CN101235529A - 一种铝电解电容器用低压化成箔的制造方法及其中处理槽 - Google Patents
一种铝电解电容器用低压化成箔的制造方法及其中处理槽 Download PDFInfo
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Abstract
本发明涉及一种铝电解电容器用低压化成箔的制造方法及其中处理槽。该制造方法包括如下步骤：将在最高化成电压下经过了化成处理的化成箔，置于中处理槽及其槽液中，进行中处理，然后进行后续化成处理；而所述中处理槽中设有相对化成箔的电极板，所述槽液包含磷酸和/或磷酸铵成分，所述中处理包括：将直流电源正极加在化成箔片上、而将直流电源负极加在电极板上，对所述化成箔进行加电处理；该加电处理的电压值低于最高化成电压。本发明的制造方法及其中处理槽具有如下的优点：钝化处理效率高，钝化处理的覆盖更加全面、彻底，可以同时获得较高的静电容量和优良的耐水合性。
Description
技术领域
本发明涉及一种电容器铝箔的制备方法及其设备，更具体地说，本发明涉及一种电解电容器用低压阳极箔的制造方法及其设备。
背景技术
电解电容器被广泛应用于电子等许多相关行业。现在，科技进步和工业的发展，对电解电容器在工频、低阻抗、长寿命等提出更高的要求。为了达到电解电容器更高的电气性能，在电容器中往往需要采用高水分含量的电解液，但是，在高温下，铝箔氧化膜尤其是阳极箔氧化膜会和水分发生水合作用，从而在阳极箔表面生成氢氧化铝，导致阳极箔耐电压下降、漏电流增大，甚至会在电容器中产生氢气，造成内压上升，出现外壳鼓壳乃至爆壳，影响到电解电容器乃至整个电器系统的电气性能、工作寿命，甚至使用安全。
为解决上述问题，目前业界已经广泛采取钝化措施来防止铝箔氧化膜和水分发生水合作用。一般而言，按照阴离子对铝与水反应的抑制、钝化程度不同，一般物质可分为四类即：无抑制作用类、中等抑制作用类、强抑制作用类和极强抑制作用类。其中，正磷酸铝不溶于水，铝箔氧化膜表面的正磷酸铝结构与低温石英晶型相同，是稳定的正四面体结构，所以磷酸根属于极强抑制作用类的钝化剂；磷酸铝膜抑制了水和铝的作用，表观上提高了化成箔的耐水合性能(其测试机理表现为测后水煮条件下和直接水煮条件下，外加电场在致密磷酸铝膜两面建立电压的时间即升压时间更短)，延长了化成箔的保存期限和电容器的工作寿命。
为此，目前业界通常是在化成工艺过程的中处理槽液中加入一定量的磷酸类钝化剂，如磷酸、亚磷酸、次亚磷酸及其盐类(磷酸铵、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵)等来进行化学中处理：即是在化成箔到达最高化成电压(俗称印加电压)后，将其置入磷酸中浸泡一定时间，在化学中处理过程，磷酸溶解了一部分的氧化铝膜，生成磷化膜。这些物质可使得铝氧化膜对水化敏感程度降低，从而起到钝化作用，提高了化成箔及其电容器产品的耐水合性。
例如，申请号为200610063522.1的中国专利申请文件公开了一种抑制电解电容器铝箔氧化膜和水反应的处理工艺及检验方法，其是在现有电解电容器铝箔生产工艺(腐蚀-清洗一化成)基础上，增加铝箔氧化膜表面钝化处理工艺，使之在铝箔氧化膜表面形成不溶于水之复合物；包括：铝箔经腐蚀和清洗处理工艺后，将铝箔在含磷离子的水溶液中浸渍，再经纯水清洗和热处理。其含磷离子的水溶液为磷酸水溶液或磷酸二氢铵水溶液。据称该技术处理后之铝箔氧化膜表面可产生钝化作用，与水的反应得到有效的抑制。尤其对于含水量较高工作电解液的电解电容器，进一步提高了铝电解电容器的使用寿命和安全性，但该申请文件未反映在化成前进行的钝化处理工艺对铝箔静电容量损失的影响。
现有化学中处理在提高产品性能的同时也有不可忽视的缺陷。首先，当化成电压达到较高值时，因低压化成箔的孔洞为非直孔的海绵状孔洞，其表面生成的氧化膜较厚，在化学中处理时磷酸根无法扩散进入到孔洞内部、从而造成钝化处理难以全面和彻底的覆盖；其次，由于化学中处理效率较低，而为了达到较好的效果往往提高浓度和温度，这样会损失一部分的静电容量，使静电容量和耐水合性不可兼得。
发明内容
针对现有技术的上述缺点，本发明的目的是要提供一种铝电解电容器用低压化成箔的制造方法及其中处理槽，该发明技术方案具有如下的优点：钝化处理效率高，钝化处理的覆盖更加全面、彻底，可以同时获得较高的静电容量和优良的耐水合性。
为此，本发明的技术解决方案之一是一种铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其包括如下步骤：将在最高化成电压下经过化成处理的化成箔，置于中处理槽及其槽液中，进行中处理，然后进行后续化成处理；而所述中处理槽中设有相对化成箔的电极板，所述槽液包含磷酸和/或磷酸铵成分，所述中处理包括：将直流电源正极加在化成箔片上，将直流电源负极加在电极板上，对所述化成箔进行加电处理；该加电处理的电压值低于最高化成电压。
本发明的低压化成箔的制造方法，在中处理槽液中采用加电处理，在外加电场的带动下，槽液中的磷酸根能够更快地与氧化铝膜反应生成磷化膜，因此，钝化处理效率高；在外加电场的加速带动下，槽液中的磷酸根更彻底、更深入地深入到铝箔孔洞内部进行反应，因此，钝化处理得更为彻底；由于采用电场对磷酸根运动进行加速、赋能，而不必提高槽液的浓度和温度，因而不会损失铝箔的静电容量，在较佳处理条件下，可以保持较高的静电容量和获得优良的耐水合性，使两者都能得到比较满意的结果。
本发明铝电解电容器用低压化成箔的制造方法还进一步包括如下的具体改进：
所述中处理过程，槽液的温度为40-90℃。
所述中处理过程，控制槽液的PH值1.0-5.0。
所述中处理过程，所述槽液包含磷酸、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、磷酸和氨水的混合液其中一种或一种以上。
所述中处理过程，所述控制槽液的磷酸根浓度在0.05-0.50mol/L范围。
所述中处理过程，控制直流电源的电压在5-20V范围。
所述中处理过程，中处理的持续时间控制在2-8分钟。
所述后续处理包括清洗、再化成、热处理、后处理步骤。
在所述中处理之前，所述制造方法还包括2-4级的化成步骤。
本发明的另一相关技术解决方案是一种用于上述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法的中处理槽，其包括槽体，而所述中处理槽中还设置有电极板。
显然，本发明的中处理槽，对于化成膜而言，可以使其钝化处理效率高，钝化处理的覆盖更加全面、彻底，可以同时获得较高的静电容量和优良的耐水合性等一系列优点。
以下结合具体实施例对本发明做进一步说明。
具体实施方式
中处理槽实施例：
一种用于铝电解电容器用低压化成箔的制造中处理槽，其包括绝缘的槽体，而所述中处理槽中还设置有电极板，所述中处理槽上部还设置有承载所述化成箔的加电辊。
方法实施例1：
将经过多级化成，最高印加电压为20V的箔片，置于上述中处理槽中，在70℃、PH值3.0±0.5、磷酸根浓度0.1mol/L的磷酸槽液中加电中处理：设定电压10V，设定电流密度50mA/cm2，处理时间3分钟，完成中处理，再进行清洗、补充化成、热处理、后处理，最后取得成品。同样的样品在0.2mol/L磷酸中按照通常使用的条件进行化学中处理，再进行后续的化成处理，清洗、再化成、热处理、后处理，后续化成处理的最高印加电压为20V。
方法实施例2：
配制中处理溶液：2L0.4mol/L的磷酸溶液中加入0.5mL的浓氨水(浓度15mol/L)，所得混合液即为中处理液，PH值2.0±0.5。将经过多级化成，最高印加电压为100V的箔片，置于上述中处理槽中，在80℃下进行加电中处理：设定电压18V，设定电流密度50mA/cm2，处理时间6分钟，再进行清洗、补充化成、热处理、后处理，最后取得成品。同样的样品在0.4mol/L的磷酸中按照通常使用的条件进行化学中处理，然后进行清洗、再化成、热处理、后处理。
方法实施例3：
配制中处理溶液：2L0.15mol/L的磷酸二氢铵溶液中加入5.0mL的浓磷酸(浓度14.5mol/L)，混合液pH值4.5±0.5即为中处理液，此时磷酸根浓度为0.18mol/L。将经过多级化成，最高印加电压为50V的箔片，置于上述中处理槽中，在60℃下进行加电中处理：设定电压10V，设定电流密度50mA/cm2，处理时间4.5分钟，完成中处理，再进行清洗、再化成、热处理、后处理，最后取得成品。同样的样品在0.2mol/L浓度的磷酸中按照通常使用的条件进行化学中处理，然后进行清洗、再化成、热处理、后处理。
方法实施例4：
将经过两级化成，最高印加电压为12V的箔片，置于含有0.05mol/L磷酸处理槽中，在45℃下进行加电中处理：设定电压8V，设定电流密度50mA/cm2，处理时间2分钟，完成中处理，再进行清洗、再化成、热处理、后处理，最后取得成品。同样的样品在0.2mol/L浓度的磷酸中按照通常使用的条件进行化学中处理，然后进行清洗、再化成、热处理、后处理。
分别对方法实施例1-4两种中处理的成品进行测试，测试项目包括静电容量、升压时间、耐水性(测后水煮升压时间和直接水煮升压时间)，测试方法按SJ/T 11140标准进行测试，其中直接水煮升压时间的测试方法与测后煮不同之处在于，在水煮前未进行氧化膜耐压测试，测试结果列于表1中。
表1
| 项目 | 处理方式 | 静电容量(μF/cm2) | 升压时间(S) | 测后煮电压升压时间(S) | 直煮电压升压时间(S) |
| 比较例1 | 化学中处理 | 74.2 | 65 | 28 | 75 |
| 实施例1 | 加电中处理 | 76.5 | 38 | 12 | 44 |
| 比较例2 | 化学中处理 | 8.25 | 110 | 40 | 130 |
| 实施例2 | 加电中处理 | 8.75 | 70 | 20 | 70 |
| 比较例3 | 化学中处理 | 24.8 | 75 | 35 | 90 |
| 实施例3 | 加电中处理 | 26.8 | 50 | 21 | 60 |
| 比较例4 | 化学中处理 | 85.4 | 55 | 23 | 68 |
| 实施例4 | 加电中处理 | 88.7 | 35 | 9 | 37 |
由表1可见，相对于传统的化学中处理的化成箔，本发明加电中处理制得的化成箔的电性能和耐水合性大幅提高，静电容量也有明显提高。
Claims (10)
1、一种铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其包括如下步骤：将在最高化成电压下经过化成处理的化成箔，置于中处理槽及其槽液中，进行中处理，然后进行后续化成处理；其特征在于：所述中处理槽中设有相对化成箔的电极板，所述槽液包含磷酸和/或磷酸铵成分，所述中处理包括：将直流电源正极加在化成箔片上，将直流电源负极加在电极板上，对所述化成箔进行加电处理；该加电处理的电压值低于最高化成电压。
2、如权利要求1所述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其特征在于：所述中处理过程，槽液的温度为40-90℃。
3、如权利要求1所述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其特征在于：所述中处理过程，所述槽液包括磷酸、磷酸二氢铵、磷酸氢二铵、磷酸和氨水的混合液其中一种或一种以上。
4、如权利要求1所述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其特征在于：所述中处理过程，槽液的PH值控制在1.0-5.0。
5、如权利要求4所述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其特征在于：所述中处理过程，控制槽液的磷酸根浓度0.05-0.5mol/L范围。
6、如权利要求1所述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其特征在于：所述中处理过程，控制直流电源的电压在5V-20V范围。
7、如权利要求1所述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其特征在于：所述中处理过程的时间为2-8分钟。
8、如权利要求1所述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其特征在于：所述后续化成处理包括清洗、再化成、热处理、后处理步骤。
9、如权利要求1所述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法，其特征在于：在所述中处理之前，所述制造方法还包括2-4级的化成步骤。
10、一种用于如权利要求1-9之一所述铝电解电容器用低压化成箔的制造方法的中处理槽，其包括槽体，其特征在于：所述中处理槽中还设置有电极板。
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