CN106245087A - 铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 38
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 22
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 22
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 19
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 title claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 50
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims abstract description 49
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 25
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 14
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 9
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229940095064 tartrate Drugs 0.000 claims abstract description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims abstract description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K Citrate Chemical compound [O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims abstract description 4
- 230000007850 degeneration Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims abstract description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 3
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L phthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=CC=C1C([O-])=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 3
- 239000011833 salt mixture Substances 0.000 claims abstract description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid group Chemical class C(CC(O)(C(=O)O)CC(=O)O)(=O)O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims description 11
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims description 11
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 claims description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 claims description 8
- 159000000013 aluminium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910000329 aluminium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 150000005837 radical ions Chemical class 0.000 claims 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 abstract description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 239000005030 aluminium foil Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003892 tartrate salts Chemical class 0.000 description 1
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/16—Pretreatment, e.g. desmutting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
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- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
本发明公开一种铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，将99.99%的电子铝箔，经过化学腐蚀或电化学腐蚀以后，先用沸水处理，然后再用含有邻苯二甲酸盐、酒石酸盐、硅酸盐、磷酸盐、柠檬酸盐或它们的混合盐的沸水溶液进行处理，产生含水氧化物，上述酸根离子与水合氧化膜作用，使氧化膜发生变性，结果使比容增大，并使化成所用电能减少；本发明的优点是：操作简单、节能环保、适用于包含150V以下的化成箔。
Description
技术领域：
本发明涉及一种铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法。
背景技术：
近年来，随着电子技术的不断发展，提高了电子设备的小型化、高稳定性，这对铝电解电容器的小型化、高稳定性等也提出了更高的要求。因此，对于在铝电解电容器中使用的电极箔而言，也需要不断地将单位面积的静电容量、抗折弯强度提高。
通常，铝电解电容器是由阳极箔、电解纸、阴极箔、电解纸相间转绕并浸透电解液而形成的电容元件。阳极箔是通过利用浸蚀处理高纯电子铝箔，使其有效面积得到充分扩大，然后通过阳极氧化，使其表面形成电介质氧化膜而制成。
为了提高铝电解电容器的静电容量或使其符合小型化的市场要求，尽可能地扩大阳极电极箔的有效表面积，提高阳极箔的比容（即每单位面积的静电容量）是最佳方法。因而，扩大阳极电极箔有效面积的浸蚀方法和化成处理技术的正在被各电极箔生产厂家大力开发。
通常，为了节省电能及提高阳极箔的比容，在将腐蚀箔进行化成前要预先进行水处理，以便在化成前使箔片表面已经具有一层水合氧化膜，但是，这一方法只适合于150V以上的化成。本发明提供一种适用于包含150V以下的化成箔的化成方法。
箔片在沸水中浸渍处理，处理时间必须控制，一般的，低压箔浸入时间在15秒以上，10分钟以内；高压箔必须至少2分钟以上，20分钟以内。这是因为：1、浸入时间过短，反应时间不足起不到作用；2、过长的反应时间会导致箔片的微细结构被过度消耗而使表面积减少；3、反应时间过长，会产生过厚的含水氧化膜，腐蚀箔隧道孔有被堵塞的倾向，从而使有效面积减少。因此，箔片在沸水中浸渍的时间长短，由腐蚀箔的微观构造而定。细微的腐蚀结构，浸渍时间短，而开口大内部又粗糙的结构，使用的时间较长。此外，对于低压腐蚀箔，浸入沸水后，产生水合氧化膜，再在含有磷酸盐、硅酸盐、柠檬酸盐、酒石酸盐等物质的沸水中进行第二步处理，第一次生成的氧化膜与上述离子相互作用，使膜发生变性，从而使后续化成时所耗用电能减少，并使箔比容增大。
发明内容：
本发明的目的是为了克服以上的不足，提供一种操作简单、节能环保、适用于包含150V以下的化成箔的前处理方法。
本发明的目的通过以下技术方案来实现：一种铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，将99.99%的电子铝箔，经过化学腐蚀或电化学腐蚀以后，先用沸水处理，然后再用含有邻苯二甲酸盐、酒石酸盐、硅酸盐、磷酸盐、柠檬酸盐或它们的混合盐的沸水溶液进行处理，产生含水氧化物，上述酸根离子与水合氧化膜作用，使氧化膜发生变性，结果使比容增大，并使化成所用电能减少。
优选的是，腐蚀箔在沸水中处理20s-20min，此为第一次沸水处理，处理时间依化成电压确定，低电压化成，处理时间短，化成电压增高，处理时间为30s-5min。
优选的是，腐蚀箔再在含有邻苯二甲酸、酒石酸、硅酸、磷酸、柠檬酸等酸根离子的沸水中处理，此为第二次沸水处理，第二次沸水处理1-15min。
优选的是，第二次沸水处理3-8min。
优选的是，第二次沸水处理液中添加磷酸的情况下，PH为5-10。
优选的是，第二次沸水处理液中添加磷酸的情况下，PH为5-8。
优选的是，第二次沸水处理液中添加硅酸盐的情况下，用磷酸、酒石酸或柠檬酸等调节PH至6-12。
优选的是，第二次沸水处理液中添加硅酸盐的情况下，用磷酸、酒石酸或柠檬酸等调节PH至7-9。
优选的是，第二次沸水处理液中添加酒石酸或柠檬酸的情况下，用氢氧化钠、氢氧化钾或铝盐等调节PH至5.5-12。
优选的是，第二次沸水处理液中添加酒石酸或柠檬酸的情况下，用氢氧化钠、氢氧化钾或铝盐等调节PH至6-9。
本发明与现有技术相比具有以下优点：操作简单、节能环保、适用于包含150V以下的化成箔。
具体实施方式：
为了加深对本发明的理解，下面将结合实施例对本发明作进一步详述，该实施例仅用于解释本发明，并不构成对本发明保护范围的限定。
实施例1：20s-30s沸水处理后，再用不同条件的磷酸盐处理，做100Vfe化成，1g/L磷酸，用氢氧化钠或氢氧化钾中和。
| 处理方法 | 相对未处理箔电容量的增量（%） |
| 只用沸水处理30s | 1.9% |
| 沸水处理+PH5磷酸盐处理 | 5.3% |
| 沸水处理+PH7磷酸盐处理 | 3.4% |
| 沸水处理+PH9磷酸盐处理 | 0.5% |
| 沸水处理+PH11磷酸盐处理 | -2.3% |
实施例2：20s-30s沸水处理后，再用10g/L的硅酸钠溶液处理，做65Vfe化成。
| 处理方法 | 相对未处理箔电容量的增量（%） |
| 只用沸水处理30s | 1.0% |
| 只用硅酸盐处理5min | 0.0% |
| 只用硅酸盐处理8min | 1.5% |
| 沸水处理+硅酸盐处理8min | 6.2% |
实施例3：、20s-30s沸水处理后，再用5g/L的酒石酸溶液处理，做100Vfe化成。
| 处理方法 | 相对未处理箔电容量的增量（%） |
| 只用沸水处理30s | 1.9% |
| 沸水处理+PH5酒石酸盐处理 | 3.5% |
| 沸水处理+PH6酒石酸盐处理 | 5.6% |
| 沸水处理+PH7酒石酸盐处理 | 2.7% |
| 沸水处理+PH8酒石酸盐处理 | 2.3% |
实施例4：
实施例5：
实施例6：
Claims (10)
1.一种铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：将99.99%的电子铝箔，经过化学腐蚀或电化学腐蚀以后，先用沸水处理，然后再用含有邻苯二甲酸盐、酒石酸盐、硅酸盐、磷酸盐、柠檬酸盐或它们的混合盐的沸水溶液进行处理，产生含水氧化物，上述酸根离子与水合氧化膜作用，使氧化膜发生变性，结果使比容增大，并使化成所用电能减少。
2.根据权利要求1所述的铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：腐蚀箔在沸水中处理20s-20min，此为第一次沸水处理，处理时间依化成电压确定，低电压化成，处理时间短，化成电压增高，处理时间为30s-5min。
3.根据权利要求2所述的铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：腐蚀箔再在含有邻苯二甲酸、酒石酸、硅酸、磷酸、柠檬酸等酸根离子的沸水中处理，此为第二次沸水处理，第二次沸水处理1-15min。
4.根据权利要求3所述的铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：第二次沸水处理3-8min。
5.根据权利要求4所述的铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：第二次沸水处理液中添加磷酸的情况下，PH为5-10。
6.根据权利要求5所述的铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：第二次沸水处理液中添加磷酸的情况下，PH为5-8。
7.根据权利要求3所述的铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：第二次沸水处理液中添加硅酸盐的情况下，用磷酸、酒石酸或柠檬酸等调节PH至6-12。
8.根据权利要求7所述的铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：第二次沸水处理液中添加硅酸盐的情况下，用磷酸、酒石酸或柠檬酸等调节PH至7-9。
9.根据权利要求3所述的铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：第二次沸水处理液中添加酒石酸或柠檬酸的情况下，用氢氧化钠、氢氧化钾或铝盐等调节PH至5.5-12。
10.根据权利要求9所述的铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法，其特征在于：第二次沸水处理液中添加酒石酸或柠檬酸的情况下，用氢氧化钠、氢氧化钾或铝盐等调节PH至6-9。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201610821484.5A CN106245087A (zh) | 2016-09-14 | 2016-09-14 | 铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201610821484.5A CN106245087A (zh) | 2016-09-14 | 2016-09-14 | 铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN106245087A true CN106245087A (zh) | 2016-12-21 |
Family
ID=57599835
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201610821484.5A Pending CN106245087A (zh) | 2016-09-14 | 2016-09-14 | 铝电解电容器用低压化成箔的前处理方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN106245087A (zh) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20161221 |