜T＜10μm。间隔L如图7(b)所示，通常是曝光掩模的端部(与电极的端部一致)、和遮光部件的端部之间的与电极宽度方向平行的方向上的距离。通过这样选择遮光部件的位置及宽度，能够形成如下所述的适当的深度的凹部，即：不会产生电极的缺陷、及损伤电极性能的程度的大小的凹部，能够分离控制电极宽度方向中央部和端部在烧成时的热收缩。

在图中，设置两个L及T满足上述范围的遮光部件32，对一个电极设置两个与电极长边方向平行地延伸的凹部(槽部)。遮光部件的数(即，凹部的数)不限定于两个，1个也可，或3个以上也可。遮光部件32由与曝光掩模31相同的材料形成，且作为掩模的一部分形成也可。遮光部件32可以与电极糊剂接触，也可以不接触。

在曝光工序中，可以使用具有规定的电极图案的曝光掩模(负掩模)31，实施接触曝光及非接触曝光。作为曝光光源，可以使用卤素灯、高压水银灯、激光、金属卤化物灯、黑灯、或无电极灯等。曝光量优选50～1000mJ/cm²左右。显影通过使用碳酸钠、氢氧化钠、氢氧化钙水溶液等之类的金属碱水溶液，用溅射法或浸渍法实施。

图7中以沿宽度截断剖面图表示显影后的电极形状。优选电极的高度H在1μm～50μm的范围内，优选电极的宽度W在10μm～500μm的范围内。若电极的高度H小于1μm，或电极的宽度W小于10μm，则烧成后的电阻变高，作为总线电极得不到充分的导电性。另外，若宽度W小于10μm，则在形成凹部时，电极容易发生缺欠，变得容易发生电极缺欠不良。进而，若电极的高度H大于50μm，或宽度W大于500μm，则烧成后，由总线电极14b(或15b)和前面玻璃基板13形成的凹凸(凹陷)的高低差变得过大，难以以均一的厚度涂敷电介体材料糊剂。

其次，图7(d)及图7(e)示出了将显影后的电极例如在400℃～600℃左右下烧成时发生的热收缩的状态。如图7(d)所示的电极在电极表面形成有凹部，因此，能够分离控制电极宽度方向中央部的热收缩、和电极端部在烧成时的热收缩。在显影后残留有黑层的区域4中，白层和黑层的界面的力抵消，玻璃基板方向的合力7作用于白层表面部，但是由于凹部的存在，不成为与在显影时黑层被削减的区域5的电极宽度方向端部产生的向白层内部收缩的力的合力。从而，不像以往法中形成的电极一样，在白层表面部产生向白层宽度方向中央部牵引白层的力。其结果，在电极宽度方向端部不发生卷起而向白层内部收缩，因此，电极宽度方向端部不突出，或即使发生也为少量。

显影时形成的凹部在粘结导电性粒子之间时，玻璃料逐渐被熔融的熔融玻璃填埋。凹部在最终的烧成结束时，大致被填埋，形成平坦的电极表面，或对电极表面赋予稍许的凹陷(图7(e)中的符号33)。

这样，部分地遮住构成电极图案的电极材料糊剂的表面，同时，照射光而曝光，进行显影，形成电极图案，由此能够在显影后，在电极表面设置凹部。其结果，能够分离控制电极宽度方向中央部和电极端部的烧成时的热收缩，能够形成抑制了白层的挠曲和电极宽度方向端部的突出的电极，并且，能够提供具有高绝缘耐压性能的PDP。

【实施例】

其次，对实施例进行说明。在各实施例及比较例中，在以下的共同条件下，分别制作各100张样品。共同条件如下所述。

1)将总线电极14b、15b的形状形成为如图7(c)所示的形状，将烧成后的高度H设为10μm，将黑层的厚度设为2μm。

2)白层的电极材料糊剂通过混合粒径200nm～1μm的银(Ag)的导电性粒子、玻璃料、感光性树脂及含有有机粘合剂的树脂成分、聚合引发剂、单体、及有机溶剂而调节。组成如下所述。

导电性粒子：100质量份

玻璃料：相对于导电性微粒100质量份为5质量份

感光性树脂及含有有机粘合剂的树脂成分：在将糊剂全部的质量设为100质量份时，相对于其为15质量份

聚合引发剂：在将树脂成分的质量设为100质量份时，相对于其为2质量份

单体：在将树脂成分的质量设为100质量份时，相对于其为35质量份

溶剂：在将糊剂全部的质量设为100质量份时，相对于其为10质量份。

3)黑层的电极材料糊剂通过混合粒径200nm～300nm(0.2μm～0.3μm)，且表面系数为4～16m²/g的范围内的四氧化三钴(Co₃O₄)黑色无机微粒、玻璃料、感光性树脂及含有有机粘合剂的树脂成分、聚合引发剂、单体、及有机溶剂而调节。

黑色无机微粒：100质量份

玻璃料：相对于黑色无机微粒100质量份为50质量份

感光性树脂及含有有机粘合剂的树脂成分：在将糊剂全部的质量设为100质量份时，相对于其为30质量份

4)作为玻璃料，使用以氧化铋(Bi₂O₃)、氧化硼(B₂O₃)、及氧化硅(SiO₂)为主成分的组成的玻璃料。

5)作为感光性树脂，使用具有乙烯性不饱和双键的含羧基感光性树脂(使乙烯性不饱和基作为侧基与具有不饱和羧酸和不饱和双键的化合物的共聚物加成而得到的具有羧基的感光性树脂)。

6)作为有机粘合剂，使用聚乙烯醇。

7)作为聚合引发剂，使用2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁烷-1-酮。

8)作为单体，使用季戊四醇三丙烯酸酯。

9)作为有机溶剂，使用二丙二醇单甲基醚。

10)遮光部件32形成为如图8所示的在与电极长边方向平行的方向上连续延伸的部件。在图8中，用符号31表示的要件是曝光掩模。

11)作为曝光光源，使用金属卤化物灯，曝光量为200mJ/cm²。

在实施例1及2中，样品通过在总线电极14b、15b的曝光时，分别改变遮光部件32和电极图案宽度方向端部的电极宽度方向上的间隔L和遮光部件32的电极宽度方向的宽度而制作。在比较例中，样品中没有配置遮光部件而制作。

(实施例1)

在实施例1中，将如图7(c)所示的电极的宽度W设为120μm。对于遮光部件的自电极图案宽度方向端部的距离L和遮光部件的电极宽度方向的宽度T，将L在0.5μm～18μm，将T在1μm～14μm的范围内变化而曝光，显影后，在600℃下烧成，形成总线电极14b、15b。对T及L的每一个组合，制作样品各100张。

其次，利用模涂法，以覆盖总线电极14b、15b的方式涂敷电介体材料糊剂，在100℃下干燥后，在600℃下烧成，形成50μm的厚度的电介体层。电介体糊剂是配合、混合以氧化铋(Bi₂O₃)、氧化硼(B₂O₃)、及氧化硅(SiO₂)为主成分的玻璃料、作为粘合剂成分的乙基纤维素、作为有机溶剂的丁基卡必醇乙酸酯的糊剂。各成分的配合比如下所述。

玻璃料：60质量份

乙基纤维素：10质量份

有机溶剂：30质量份

(实施例2)

将图7(c)所示电极的宽度W设为40μm，与实施例1相同地制作。

(比较例)

在不局部地遮住构成电极图案的电极材料糊剂的表面的情况下，照射光而曝光，与实施例1、2相同地制作。

在此，将图9所示的烧成后的电极宽度方向端部的突出的高度(在两端的高度不相同的情况下为较高的端部的高度)Te、与将电极的宽度Wf三等分而分为三个区域时的正中央的区域(宽度Wf/3)上的平均高度Tc之差定义为突出量Ec，测定通过实施例1～2及比较例制作的各样品的突出量。对于突出量而言，对L及T的每一个组合，任意选择10张，并在其中取最大值。实施例1的测定结果示于表1中，实施例2的测定结果示于表2中，比较例的测定结果示于表3中。

【表1】

【表2】

【表3】

在表1及表2中，“缺欠”表示在电介体层的形成中，在总线电极中发生的缺欠，“凹大”表示在烧成后的总线电极中，相当于遮光部件的凹部没有通过玻璃料的熔融而充分地被填埋，在电极表面残留大的凹部的情况。

根据表1～3，根据本发明的方法可知，通过由于曝光时的部分的遮光形成的凹部的效果，与以往的制造方法中制造的比较例相比，能够减小突出量。另外，尤其，得到电极图案宽度方向端部和遮光部件的宽度方向端部的间隔L为1μm≤L≤10μm，遮光部件的电极宽度方向的宽度T在2μm≤T≤10μm的范围，突出量在2μm以下的良好的效果。

其次，在实施例1～2及比较例的样品中，假设实际的照明，实施投入平均电流50mA的电流的照明试验，对此时发生的电火花不良的发生率进行比较，将结果示于表4中。

【表4】

在表4中，Ec＝3.5的样品相当于实施例1中的L＝16μm、T＝6μm的样品，Ec＝3.4的样品相当于实施例1中的L＝16μm、T＝10μm的样品，Ec＝2.5的样品相当于实施例1中的L＝12μm、T＝4μm的样品，Ec＝2.2的样品相当于实施例1中的L＝12μm、T＝10μm的样品，Ec＝1.9的样品相当于实施例1中的L＝10μm、T＝8μm的样品，Ec＝1.5的样品相当于实施例1中的L＝4μm、T＝6μm的样品，Ec＝1.1的样品相当于实施例1中的L＝1μm、T＝10μm的样品。

根据表4，根据本发明的方法可知，通过由于曝光时的部分的遮光形成的凹部的效果，能够减小突出量，其结果，能够减少电火花不良。另外，尤其，对以间隔L为1μm≤L≤10μm，宽度T在2μm≤T≤10μm的范围制作的突出量为2μm以下的样品，得到电火花不良率为1％以下的结果。这与电火花不良率1.7％的比较例相比，显示非常良好的效果。进而，图10中示出表示突出量和电火花不良率的关系的图表。

在实施例及比较例的各样品中，测定如图9所示的烧成后的在电极宽度方向上的从电极宽度方向端部的突出的最高的位置(两端中较高的一方)向内侧靠10μm的位置上的高度Ts。将该Ts和Tc之差设为Tg，测定实施例1～2及比较例中制作的各样品的Tg。对L及T的每一个组合，任意选择10张，其中最大值作为Tg。实施例1的测定结果示于表5中，实施例2的测定结果示于表6中。比较例的测定结果示于表7中。

【表5】

【表6】

【表7】

根据表5～7，根据本发明的方法可知，通过由于曝光时的部分的遮光形成的凹部的效果，与以往相比，能够减小Tg。能够减小Tg就可以使自电极宽度方向中央部至电极宽度方向端部的电极高度均一。对于突出部大、且从电极宽度方向中央部朝向电极宽度方向端部，电极高度增加变大的比较例样品，根据本发明的方法可知，通过由于曝光时的部分的遮光形成的凹部的效果，能够使更靠近电极宽度方向端部的部分的电极高度更接近电极宽度方向中央部的电极高度。通过这样形成电极宽度方向上的电极高度更恒定的电极，能够使放电面均一化，能够实现更稳定的放电特性。

另外可知，以电极图案宽度方向端部和遮光部件的宽度方向端部的间隔L为1μm≤L≤10μm，且遮光部件的电极宽度方向的宽度T满足2μm≤T≤10μm的方式制作的样品中，能够使Tg非常小(2μm以下)，形成电极宽度方向上的高度变动更小的电极。

本发明的PDP的制造方法能够将两层结构的电极一并曝光及显影，同时，通过由于曝光时的部分的遮光而形成于电极的凹部，能够减小电极宽度方向端部的突出量。由此，能够减小电火花不良率，因此，能够以高成品率制造具有高的绝缘耐用性能的PDP。从而，利用本发明的制造方法提供的PDP作为能够应对进一步的高精细化和低价格化的PDP有用。

Claims

1.一种等离子显示面板的制造方法，在玻璃基板上涂敷成为下层电极的第一材料而形成第一层，在所述第一层的表面涂敷成为上层电极的第二材料而形成第二层，

向形成电极的部分，遮住形成所述电极的部分的表面的一部分而照射光，由此进行曝光之后经显影而形成电极，其中，

遮住形成所述电极的部分的表面的一部分的遮光部件的与电极的宽度方向平行的方向的尺寸T为2μm≤T≤10μm，

自曝光后形成的电极的上层表面的宽度方向端部至所述遮光部件的宽度方向的端部的电极宽度方向距离L为1μm≤L≤10μm。

2.根据权利要求1所述的等离子显示面板的制造方法，其中，

所述遮光部件在与电极长边方向平行的方向上延伸。

3.根据权利要求1或2所述的等离子显示面板的制造方法，其中，

所述电极是包含于构成前面板的显示电极中的总线电极，所述总线电极具有位于下侧的黑层、和位于上侧的白层两层。

4.根据权利要求1～2中任意一项所述的等离子显示面板的制造方法，其中，

由如下所述的电极材料形成所述第一层或所述第二层，所述电极材料中，作为导电性微粒，含有至少一种由选自银(Ag)、铝(Al)、镍(Ni)、金(Au)、铂(Pt)、铬(Cr)、铜(Cu)、及钯(Pd)中的金属或它们的合金构成的粒子。

5.根据权利要求1～2中任意一项所述的等离子显示面板的制造方法，其中，

由作为黑色成分含有四氧化三钴(Co₃O₄)微粒的电极材料形成所述第一层或所述第二层。

6.根据权利要求1～2中任意一项所述的等离子显示面板的制造方法，其中，

由如下所述的电极材料形成所述第一层或所述第二层，所述电极材料中，作为黑色成分，含有选自铬(Cr)、钴(Co)、镍(Ni)、铁(Fe)、锰(Mn)、及钌(Ru)中的至少一种金属的氧化物。